液処理装置、液処理方法及び記憶媒体
【課題】横方向に一列に配置された基板保持部を備えた複数の液処理部と、これら液処理部に対して共用化された処理液ノズルと、を備えた液処理装置において、前記処理液ノズルからの基板への処理液の落下を抑え、歩留りの低下を防ぐこと。
【解決手段】横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を抑えることができる。
【解決手段】横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を抑えることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に処理液を供給して液処理を行う液処理装置、液処理方法及び記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、半導体ウエハ（以下、ウエハという）の表面にレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。このような処理は、一般にレジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置に露光装置を接続したシステムを用いて行われる。
【０００３】
この塗布、現像装置にはウエハに処理液を供給して液処理を行う液処理モジュールが設けられている。この液処理モジュールとしては例えば現像液を供給して現像を行う現像モジュール（現像装置）がある。現像モジュールは、ウエハを保持する基板保持部と、排液手段及び排気手段を備え、その基板保持部に保持されたウエハを囲むように設けられたカップ体とを含む現像処理部を備えている。また、その他に現像モジュールは前記ウエハに現像液を供給するための現像液ノズルと、その現像液ノズルを待機させるための待機部と、現像液供給後に洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、を備えている。
【０００４】
スループットの向上を図るために、この現像モジュールにおいて前記現像処理部を横方向に複数配設し、その現像処理部の配列方向の延長線上に前記待機部を設け、そして各カップに共通の現像液ノズルが各現像処理部の上方領域と待機部との間を移動して現像液を供給する構成とする場合がある。この場合、一の現像処理部のウエハに現像液の供給が行われている間に他の現像処理部ではウエハに洗浄液が供給されたり、基板保持部を回転させてスピン乾燥が行われたりする。
【０００５】
ところでウエハに現像液供給を行った後、現像液ノズルの下端に現像液の液滴が付着し、垂れ下がる場合がある。そして現像装置を上記のように構成した場合、現像液ノズルが現像処理部間を移動する間にこの液滴が乾燥を終えたウエハ上に落下して、パーティクルとなり現像欠陥となってしまうおそれがある。また、その液滴が長時間ノズルに垂れ下がっていると、液滴が雰囲気中のパーティクルを吸収し、そしてそのような液滴が現像液ノズルから吐出される現像液に混じってウエハに供給されてしまう、いわゆるノズル汚染へと繋がる場合がある。現在ではレジストパターンの微細化が進み、僅かなパーティクルのウエハへの付着が歩留りの低下を招くおそれがあることから、このように現像液ノズルから垂れ下がる液滴を除去する要求が高くなっている。
【０００６】
この液滴の除去を行うためには、現像液ノズルに吸引機構を設けて現像液ノズルの吐出口から吸引を行い、液滴を吸い込むことや、ウエハ以外の場所に向けて現像液を吐出し、液滴を押し流すいわゆるダミーディスペンスと呼ばれる処理を行うことが考えられる。しかし前記吸引機構を設けることはコスト高になるし、ダミーディスペンスを行うことは処理タクトの延長によるスループットの低下や現像処理のコストの上昇を招くおそれがある。
【０００７】
また、ウエハへの現像液の供給方法としては、回転するウエハに現像液ノズルから現像液を吐出させながら、その現像液ノズルをウエハの直径方向に移動させてその表面に液膜を形成する場合がある。この場合、ウエハＷに吐出された現像液がウエハＷ上で撥ねてパーティクルとなることを抑えるために、現像液ノズル１１は図１８に示すようにその吐出口１２が斜めに傾いた状態で移動手段に取り付けられ、その移動手段によって傾いた状態のまま、ウエハＷ上及び現像処理部間を移動させることが検討されている。
【０００８】
しかし、このように現像液ノズル１１を傾けた場合には図中の鎖線間で示す吐出口１２の投影領域１４から下方にずれた位置に液滴１３が形成されるため、上記のように吸引機構を設けたり、ダミーディスペンスを行ったりしても十分に液滴１３が除去できないおそれがある。
【０００９】
現像装置について説明してきたが、現像液の代わりにレジストなどの各種処理液を塗布する液処理装置についても、使用する処理液が現像液と異なる他は、既述の現像装置と同様の装置構成とされる場合がある。そして、その液処理装置についてもこのように処理液を供給するノズルから液滴が垂れ下がり、垂れ下がる間にその液滴に含まれる溶剤が揮発し、液滴中の成分の濃度が変化することが考えられる。そして、そのように成分の濃度が変化した液滴が液処理前、液処理後のウエハ上に落下すればその液滴がパーティクルとなってウエハを汚染したり、ウエハの面内における処理の均一性が低下したりすることで、やはり歩留りが低下するおそれがある。
【００１０】
特許文献１には一つのカップ体の側方位置に液滴除去用の針を設けることが記載されている。しかし上記のように複数のカップ体を設けて処理を行うことについては記載されておらず、上記の問題を解決するには不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平１０−２６１６０９（段落００２０など）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、横方向に一列に配置された基板保持部を備えた複数の液処理部と、これら液処理部に対して共用化された処理液ノズルと、を備えた液処理装置において、前記処理液ノズルからの基板への処理液の落下を抑え、歩留りの低下を防ぐことができる液処理装置、液処理方法及び記憶媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の液処理装置は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部と、
これら複数の液処理部に対して共用化され、基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記液処理部の列の延長線上に設けられ、処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動させるための移動手段と、
前記カップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に設けられ、前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１４】
前記処理液ノズルは例えば斜め下方に前記処理液を吐出する吐出口を備えており、また前記液取り部は例えば更に前記待機部に設けられている。そして、前記液取り部は、処理液ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給部を備えていてもよい。前記液取り部は毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、その表面に多数の凹部を有していてもよい。前記処理液は例えば現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものである。前記凹部には孔や溝が含まれる。
【００１５】
本発明の液処理方法は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部に対して共用化された処理液ノズルから、前記基板に処理液を供給する工程と、
前記液処理部の列の延長線上に設けられた、処理液ノズルを待機させるための待機部と、前記液処理部の各々の上方領域との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動手段により移動させる工程と、
前記カップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に設けられた液取り部を前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触させる工程と、
前記液取り部に接触した液滴を当該液取り部により処理液ノズルから除去する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【００１６】
前記基板に処理液を供給する工程は、例えば処理液ノズルの吐出口から前記処理液を斜め下方に供給する工程であり、また前記処理液は例えば現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものである。
【００１７】
基板に対する液処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上記の液処理方法を実施するためのものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。その結果として、その落下した液滴がパーティクルとなったり、基板の処理の面内均一性を低下させたりすることを防ぐことができるため、歩留りの低下を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態に係る現像装置の概略図である。
【図２】前記現像装置の斜視図である。
【図３】前記現像装置の平面図である。
【図４】前記現像装置に設けられた現像液ノズル及び待機部の斜視図である。
【図５】前記現像液ノズルと液取り部との位置関係を示す説明図及び前記現像液ノズルの下方側斜視図である。
【図６】前記現像液ノズルにより現像液がウエハに供給される様子を示した説明図である。
【図７】現像液ノズルの移動経路において現像液ノズルの液滴が除去される様子を示した説明図である。
【図８】待機部において現像液ノズルの液滴が除去される様子を示した説明図である。
【図９】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１０】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１１】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１２】前記現像装置の他の現像工程を示した作用図である。
【図１３】液取り部の他の構成を示した説明図である。
【図１４】液取り部のさらに他の構成を示した説明図である。
【図１５】前記現像装置を備えた塗布、現像装置の平面図である。
【図１６】前記塗布、現像装置の斜視図である。
【図１７】前記塗布、現像装置の縦断平面図である。
【図１８】現像液ノズルから液滴が垂れ下がった様子を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の液処理装置の一例である現像装置２について、その概略構成図である図１を参照しながら説明する。現像装置２は３つの液処理部である現像処理部２１ａ、２１ｂ、２１ｃと、複合ノズル部４ａ〜４ｃと、現像液ノズル６とを備えている。
【００２１】
現像処理部２１ａ〜２１ｃは横方向に一列に配列されている。各現像処理部２１ａ〜２１ｃは各々同様に構成されており、ここでは現像処理部２１ａを例に挙げて説明する。現像処理部２１ａは夫々ウエハＷの裏面中央部を吸着して水平に保持する基板保持部であるスピンチャック２２ａを備え、スピンチャック２２ａは回転軸２３ａを介して回転駆動機構２４ａと接続されている。スピンチャック２２ａは、回転駆動機構２４ａを介してウエハＷを保持した状態で鉛直軸回りに回転自在に構成されており、その回転軸上にウエハＷの中心が位置するように設定されている。回転駆動機構２４ａは後述の制御部１００からの制御信号を受けてスピンチャック２２ａの回転速度を制御する。
【００２２】
スピンチャック２２ａの周囲にはスピンチャック２２ａ上のウエハＷを囲むようにして上方側に開口部３０ａを備えたカップ体３１ａが設けられており、カップ体３１ａの側周面上端側は内側に傾斜した傾斜部３２ａを形成している。カップ体３１ａの底部側には、図１に示すように例えば凹部状をなす液受け部３３ａが設けられている。液受け部３３ａは、図示しない隔壁によりウエハＷの周縁下方側に全周に亘って外側領域と内側領域とに区画されている。外側領域の底部には貯留した現像液などのドレインを排出するための図示しない廃液口が設けられ、内側領域の底部には処理雰囲気を排気するための排気口３４ａ，３４ａが設けられている。
【００２３】
排気口３４ａ，３４ａには排気管３５ａの一端が接続されており、排気管３５ａの他端は、排気ダンパ３６ａを介して現像処理部２１ｂ及び２１ｃの排気管３５ｂ、３５ｃと合流し、例えば現像装置２が設置された工場の排気路に接続されている。排気ダンパ３６ａは、制御部１００からの制御信号を受けてカップ体３１ａ内の排気量を制御する。
【００２４】
図２、図３は、図１の現像装置２を実際に構成したものを夫々模式的に示した斜視図、上面図である。図中２５ａは、昇降自在に構成された昇降ピンであり、カップ体３１ａ内に３本設けられている。現像装置２にウエハＷを搬送する図示しない基板搬送手段の動作に応じて昇降ピン２５ａが昇降し、その基板搬送手段とスピンチャック２２ａとの間でウエハＷが受け渡される。
【００２５】
現像処理部２１ｂの各部について現像処理部２１ａの各部に対応する部分については、現像処理部２１ａの説明で用いた数字と同じ数字を用い、且つａの代わりにｂを付して各図中に示している。また、現像処理部２１ｃの各部について現像処理部２１ａの各部に対応する部分については、現像処理部２１ａの説明で用いた数字と同じ数字を用い、且つａの代わりにｃを付して各図中に示している。
【００２６】
続いて複合ノズル部４ａ，４ｂ，４ｃについて説明する。これら複合ノズル部４ａ，４ｂ，４ｃは夫々現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃのウエハＷに純水及びＮ２（窒素）ガスを供給するように構成されており、各複合ノズル部４ａ〜４ｃは同様に構成されている。ここでは代表して複合ノズル部４ａを例に挙げて説明する。複合ノズル部４ａは夫々純水ノズル４１ａ及びＮ２ガスノズル４２ａを備えており、これら各ノズル４１ａ，４２ａはウエハＷの直径方向に互いに連接され、各ノズル４１ａ，４２ａは例えば夫々鉛直下方に開口した円形の細孔である吐出口を夫々備えている。
【００２７】
図１に示すように、純水ノズル４１ａは供給路４３を介して純水が貯留された純水供給源５Ｂに、Ｎ２ガスノズル４２ａは供給路４４を介してＮ２ガスが貯留されたＮ２ガス供給源５Ｃに夫々接続されている。純水はウエハＷに現像液を供給する前にその現像液の濡れ性を高めるために供給されるプリウエット処理を行うための表面処理液であり、また現像後、不要になった現像液を洗い流すためのリンス液でもある。Ｎ２ガスはウエハＷを乾燥させるために当該ウエハＷに吹き付けられる乾燥用ガスであり、この例ではスピンチャック２２ａ〜２２ｃの回転による液の振り切りの他に、このＮ２ガスによる供給により洗浄後のウエハＷが乾燥される。
【００２８】
供給路４３ａ，４４ａには流量制御部４５ａ，４６ａが夫々介設されている。各流量制御部４５ａ及び４６ａはバルブやマスフローコントローラなどを含み、制御部１００からの制御信号に基づいて各ノズル４１ａ，４２ａからウエハＷへの各純水及びガスの給断を制御する。
【００２９】
図２及び図３に示すように複合ノズル部４ａには当該複合ノズル部４ａを支持するアーム体４７ａの一端が接続されており、アーム体４７ａの他端は移動手段である駆動機構４８ａに接続されている。駆動機構４８ａは、現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向に沿って形成された基台３７上を、その配列方向に伸長したガイド４９ａに沿って移動し、またアーム体４７ａを介して複合ノズル部４ａを昇降させる。この駆動機構４８ａの移動及び駆動機構４８ａによる昇降によって、純水ノズル４１ａ、Ｎ２ガスノズル４２ａの吐出口がスピンチャック２２ａに載置されたウエハＷの中心部上に移動し、純水、Ｎ２ガスを夫々ウエハＷの中心に供給することができる。駆動機構４８ａの動作は制御部１００からの制御信号を受けて制御される。
【００３０】
現像処理部の図示と同様に、複合ノズル部４ｂ，４ｃにおける複合ノズル部４ａと同様に構成された各部については、複合ノズル部の説明に用いた符号と同じ数字の符号を用い、且つ符号中のａをｂまたはｃに夫々変更して示している。
【００３１】
各現像処理部２１ａ〜２１ｃの側方には上側が開口したカップ状のノズル待機部５１ａ〜５１ｃが夫々設けられ、その待機部５１ａ〜５１ｃの内部は複合ノズル部４ａ〜４ｃの待機領域５２ａ〜５２ｃとして構成されている。そして、複合ノズル部４ａ〜４ｃはウエハＷに処理を行わないときには、これら待機領域５２ａ〜５２ｃに夫々収納される。
【００３２】
続いて、処理液ノズルである現像液ノズル６について図４、図５（ａ）（ｂ）も参照しながら説明する。現像液ノズル６はその下端面に当該現像液ノズル６の移動方向に沿って扁平なスリット状に開口した吐出口６１を備えており、その吐出口６１の長さ方向はウエハＷの直径及び現像液ノズル６の移動方向に並行している。また、図５（ａ）に示すように吐出口６１は斜めに向けて形成されている。
【００３３】
図１に示すように現像液ノズル６には現像液供給路６２の一端が接続されている。現像液供給路６２の他端はバルブやマスフローコントローラなどを含んだ流量制御部６３を介して現像液供給源５Ａに接続されており、制御部１００からの制御信号に従って、流量制御部６３が現像液ノズル６からウエハＷへの現像液の給断を制御する。
【００３４】
図２及び図４に示すように現像液ノズル６はアーム体６４の一端に接続されて支持されており、アーム体６４の他端は基台３７上に設けられた駆動機構６５に接続されている。駆動機構６５は、基台３７に現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向に伸長するように設けられたガイド６０に沿って横方向に移動できるように構成されている。また、駆動機構６５はアーム体６４を介して現像液ノズル６を昇降させることができる。駆動機構６５の動作は制御部１００からの制御信号を受けて制御される。
【００３５】
現像液ノズル６は、その駆動機構６５により各現像処理部２１ａ〜２１ｃの上方領域と後述の待機部６６との間を移動する。また、図６に示すように、現像液ノズル６は各現像処理部２１ａ〜２１ｃに搬入されたウエハＷの回転方向に沿って斜めに帯状に現像液を供給しながら、矢印で示すように当該ウエハＷの周縁部から中心部に向かって移動して、ウエハＷの表面全体に現像液Ｌの液膜を形成することができる。
【００３６】
現像処理部２１ａのカップ体３１ａと現像処理部２１ｂのカップ体３１ｂとの間において、待機部５２ｂの上方位置には液取り部７Ａが設けられている。また、現像処理部２１ｂのカップ体３１ｂと現像処理部２１ｃのカップ体３１ｃとの間において、待機部５２ｃの上方位置には液取り部７Ｂが設けられている。これら液取り部７Ａ，７Ｂは現像液ノズル６の横方向への移動路の下方側に設けられている。
【００３７】
液取り部７Ａ，７Ｂは互いに同様に構成されており、図５（ａ）及び図７（ａ）を用いて説明する。これらの図に示すように液取り部７Ａ、７Ｂは、水平に設けられた基部７１と、基部７１から斜め方向に伸びた板状の液受け部７２とを備えており、その液受け部７２の先端は現像液ノズル６の横方向への移動方向と並行し、且つそのように横方向に移動する現像液ノズル６の下端と近接するように形成されている。これらの液取り部７Ａ，７Ｂは、現像液ノズル６から現像液の液滴を効率よく除去するために、例えば高い親水性を有する多孔質のセラミックスにより構成されており、毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去する。
【００３８】
図７（ａ）〜図７（ｄ）は、現像液ノズル６が横方向に移動するときの様子を示しており、現像液ノズル６が移動するときに液取り部７Ａ及び７Ｂは現像液ノズル６に近接し、現像液ノズル６の下端に垂れ下がって形成された液滴Ｄに接触し、この液滴Ｄをその内部に取り込んで除去する。ところで現像液ノズル６の下端に垂れ下がって形成される現像液の液滴Ｄとしては、繰り返し現像処理を行う過程でその下端への現像液の蓄積によって次第に大きくなり、所定の大きさになったときに重力によって現像液ノズル６から落下するが、この落下前に除去できればよいので、図５（ａ）中の現像液ノズル６の下端と液取り部７Ａとの距離ｈ１はこの液滴Ｄが落下するときの大きさに応じて任意に設定され、例えば１．５ｍｍである。
【００３９】
基台３７において、現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向の延長線上には上側が開口したカップ状に形成された待機部６６が設けられており、その待機部６６の内部は現像液ノズル６の待機領域６７として構成されている。現像液ノズル６は、ウエハＷに処理を行わないときにはこの待機領域６７に収納され、現像処理を行うときに前記駆動機構６５を介して当該待機領域６７から各現像処理部２１ａ〜２１ｃへ移動する。
【００４０】
待機領域６７には液取り部７Ｃが設けられている。図４に示すように液取り部７Ｃは、液取り部７Ａ，７Ｂと同様に構成されており、現像液ノズル６が待機部６６に収納されたときに液受け部７２の先端は現像液ノズル６の吐出口６２に近接し、また吐出口６２の長さ方向と、この先端とが並行するように設けられている。図８（ａ）〜（ｄ）は、現像液ノズル６が待機部６に収納され、現像液ノズル６から垂れた現像液の液滴Ｄを液取り部７Ｃが吸収して、除去する様子を示している。図８（ｄ）中に示した待機部６に収納されたときの現像液ノズル６の下端と液取り部７Ｃとの距離ｈ２はこの液滴Ｄが落下するときの大きさに応じて任意に設定され、例えば１．５ｍｍである。
【００４１】
続いて制御部１００について説明する。制御部１００は例えばコンピュータからなり、不図示のプログラム格納部を有している。このプログラム格納部には、後述の作用で説明する現像処理が行われるように命令が組まれた例えばソフトウエアからなるプログラムが格納され、このプログラムが制御部１００に読み出されることで制御部１００はウエハの回転速度、各ノズルの移動、ウエハへの現像液、純水及びＮ２ガスの供給などを制御する。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。
【００４２】
続いて、この現像装置２に順次ウエハＷが搬入されたときに、行われる処理の一例について図９〜図１２を参照しながら説明する。ウエハＷは例えば不図示の基板搬送手段により現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃの順に搬送され、また各ウエハＷの表面にはレジストが塗布されており、そのレジストが所定の露光処理を受けているものとする。また便宜上、現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃに搬入されるウエハＷを夫々便宜上、ウエハＷ１，Ｗ２，Ｗ３と記載する。
【００４３】
また、既述のように繰り返し現像処理を行う度に現像液ノズル６の下端に現像液が溜まり、当該ノズル６に付着した液滴Ｄが大きくなる。そして、液滴Ｄが所定のサイズになったときに液取り部７Ａ〜７Ｃにより除去できるように現像液ノズル６と各液取り部との距離を調整すればよいが、下記の説明では現像液の液滴Ｄが除去される様子を明確に示すために説明の便宜上、この液滴ＤがウエハＷに処理を行う度に現像液ノズル６に垂れ下がり、処理を行う度にその液滴Ｄが除去されるように液取り部７Ａ〜７Ｃの位置が調整されているものとする。
【００４４】
図９（ａ）に示すように処理開始前において現像液ノズル６、複合ノズル部４ａ〜４ｃは、夫々待機部６６，５１ａ〜５１ｃに収納されている。各カップ体３１ａ〜３１ｃ内の排気量が所定の排気量になり、ウエハＷ１が現像処理部２１ａのスピンチャック２２ａに受け渡され、所定の回転数で回転すると共に複合ノズル部４ａがウエハＷ１上に移動し、純水ノズル４１ａがウエハＷ１の中心部に純水Ｆを吐出する。吐出された純水Ｆは、遠心力により周縁部へと展伸されるいわゆるスピンコーティングによってウエハＷ１を覆い、既述のプリウエットが行われる（図９（ｂ））。
【００４５】
純水Ｆの供給が停止し、複合ノズル部４ａがウエハＷ１の周縁部側へと移動すると共に現像液ノズル６が待機部６６からウエハＷ１の周縁部上へと移動する。そして、現像液ノズル６は現像液Ｌを供給しながらウエハＷ１の中心部上へと移動し（図９（ｃ））、ウエハＷ１の表面全体が現像液Ｌにより覆われる。その後、現像液ノズル６からの現像液Ｌの吐出が停止し、現像液ノズル６が待機部６６に戻る（図９（ｄ））。
【００４６】
現像液ノズル６が待機部６６内の待機領域６７に収納され、図８（ａ）〜（ｄ）で示したように現像液ノズル６の下端が液取り部７Ｃに近接し、その下端から垂れた液滴Ｄが液取り部７Ｃに接触して、当該液取り部７Ｃに吸収されて除去される。また、複合ノズル部４ａがウエハＷ１の中心部上に移動し、ウエハＷ１の中心部上に純水Ｆが供給されてウエハＷ１表面の現像液Ｌが洗い流される。その一方で、基板処理部２１ｂのスピンチャック２２ｂにウエハＷ２が受け渡される（図９（ｅ））。
【００４７】
然る後、ウエハＷ２が所定の回転数で回転し、複合ノズル部４ｂが待機部５１ｂからウエハＷ２上に移動し、純水ノズル４１ｂがウエハＷ２の中心部上に純水Ｆを吐出して、ウエハＷ２の表面が純水Ｆにより覆われると共に、現像液ノズル６がウエハＷ２の周縁部上へ移動する。その一方で純水ノズル４１ａからウエハＷ１への純水Ｆの供給が停止する（図１０（ａ））。
【００４８】
Ｎ２ガスノズル４２ａがウエハＷ１の中心部上に移動し、Ｎ２ガスがウエハＷ１に吐出されて、回転による純水の振り切りとこのガス供給との相乗作用でウエハＷ１が乾燥される。その一方で、純水ノズル４１ｂからウエハＷ２への純水Ｆの吐出が停止し、複合ノズル部４ｂがウエハＷ２の周縁部上へ移動し、現像液ノズル６が現像液Ｌを吐出しながらウエハＷ２の周縁部上から中心部上へ移動して（図１０（ｂ））、ウエハＷ２の表面全体が現像液Ｌに被覆される。
【００４９】
その後、前記ウエハＷ１へのＮ２ガスの吐出が停止すると共にウエハＷ１の回転が停止し、複合ノズル部４ａが待機部５１ａに戻る一方で、ウエハＷ２への現像液Ｌの供給が停止する。続いて、現像液ノズル６は図中矢印で示すように液取り部７Ａの上方を通過し、図７（ａ）〜（ｄ）で説明したように現像液ノズル６の下端に垂れた液滴Ｄが液取り部７Ａに接触し、吸収されて除去され（図１０（ｃ）、（ｄ））、現像液ノズル６はウエハＷ１の上方を通過して待機部６６に戻る（図１０（ｅ））。また、複合ノズル部４ｂがウエハＷ２の中心部上に移動し、純水ＦをウエハＷ２に供給して、ウエハＷ２表面の現像液Ｌが洗い流される。その一方で、現像処理部２１ｃのスピンチャック２２ｃにウエハＷ３が受け渡される（図１１（ａ））。
【００５０】
続いてウエハＷ３が所定の回転数で回転し、複合ノズル部４ｃが待機部５１ｃからウエハＷ３上に移動し、純水ノズル４２ｃがウエハＷ３の中心部上に純水Ｆを吐出して、スピンコーティングによりウエハＷ３の表面が純水Ｆにより覆われると共に現像液ノズル６がウエハＷ３の周縁部上へ移動する。また、その一方で純水ノズル４１ｂからの純水Ｆの供給が停止し、Ｎ2ガスノズル４２ｂがウエハＷ２の中心部上に移動する（図１１（ｂ））。
【００５１】
そして、Ｎ２ガスがウエハＷ２の中心部上に吐出されてウエハＷ２が乾燥される一方で、純水ノズル４１ｃからの純水Ｆの吐出が停止し、複合ノズル部４ｃがウエハＷ３の周縁部上へ移動する。そして、現像液ノズル６が現像液Ｌを吐出しながらウエハＷ３の周縁部上から中心部上へ移動し（図１１（ｃ））、ウエハＷ３の表面全体が現像液Ｌに被覆される。
【００５２】
その後、前記ウエハＷ２へのＮ２ガスの吐出が停止すると共にウエハＷ２の回転が停止して、複合ノズル部４ｂが待機部５１ｂに戻る一方で、ウエハＷ３への現像液Ｌの供給が停止する。そして、現像液ノズル６は図中矢印で示すように液取り部７Ｂの上方を通過し、図７で説明したように現像液ノズル６の下端に垂れた液滴Ｄが液取り部７Ｂに接触して吸収され、除去される（図１１（ｄ）、（ｅ））。その後、現像液ノズル６は現像処理部２１ｂ，２１ａの上方を通過して待機部６６に戻る（図１２（ａ））。また、複合ノズル部４ｃがウエハＷ３の中心部上に移動し、ウエハＷ３の中心部上に純水Ｆが供給されてウエハＷ３表面の現像液Ｌが洗い流される（図１２（ｂ））。
【００５３】
その後、純水ノズル４１ｃからの純水Ｆの供給が停止し、Ｎ２ガスノズル４２ｃがウエハＷ３の中心部上に移動して、Ｎ２ガスノズル４２ｃからＮ２ガスがウエハＷ３の中心部上に吐出されてウエハＷ３が乾燥される（図１２（ｃ））。その後Ｎ２ガスの供給が停止すると共にウエハＷ３の回転が停止し、複合ノズル部４ｃが待機部５１ｃに戻り（図１２（ｄ））、基板搬送手段によりウエハＷ３が現像処理部３１ｃから搬出される。
【００５４】
この現像装置２によれば、横方向に一列に配列された現像処理部２１ａ〜２１ｃのカップ体３１ａ〜３１ｃ間において、駆動機構６５により移動する現像液ノズル６の移動路の下方側に、その現像液ノズル６の下端に近接し、当該現像液ノズル６から垂れた現像液の液滴Ｄに接触して、その液滴Ｄを現像液ノズル６から除去するための液取り部７Ａ，７Ｂが、その現像液ノズル６の移動軌道上に設けられている。従って現像液ノズル６がウエハＷに処理を行うために待機部６６と各現像処理部２１ａ〜２１ｃとを移動し、現像液が除去されて乾燥したウエハＷ上を通過するにあたって、その乾燥したウエハＷ上への現像液ノズル６からの前記液滴Ｄの落下を防ぐことができる。従ってその液滴がパーティクルとなってウエハＷを汚染することが防がれるので、歩留りの低下を抑えることができる。また、現像液ノズル６の移動中にその液滴Ｄが除去されるので、液滴Ｄを除去するための時間を必要としない。その結果としてスループットの低下を抑えることができる。
【００５５】
また、この現像装置２は待機部６６においても液取り部７Ｃを備えており、ノズル６が横方向に移動するときだけでなく待機部６６に収納されたときにも液滴Ｄの除去が行われるので、より確実に既述の現像液ノズル６から乾燥したウエハＷへの液滴Ｄの落下を防ぐことができる。
【００５６】
上記の例では３枚のウエハＷが現像処理される様子を説明しているが、３枚以上のウエハＷを処理する場合には、例えば続けて現像処理部２１ａ、２１ｂ、２１ｃの順に繰り返しウエハＷが搬送されて、上記の例と同様に現像処理が行われる。
【００５７】
また、上記の例ではウエハＷに現像液を供給する毎に現像液ノズル６が待機部６６に戻っているがこのように処理の度に待機部６６に戻らずに、一の現像処理部で現像液を供給したら直接他の現像処理部に移動して現像液を供給し、何枚かウエハＷに現像液を供給した後に待機部６６に戻ってもよい。また、現像処理部２１ａ〜２１ｃへのウエハＷの搬送順も上記の通りでなくてもよく、例えば現像処理部２１ａ，２１ｂにこの順で繰り返しウエハＷが搬送され、所定の枚数これら現像処理部２１ａ及び２１ｂにウエハＷが搬送されたら現像処理部２１ｃにウエハＷが搬送されるようにし、この搬送順に現像処理が行われるようにしてもよい。これらのように現像処理を行う場合も各現像処理部２１ａ〜２１ｃ間を移動するときに液滴が除去されるので上記の実施形態と同様の効果が得られる。
【００５８】
液取り部としては例えば図１３（ａ）にその外観を、図１３（ｂ）にその側面を夫々示すように構成してもよい。液滴の高い除去効果を得るためにこの液取り部８１は櫛形に形成されており、その表面には現像液ノズル６の移動方向に沿って多数の溝（凹部）８２が形成されている。そして、既述の実施形態と同様に現像液ノズル６の下端が近接して、液滴Ｄがその液取り部８１の表面に付着すると、図１３（ｂ）に矢印で示すように液滴Ｄが毛細管現象によりその溝８２内に進入する。また、溝８２内に現像液を多く貯留させることにより、当該液取り部８１の交換の頻度が高くなることを防ぐために、この液取り部８１において図１３（ｃ）に示すように溝８２の下方側が広がるように構成されていてもよい。
【００５９】
ところで、この例では現像液ノズル６の吐出口６１は斜めに開口する代わりに、垂直方向に開口していてもよいが、背景技術の欄で説明したように、斜め方向に開口した現像液ノズル６を用いた場合の方がダミーディスペンスや液の吸引などを行っても、現像液ノズルからの液滴の落下を防ぎにくいので、既述の液取り部を設けることが特に有効になる。
【００６０】
上記の各液取り部を構成する材料としてはセラミックスに限られないが、高い液滴Ｄの除去効果を得るために親水性の材料を用いることが好ましい。また、その表面状態を荒くすることにより、高い現像液の除去効果を得ることができるので好ましい。また、各液取り部を弾性材を用いて構成してもよく、この場合は現像液ノズル６が各液取り部と接触しても、これら液取り部及び現像液ノズルの破損を防ぐことができるので、現像液ノズルと液取り部との間隔の調整に手間をかけることを抑えることができる。
【００６１】
また、ウエハＷへの液滴Ｄの落下を防ぐことができればよいので、液取り部７Ａ，７Ｂはカップ体３１ａ〜３１ｃの開口部３１ａ〜３１ｃ間に設けられていればよく、例えばカップ体３１ａ〜３１ｃの上側の傾斜部３２ａ〜３２ｃ上に設けられていてもよい。
【００６２】
また、上記の例では現像処理部２１ａ〜２１ｃが直線方向に配列され、その列の延長線上に待機部６６が設けられているが、現像処理部２１ａ〜２１ｃ及び待機部６６が周方向に配列されており、現像液ノズル６がその配列方向に移動し、その現像液ノズル６の移動路の下方側に液取り部７Ａ,７Ｂが設けられてもよい。現像処理部及び液取り部の数としては既述の実施形態に限られるものではない。
【００６３】
また、液取り部としては図１４（ａ）、（ｂ）に示す構成としてもよい。この液取り部９は基台９１上に側面視三角形状の液受け部９２を備えている。また、基台９１上には斜め方向に純水などの洗浄液を吐出する洗浄液ノズル９３が設けられている。図中９４は基台９１に設けられた排液口であり、不図示の排液路に接続されている。この液取り部９は例えば液受け部７Ａ〜７Ｃの代わりに各カップ体３１ａ〜３１ｃ間及び待機領域６７に設けられる。この例では現像処理を行うための現像液ノズル９０は斜め方向に円形に開口した吐出口９７を備えており、基部９６を介して既述のアーム体６４に接続され、現像液ノズル６と同様に昇降及び横方向への移動を行うことができる。
【００６４】
例えば、カップ体３１ａ〜３１ｃ間において設けられた液受け部９２に現像液ノズル９０が横方向から移動して近づくと、現像液の液滴Ｄが液受け部９２に接触し、液受け部９２を伝わって基台９１へと流れ落ちる。さらに洗浄液ノズル９３から現像液ノズル９０に向けて洗浄液が吐出されて、その洗浄液により液滴Ｄが洗い流される。そして洗い流された液はノズル９０の下端から液受け部９２へ伝わり、その基台９１へと流れ落ち、その流れ落ちた排液は、排液口９４から除去される。この液取り部９は、液取り部７Ｃの代わりに待機領域６７に設けてもよい。また、この例において洗浄液ノズル９３を設けず、液受け部９２に接触した液滴を当該液受け部９２の下方に伝わらせることだけで現像液ノズル６からの液滴の除去を行ってもよい。
【００６５】
洗浄液を吐出するノズル９３としては、現像液ノズル９０についての高い洗浄効果を得て液滴Ｄの除去効果を高めるために、例えば洗浄液の液体と気体とを混合して洗浄液の霧を発生させてその霧を噴霧するいわゆる２流体ノズルを用いてもよい。また、そのように除去効果を高める目的のために例えば１ＭＨｚ程度の超音波をかけた洗浄液を吐出する、いわゆるメガソニックノズルを用いてもよい。なお、現像液ノズル９０の代わりに既述の現像液ノズル６に対してこの液取り部９を用いてもよい。
【００６６】
本発明の現像装置への適用例について説明してきたが、例えばレジスト塗布装置などの他の液処理装置へも本発明を適用することができる。この場合、処理液ノズルからの処理液が、当該処理液による処理前及び処理後の基板への落下することを防ぎ、パーティクルが発生したり、基板の処理の面内均一性が低下したりすることを防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を防ぐことができる。
【００６７】
以下、上記の現像装置２が組み込まれた塗布、現像装置１０１について説明する。図１５は塗布、現像装置１０１に露光装置Ｃ４が接続されたレジストパターン形成システムの平面図を示しており、図１６は同システムの斜視図である。また、図１７は塗布、現像装置１０１の縦断面図である。この塗布、現像装置１０１にはキャリアブロックＣ１が設けられており、その載置台１１１上に載置された密閉型のキャリア１１０から受け渡しアーム１１２がウエハＷを取り出して処理ブロックＣ２に受け渡し、処理ブロックＣ２から受け渡しアーム１１２が処理済みのウエハＷを受け取ってキャリア１１０に戻すように構成されている。キャリア１１０は多数枚のウエハＷを含み、各ウエハＷは順次処理ブロックＣ２へと搬送される。
【００６８】
前記処理ブロックＣ２は、図１６に示すようにこの例では現像処理を行うための第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、レジスト膜の下層に形成される反射防止膜の形成処理を行うための第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、レジスト膜の塗布を行うための第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、レジスト膜の上層側に形成される反射防止膜の形成を行うための第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４を、下から順に積層して構成されている。
【００６９】
処理ブロックＣ２の各層は平面視同様に構成されている。第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３を例に挙げて説明すると、ＣＯＴ層Ｂ３は塗布膜としてレジスト膜を形成するためのレジスト膜形成モジュールと、このレジスト膜形成モジュールにて行われる処理の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットＵ１〜Ｕ４と、前記レジスト膜形成モジュールと加熱・冷却系の処理モジュール群との間に設けられ、これらの間でウエハＷの受け渡しを行う搬送アームＡ３と、により構成されている。
【００７０】
前記棚ユニットＵ１〜Ｕ４は搬送アームＡ３が移動する搬送領域Ｒ１に沿って配列され、夫々上記の加熱モジュール、冷却モジュールが積層されることにより構成される。加熱モジュールは載置されたウエハを加熱するための加熱板を備えており、冷却モジュールは載置されたウエハを冷却するための冷却板を備えている。
【００７１】
第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４については、前記レジスト膜形成モジュールに相当する反射防止膜形成モジュール、保護膜形成モジュールが夫々設けられ、これらモジュールにおいてレジストの代わりに処理液として反射防止膜形成用の薬液、保護膜形成用の薬液が夫々ウエハＷに供給されることを除けばＣＯＴ層Ｂ３と同様の構成である。
【００７２】
第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１については一つのＤＥＶ層Ｂ１内にレジスト膜形成モジュールに対応する現像モジュール１１３が２段に積層されており、各現像モジュール１１３は夫々既述の現像装置２に相当し、共通の筐体内に３基の現像処理部や既述の各ノズルを含んでいる。また、ＤＥＶ層Ｂ１にはこの現像モジュール１１３の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットＵ１〜Ｕ４が設けられている。そしてＤＥＶ層Ｂ１内には、これら２段の現像モジュールと、前記加熱・冷却系の処理モジュールとにウエハＷを搬送するための搬送アームＡ１が設けられている。つまり２段の現像モジュールに対して搬送アームＡ１が共通化されている構成となっている。この搬送アームＡ１が上記の基板搬送手段に相当する。
【００７３】
更に処理ブロックＣ２には、図１５及び図１７に示すように棚ユニットＵ５が設けられ、キャリアブロックＣ１からのウエハＷは前記棚ユニットＵ５の一つの受け渡しユニット、例えば第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２の対応する受け渡しユニットＣＰＬ２に順次搬送される。第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２内の搬送アームＡ２は、この受け渡しユニットＣＰＬ２からウエハＷを受け取って各ユニット（反射防止膜形成モジュール及び加熱・冷却系の処理ユニット群）に搬送し、これらユニットにてウエハＷには反射防止膜が形成される。
【００７４】
その後、ウエハＷは棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ２、受け渡しアームＤ１、棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＣＰＬ３に搬送され、そこで例えば２３℃に温度調整された後、搬送アームＡ３を介して第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３に搬入され、レジスト膜形成モジュールにてレジスト膜が形成される。更にウエハＷは、搬送アームＡ３→棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ３→受け渡しアームＤ１を経て棚ユニットＵ５における受渡しユニットＢＦ３に受け渡される。なおレジスト膜が形成されたウエハＷは、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４にて更に保護膜が形成される場合もある。この場合は、ウエハＷは受け渡しユニットＣＰＬ４を介して搬送アームＡ４に受け渡され、保護膜の形成された後搬送アームＡ４により受け渡しユニットＴＲＳ４に受け渡される。
【００７５】
一方ＤＥＶ層Ｂ１内の上部には、棚ユニットＵ５に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１１から棚ユニットＵ６に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１２にウエハＷを直接搬送するための専用の搬送手段であるシャトルアーム１１５が設けられている。レジスト膜や更に保護膜の形成されたウエハＷは、受け渡しアームＤ１を介して受け渡しユニットＢＦ３、ＴＲＳ４から受け取り受け渡しユニットＣＰＬ１１に受け渡され、ここからシャトルアーム１１５により棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＣＰＬ１２に直接搬送され、インターフェイスブロックＣ３に取り込まれることになる。なお図１１中のＣＰＬが付されている受け渡しユニットは温調用の冷却ユニットを兼ねており、ＢＦが付されている受け渡しユニットは複数枚のウエハＷを載置可能なバッファユニットを兼ねている。
【００７６】
次いで、ウエハＷはインターフェイスアーム１１６により露光装置Ｃ４に搬送され、ここで所定の露光処理が行われた後、棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＴＲＳ６に載置されて処理ブロックＣ２に戻される。戻されたウエハＷは、第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１にて現像処理が行われ、搬送アームＡ１により棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＴＲＳ１に受け渡される。その後、受け渡しアーム１１２を介してキャリア１１０に戻される。
【００７７】
（評価試験１）
現像液ノズル６において、その下端からどの程度下方まで垂れ下がった液滴Ｄが落下するのかを確認した。結果として液滴の大きさが１ｍｍ、２ｍｍ、３ｍｍの場合においては液滴の落下は起きなかったが、液滴の大きさが４ｍｍになると現像液ノズル６の先端から落下することが確認された。そして、この結果を踏まえて、現像液ノズル６が待機部６６に収納されたとき当該現像液ノズル６の下端と液取り部７Ｃとの距離ｈ２を２ｍｍに設定し、続いて現像液ノズル６を液取り部７Ｃに対して上昇させ、現像液ノズルの下端から２ｍｍ強下側へ垂れ下がった液滴を形成した。そして、現像液ノズル６を下降させ、待機部６６に収納した後、現像液ノズル６を上昇させて、液滴の有無を観察した。この現像液ノズル６を上昇させての液滴の形成と現像液ノズル６の待機部６への収納とを５０回繰り返し行った。
【００７８】
評価試験１の結果、現像液ノズル６が下降する毎に液滴は現像液ノズル６の下端から除去された。この試験から上記の実施形態のように現像装置２に液取り部７Ｃを設けることで液滴の除去が行うことができることが示された。また、現像液ノズル６が接近する方向は異なるが、この実験から液取り部７Ａ，７Ｂにおいても有効に現像液ノズル６から液滴Ｄの除去が行うことができることが予想される。
【００７９】
（評価試験２）
液取り部７Ｃを絵の具で染めて、評価試験１と同様の試験を行い、現像液ノズル６が絵の具で汚染されるかどうかを調べた。結果として現像液ノズル６への絵の具の付着はなかった。従って、現像液ノズル６から液取り部７Ｃに付着した、液滴は再度現像液ノズル６に付着せずに、液取り部７Ｃにより除去されていることが分かる。この試験からも上記の実施形態のように現像装置に液取り部７Ｃを設けることが有効であることが分かり、また液取り部７Ａ，７Ｂを設けることが有効であることが予想される。
【符号の説明】
【００８０】
Ｄ 液滴
Ｌ 現像液
Ｗ ウエハ
２ 現像装置
２１ａ〜２１ｃ 現像処理部
２２ａ〜２２ｃ スピンチャック
３０ａ〜３０ｃ 開口部
３１ａ〜３１ｃ カップ体
４ａ〜４ｃ 複合ノズル部
４１ａ〜４１ｃ 純水ノズル
４２ａ〜４２ｃ Ｎ２ガスノズル
６ 現像液ノズル
６１ 吐出口
６５ 駆動機構
６６ 待機部
７Ａ〜７Ｃ 液取り部
１００ 制御部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に処理液を供給して液処理を行う液処理装置、液処理方法及び記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、半導体ウエハ（以下、ウエハという）の表面にレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。このような処理は、一般にレジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置に露光装置を接続したシステムを用いて行われる。
【０００３】
この塗布、現像装置にはウエハに処理液を供給して液処理を行う液処理モジュールが設けられている。この液処理モジュールとしては例えば現像液を供給して現像を行う現像モジュール（現像装置）がある。現像モジュールは、ウエハを保持する基板保持部と、排液手段及び排気手段を備え、その基板保持部に保持されたウエハを囲むように設けられたカップ体とを含む現像処理部を備えている。また、その他に現像モジュールは前記ウエハに現像液を供給するための現像液ノズルと、その現像液ノズルを待機させるための待機部と、現像液供給後に洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、を備えている。
【０００４】
スループットの向上を図るために、この現像モジュールにおいて前記現像処理部を横方向に複数配設し、その現像処理部の配列方向の延長線上に前記待機部を設け、そして各カップに共通の現像液ノズルが各現像処理部の上方領域と待機部との間を移動して現像液を供給する構成とする場合がある。この場合、一の現像処理部のウエハに現像液の供給が行われている間に他の現像処理部ではウエハに洗浄液が供給されたり、基板保持部を回転させてスピン乾燥が行われたりする。
【０００５】
ところでウエハに現像液供給を行った後、現像液ノズルの下端に現像液の液滴が付着し、垂れ下がる場合がある。そして現像装置を上記のように構成した場合、現像液ノズルが現像処理部間を移動する間にこの液滴が乾燥を終えたウエハ上に落下して、パーティクルとなり現像欠陥となってしまうおそれがある。また、その液滴が長時間ノズルに垂れ下がっていると、液滴が雰囲気中のパーティクルを吸収し、そしてそのような液滴が現像液ノズルから吐出される現像液に混じってウエハに供給されてしまう、いわゆるノズル汚染へと繋がる場合がある。現在ではレジストパターンの微細化が進み、僅かなパーティクルのウエハへの付着が歩留りの低下を招くおそれがあることから、このように現像液ノズルから垂れ下がる液滴を除去する要求が高くなっている。
【０００６】
この液滴の除去を行うためには、現像液ノズルに吸引機構を設けて現像液ノズルの吐出口から吸引を行い、液滴を吸い込むことや、ウエハ以外の場所に向けて現像液を吐出し、液滴を押し流すいわゆるダミーディスペンスと呼ばれる処理を行うことが考えられる。しかし前記吸引機構を設けることはコスト高になるし、ダミーディスペンスを行うことは処理タクトの延長によるスループットの低下や現像処理のコストの上昇を招くおそれがある。
【０００７】
また、ウエハへの現像液の供給方法としては、回転するウエハに現像液ノズルから現像液を吐出させながら、その現像液ノズルをウエハの直径方向に移動させてその表面に液膜を形成する場合がある。この場合、ウエハＷに吐出された現像液がウエハＷ上で撥ねてパーティクルとなることを抑えるために、現像液ノズル１１は図１８に示すようにその吐出口１２が斜めに傾いた状態で移動手段に取り付けられ、その移動手段によって傾いた状態のまま、ウエハＷ上及び現像処理部間を移動させることが検討されている。
【０００８】
しかし、このように現像液ノズル１１を傾けた場合には図中の鎖線間で示す吐出口１２の投影領域１４から下方にずれた位置に液滴１３が形成されるため、上記のように吸引機構を設けたり、ダミーディスペンスを行ったりしても十分に液滴１３が除去できないおそれがある。
【０００９】
現像装置について説明してきたが、現像液の代わりにレジストなどの各種処理液を塗布する液処理装置についても、使用する処理液が現像液と異なる他は、既述の現像装置と同様の装置構成とされる場合がある。そして、その液処理装置についてもこのように処理液を供給するノズルから液滴が垂れ下がり、垂れ下がる間にその液滴に含まれる溶剤が揮発し、液滴中の成分の濃度が変化することが考えられる。そして、そのように成分の濃度が変化した液滴が液処理前、液処理後のウエハ上に落下すればその液滴がパーティクルとなってウエハを汚染したり、ウエハの面内における処理の均一性が低下したりすることで、やはり歩留りが低下するおそれがある。
【００１０】
特許文献１には一つのカップ体の側方位置に液滴除去用の針を設けることが記載されている。しかし上記のように複数のカップ体を設けて処理を行うことについては記載されておらず、上記の問題を解決するには不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平１０−２６１６０９（段落００２０など）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、横方向に一列に配置された基板保持部を備えた複数の液処理部と、これら液処理部に対して共用化された処理液ノズルと、を備えた液処理装置において、前記処理液ノズルからの基板への処理液の落下を抑え、歩留りの低下を防ぐことができる液処理装置、液処理方法及び記憶媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の液処理装置は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部と、
これら複数の液処理部に対して共用化され、基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記液処理部の列の延長線上に設けられ、処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動させるための移動手段と、
前記カップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に設けられ、前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１４】
前記処理液ノズルは例えば斜め下方に前記処理液を吐出する吐出口を備えており、また前記液取り部は例えば更に前記待機部に設けられている。そして、前記液取り部は、処理液ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給部を備えていてもよい。前記液取り部は毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、その表面に多数の凹部を有していてもよい。前記処理液は例えば現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものである。前記凹部には孔や溝が含まれる。
【００１５】
本発明の液処理方法は、上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部に対して共用化された処理液ノズルから、前記基板に処理液を供給する工程と、
前記液処理部の列の延長線上に設けられた、処理液ノズルを待機させるための待機部と、前記液処理部の各々の上方領域との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動手段により移動させる工程と、
前記カップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に設けられた液取り部を前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触させる工程と、
前記液取り部に接触した液滴を当該液取り部により処理液ノズルから除去する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【００１６】
前記基板に処理液を供給する工程は、例えば処理液ノズルの吐出口から前記処理液を斜め下方に供給する工程であり、また前記処理液は例えば現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものである。
【００１７】
基板に対する液処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上記の液処理方法を実施するためのものであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。その結果として、その落下した液滴がパーティクルとなったり、基板の処理の面内均一性を低下させたりすることを防ぐことができるため、歩留りの低下を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態に係る現像装置の概略図である。
【図２】前記現像装置の斜視図である。
【図３】前記現像装置の平面図である。
【図４】前記現像装置に設けられた現像液ノズル及び待機部の斜視図である。
【図５】前記現像液ノズルと液取り部との位置関係を示す説明図及び前記現像液ノズルの下方側斜視図である。
【図６】前記現像液ノズルにより現像液がウエハに供給される様子を示した説明図である。
【図７】現像液ノズルの移動経路において現像液ノズルの液滴が除去される様子を示した説明図である。
【図８】待機部において現像液ノズルの液滴が除去される様子を示した説明図である。
【図９】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１０】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１１】前記現像装置による現像工程を示した作用図である。
【図１２】前記現像装置の他の現像工程を示した作用図である。
【図１３】液取り部の他の構成を示した説明図である。
【図１４】液取り部のさらに他の構成を示した説明図である。
【図１５】前記現像装置を備えた塗布、現像装置の平面図である。
【図１６】前記塗布、現像装置の斜視図である。
【図１７】前記塗布、現像装置の縦断平面図である。
【図１８】現像液ノズルから液滴が垂れ下がった様子を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の液処理装置の一例である現像装置２について、その概略構成図である図１を参照しながら説明する。現像装置２は３つの液処理部である現像処理部２１ａ、２１ｂ、２１ｃと、複合ノズル部４ａ〜４ｃと、現像液ノズル６とを備えている。
【００２１】
現像処理部２１ａ〜２１ｃは横方向に一列に配列されている。各現像処理部２１ａ〜２１ｃは各々同様に構成されており、ここでは現像処理部２１ａを例に挙げて説明する。現像処理部２１ａは夫々ウエハＷの裏面中央部を吸着して水平に保持する基板保持部であるスピンチャック２２ａを備え、スピンチャック２２ａは回転軸２３ａを介して回転駆動機構２４ａと接続されている。スピンチャック２２ａは、回転駆動機構２４ａを介してウエハＷを保持した状態で鉛直軸回りに回転自在に構成されており、その回転軸上にウエハＷの中心が位置するように設定されている。回転駆動機構２４ａは後述の制御部１００からの制御信号を受けてスピンチャック２２ａの回転速度を制御する。
【００２２】
スピンチャック２２ａの周囲にはスピンチャック２２ａ上のウエハＷを囲むようにして上方側に開口部３０ａを備えたカップ体３１ａが設けられており、カップ体３１ａの側周面上端側は内側に傾斜した傾斜部３２ａを形成している。カップ体３１ａの底部側には、図１に示すように例えば凹部状をなす液受け部３３ａが設けられている。液受け部３３ａは、図示しない隔壁によりウエハＷの周縁下方側に全周に亘って外側領域と内側領域とに区画されている。外側領域の底部には貯留した現像液などのドレインを排出するための図示しない廃液口が設けられ、内側領域の底部には処理雰囲気を排気するための排気口３４ａ，３４ａが設けられている。
【００２３】
排気口３４ａ，３４ａには排気管３５ａの一端が接続されており、排気管３５ａの他端は、排気ダンパ３６ａを介して現像処理部２１ｂ及び２１ｃの排気管３５ｂ、３５ｃと合流し、例えば現像装置２が設置された工場の排気路に接続されている。排気ダンパ３６ａは、制御部１００からの制御信号を受けてカップ体３１ａ内の排気量を制御する。
【００２４】
図２、図３は、図１の現像装置２を実際に構成したものを夫々模式的に示した斜視図、上面図である。図中２５ａは、昇降自在に構成された昇降ピンであり、カップ体３１ａ内に３本設けられている。現像装置２にウエハＷを搬送する図示しない基板搬送手段の動作に応じて昇降ピン２５ａが昇降し、その基板搬送手段とスピンチャック２２ａとの間でウエハＷが受け渡される。
【００２５】
現像処理部２１ｂの各部について現像処理部２１ａの各部に対応する部分については、現像処理部２１ａの説明で用いた数字と同じ数字を用い、且つａの代わりにｂを付して各図中に示している。また、現像処理部２１ｃの各部について現像処理部２１ａの各部に対応する部分については、現像処理部２１ａの説明で用いた数字と同じ数字を用い、且つａの代わりにｃを付して各図中に示している。
【００２６】
続いて複合ノズル部４ａ，４ｂ，４ｃについて説明する。これら複合ノズル部４ａ，４ｂ，４ｃは夫々現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃのウエハＷに純水及びＮ２（窒素）ガスを供給するように構成されており、各複合ノズル部４ａ〜４ｃは同様に構成されている。ここでは代表して複合ノズル部４ａを例に挙げて説明する。複合ノズル部４ａは夫々純水ノズル４１ａ及びＮ２ガスノズル４２ａを備えており、これら各ノズル４１ａ，４２ａはウエハＷの直径方向に互いに連接され、各ノズル４１ａ，４２ａは例えば夫々鉛直下方に開口した円形の細孔である吐出口を夫々備えている。
【００２７】
図１に示すように、純水ノズル４１ａは供給路４３を介して純水が貯留された純水供給源５Ｂに、Ｎ２ガスノズル４２ａは供給路４４を介してＮ２ガスが貯留されたＮ２ガス供給源５Ｃに夫々接続されている。純水はウエハＷに現像液を供給する前にその現像液の濡れ性を高めるために供給されるプリウエット処理を行うための表面処理液であり、また現像後、不要になった現像液を洗い流すためのリンス液でもある。Ｎ２ガスはウエハＷを乾燥させるために当該ウエハＷに吹き付けられる乾燥用ガスであり、この例ではスピンチャック２２ａ〜２２ｃの回転による液の振り切りの他に、このＮ２ガスによる供給により洗浄後のウエハＷが乾燥される。
【００２８】
供給路４３ａ，４４ａには流量制御部４５ａ，４６ａが夫々介設されている。各流量制御部４５ａ及び４６ａはバルブやマスフローコントローラなどを含み、制御部１００からの制御信号に基づいて各ノズル４１ａ，４２ａからウエハＷへの各純水及びガスの給断を制御する。
【００２９】
図２及び図３に示すように複合ノズル部４ａには当該複合ノズル部４ａを支持するアーム体４７ａの一端が接続されており、アーム体４７ａの他端は移動手段である駆動機構４８ａに接続されている。駆動機構４８ａは、現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向に沿って形成された基台３７上を、その配列方向に伸長したガイド４９ａに沿って移動し、またアーム体４７ａを介して複合ノズル部４ａを昇降させる。この駆動機構４８ａの移動及び駆動機構４８ａによる昇降によって、純水ノズル４１ａ、Ｎ２ガスノズル４２ａの吐出口がスピンチャック２２ａに載置されたウエハＷの中心部上に移動し、純水、Ｎ２ガスを夫々ウエハＷの中心に供給することができる。駆動機構４８ａの動作は制御部１００からの制御信号を受けて制御される。
【００３０】
現像処理部の図示と同様に、複合ノズル部４ｂ，４ｃにおける複合ノズル部４ａと同様に構成された各部については、複合ノズル部の説明に用いた符号と同じ数字の符号を用い、且つ符号中のａをｂまたはｃに夫々変更して示している。
【００３１】
各現像処理部２１ａ〜２１ｃの側方には上側が開口したカップ状のノズル待機部５１ａ〜５１ｃが夫々設けられ、その待機部５１ａ〜５１ｃの内部は複合ノズル部４ａ〜４ｃの待機領域５２ａ〜５２ｃとして構成されている。そして、複合ノズル部４ａ〜４ｃはウエハＷに処理を行わないときには、これら待機領域５２ａ〜５２ｃに夫々収納される。
【００３２】
続いて、処理液ノズルである現像液ノズル６について図４、図５（ａ）（ｂ）も参照しながら説明する。現像液ノズル６はその下端面に当該現像液ノズル６の移動方向に沿って扁平なスリット状に開口した吐出口６１を備えており、その吐出口６１の長さ方向はウエハＷの直径及び現像液ノズル６の移動方向に並行している。また、図５（ａ）に示すように吐出口６１は斜めに向けて形成されている。
【００３３】
図１に示すように現像液ノズル６には現像液供給路６２の一端が接続されている。現像液供給路６２の他端はバルブやマスフローコントローラなどを含んだ流量制御部６３を介して現像液供給源５Ａに接続されており、制御部１００からの制御信号に従って、流量制御部６３が現像液ノズル６からウエハＷへの現像液の給断を制御する。
【００３４】
図２及び図４に示すように現像液ノズル６はアーム体６４の一端に接続されて支持されており、アーム体６４の他端は基台３７上に設けられた駆動機構６５に接続されている。駆動機構６５は、基台３７に現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向に伸長するように設けられたガイド６０に沿って横方向に移動できるように構成されている。また、駆動機構６５はアーム体６４を介して現像液ノズル６を昇降させることができる。駆動機構６５の動作は制御部１００からの制御信号を受けて制御される。
【００３５】
現像液ノズル６は、その駆動機構６５により各現像処理部２１ａ〜２１ｃの上方領域と後述の待機部６６との間を移動する。また、図６に示すように、現像液ノズル６は各現像処理部２１ａ〜２１ｃに搬入されたウエハＷの回転方向に沿って斜めに帯状に現像液を供給しながら、矢印で示すように当該ウエハＷの周縁部から中心部に向かって移動して、ウエハＷの表面全体に現像液Ｌの液膜を形成することができる。
【００３６】
現像処理部２１ａのカップ体３１ａと現像処理部２１ｂのカップ体３１ｂとの間において、待機部５２ｂの上方位置には液取り部７Ａが設けられている。また、現像処理部２１ｂのカップ体３１ｂと現像処理部２１ｃのカップ体３１ｃとの間において、待機部５２ｃの上方位置には液取り部７Ｂが設けられている。これら液取り部７Ａ，７Ｂは現像液ノズル６の横方向への移動路の下方側に設けられている。
【００３７】
液取り部７Ａ，７Ｂは互いに同様に構成されており、図５（ａ）及び図７（ａ）を用いて説明する。これらの図に示すように液取り部７Ａ、７Ｂは、水平に設けられた基部７１と、基部７１から斜め方向に伸びた板状の液受け部７２とを備えており、その液受け部７２の先端は現像液ノズル６の横方向への移動方向と並行し、且つそのように横方向に移動する現像液ノズル６の下端と近接するように形成されている。これらの液取り部７Ａ，７Ｂは、現像液ノズル６から現像液の液滴を効率よく除去するために、例えば高い親水性を有する多孔質のセラミックスにより構成されており、毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去する。
【００３８】
図７（ａ）〜図７（ｄ）は、現像液ノズル６が横方向に移動するときの様子を示しており、現像液ノズル６が移動するときに液取り部７Ａ及び７Ｂは現像液ノズル６に近接し、現像液ノズル６の下端に垂れ下がって形成された液滴Ｄに接触し、この液滴Ｄをその内部に取り込んで除去する。ところで現像液ノズル６の下端に垂れ下がって形成される現像液の液滴Ｄとしては、繰り返し現像処理を行う過程でその下端への現像液の蓄積によって次第に大きくなり、所定の大きさになったときに重力によって現像液ノズル６から落下するが、この落下前に除去できればよいので、図５（ａ）中の現像液ノズル６の下端と液取り部７Ａとの距離ｈ１はこの液滴Ｄが落下するときの大きさに応じて任意に設定され、例えば１．５ｍｍである。
【００３９】
基台３７において、現像処理部２１ａ〜２１ｃの配列方向の延長線上には上側が開口したカップ状に形成された待機部６６が設けられており、その待機部６６の内部は現像液ノズル６の待機領域６７として構成されている。現像液ノズル６は、ウエハＷに処理を行わないときにはこの待機領域６７に収納され、現像処理を行うときに前記駆動機構６５を介して当該待機領域６７から各現像処理部２１ａ〜２１ｃへ移動する。
【００４０】
待機領域６７には液取り部７Ｃが設けられている。図４に示すように液取り部７Ｃは、液取り部７Ａ，７Ｂと同様に構成されており、現像液ノズル６が待機部６６に収納されたときに液受け部７２の先端は現像液ノズル６の吐出口６２に近接し、また吐出口６２の長さ方向と、この先端とが並行するように設けられている。図８（ａ）〜（ｄ）は、現像液ノズル６が待機部６に収納され、現像液ノズル６から垂れた現像液の液滴Ｄを液取り部７Ｃが吸収して、除去する様子を示している。図８（ｄ）中に示した待機部６に収納されたときの現像液ノズル６の下端と液取り部７Ｃとの距離ｈ２はこの液滴Ｄが落下するときの大きさに応じて任意に設定され、例えば１．５ｍｍである。
【００４１】
続いて制御部１００について説明する。制御部１００は例えばコンピュータからなり、不図示のプログラム格納部を有している。このプログラム格納部には、後述の作用で説明する現像処理が行われるように命令が組まれた例えばソフトウエアからなるプログラムが格納され、このプログラムが制御部１００に読み出されることで制御部１００はウエハの回転速度、各ノズルの移動、ウエハへの現像液、純水及びＮ２ガスの供給などを制御する。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。
【００４２】
続いて、この現像装置２に順次ウエハＷが搬入されたときに、行われる処理の一例について図９〜図１２を参照しながら説明する。ウエハＷは例えば不図示の基板搬送手段により現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃの順に搬送され、また各ウエハＷの表面にはレジストが塗布されており、そのレジストが所定の露光処理を受けているものとする。また便宜上、現像処理部２１ａ，２１ｂ，２１ｃに搬入されるウエハＷを夫々便宜上、ウエハＷ１，Ｗ２，Ｗ３と記載する。
【００４３】
また、既述のように繰り返し現像処理を行う度に現像液ノズル６の下端に現像液が溜まり、当該ノズル６に付着した液滴Ｄが大きくなる。そして、液滴Ｄが所定のサイズになったときに液取り部７Ａ〜７Ｃにより除去できるように現像液ノズル６と各液取り部との距離を調整すればよいが、下記の説明では現像液の液滴Ｄが除去される様子を明確に示すために説明の便宜上、この液滴ＤがウエハＷに処理を行う度に現像液ノズル６に垂れ下がり、処理を行う度にその液滴Ｄが除去されるように液取り部７Ａ〜７Ｃの位置が調整されているものとする。
【００４４】
図９（ａ）に示すように処理開始前において現像液ノズル６、複合ノズル部４ａ〜４ｃは、夫々待機部６６，５１ａ〜５１ｃに収納されている。各カップ体３１ａ〜３１ｃ内の排気量が所定の排気量になり、ウエハＷ１が現像処理部２１ａのスピンチャック２２ａに受け渡され、所定の回転数で回転すると共に複合ノズル部４ａがウエハＷ１上に移動し、純水ノズル４１ａがウエハＷ１の中心部に純水Ｆを吐出する。吐出された純水Ｆは、遠心力により周縁部へと展伸されるいわゆるスピンコーティングによってウエハＷ１を覆い、既述のプリウエットが行われる（図９（ｂ））。
【００４５】
純水Ｆの供給が停止し、複合ノズル部４ａがウエハＷ１の周縁部側へと移動すると共に現像液ノズル６が待機部６６からウエハＷ１の周縁部上へと移動する。そして、現像液ノズル６は現像液Ｌを供給しながらウエハＷ１の中心部上へと移動し（図９（ｃ））、ウエハＷ１の表面全体が現像液Ｌにより覆われる。その後、現像液ノズル６からの現像液Ｌの吐出が停止し、現像液ノズル６が待機部６６に戻る（図９（ｄ））。
【００４６】
現像液ノズル６が待機部６６内の待機領域６７に収納され、図８（ａ）〜（ｄ）で示したように現像液ノズル６の下端が液取り部７Ｃに近接し、その下端から垂れた液滴Ｄが液取り部７Ｃに接触して、当該液取り部７Ｃに吸収されて除去される。また、複合ノズル部４ａがウエハＷ１の中心部上に移動し、ウエハＷ１の中心部上に純水Ｆが供給されてウエハＷ１表面の現像液Ｌが洗い流される。その一方で、基板処理部２１ｂのスピンチャック２２ｂにウエハＷ２が受け渡される（図９（ｅ））。
【００４７】
然る後、ウエハＷ２が所定の回転数で回転し、複合ノズル部４ｂが待機部５１ｂからウエハＷ２上に移動し、純水ノズル４１ｂがウエハＷ２の中心部上に純水Ｆを吐出して、ウエハＷ２の表面が純水Ｆにより覆われると共に、現像液ノズル６がウエハＷ２の周縁部上へ移動する。その一方で純水ノズル４１ａからウエハＷ１への純水Ｆの供給が停止する（図１０（ａ））。
【００４８】
Ｎ２ガスノズル４２ａがウエハＷ１の中心部上に移動し、Ｎ２ガスがウエハＷ１に吐出されて、回転による純水の振り切りとこのガス供給との相乗作用でウエハＷ１が乾燥される。その一方で、純水ノズル４１ｂからウエハＷ２への純水Ｆの吐出が停止し、複合ノズル部４ｂがウエハＷ２の周縁部上へ移動し、現像液ノズル６が現像液Ｌを吐出しながらウエハＷ２の周縁部上から中心部上へ移動して（図１０（ｂ））、ウエハＷ２の表面全体が現像液Ｌに被覆される。
【００４９】
その後、前記ウエハＷ１へのＮ２ガスの吐出が停止すると共にウエハＷ１の回転が停止し、複合ノズル部４ａが待機部５１ａに戻る一方で、ウエハＷ２への現像液Ｌの供給が停止する。続いて、現像液ノズル６は図中矢印で示すように液取り部７Ａの上方を通過し、図７（ａ）〜（ｄ）で説明したように現像液ノズル６の下端に垂れた液滴Ｄが液取り部７Ａに接触し、吸収されて除去され（図１０（ｃ）、（ｄ））、現像液ノズル６はウエハＷ１の上方を通過して待機部６６に戻る（図１０（ｅ））。また、複合ノズル部４ｂがウエハＷ２の中心部上に移動し、純水ＦをウエハＷ２に供給して、ウエハＷ２表面の現像液Ｌが洗い流される。その一方で、現像処理部２１ｃのスピンチャック２２ｃにウエハＷ３が受け渡される（図１１（ａ））。
【００５０】
続いてウエハＷ３が所定の回転数で回転し、複合ノズル部４ｃが待機部５１ｃからウエハＷ３上に移動し、純水ノズル４２ｃがウエハＷ３の中心部上に純水Ｆを吐出して、スピンコーティングによりウエハＷ３の表面が純水Ｆにより覆われると共に現像液ノズル６がウエハＷ３の周縁部上へ移動する。また、その一方で純水ノズル４１ｂからの純水Ｆの供給が停止し、Ｎ2ガスノズル４２ｂがウエハＷ２の中心部上に移動する（図１１（ｂ））。
【００５１】
そして、Ｎ２ガスがウエハＷ２の中心部上に吐出されてウエハＷ２が乾燥される一方で、純水ノズル４１ｃからの純水Ｆの吐出が停止し、複合ノズル部４ｃがウエハＷ３の周縁部上へ移動する。そして、現像液ノズル６が現像液Ｌを吐出しながらウエハＷ３の周縁部上から中心部上へ移動し（図１１（ｃ））、ウエハＷ３の表面全体が現像液Ｌに被覆される。
【００５２】
その後、前記ウエハＷ２へのＮ２ガスの吐出が停止すると共にウエハＷ２の回転が停止して、複合ノズル部４ｂが待機部５１ｂに戻る一方で、ウエハＷ３への現像液Ｌの供給が停止する。そして、現像液ノズル６は図中矢印で示すように液取り部７Ｂの上方を通過し、図７で説明したように現像液ノズル６の下端に垂れた液滴Ｄが液取り部７Ｂに接触して吸収され、除去される（図１１（ｄ）、（ｅ））。その後、現像液ノズル６は現像処理部２１ｂ，２１ａの上方を通過して待機部６６に戻る（図１２（ａ））。また、複合ノズル部４ｃがウエハＷ３の中心部上に移動し、ウエハＷ３の中心部上に純水Ｆが供給されてウエハＷ３表面の現像液Ｌが洗い流される（図１２（ｂ））。
【００５３】
その後、純水ノズル４１ｃからの純水Ｆの供給が停止し、Ｎ２ガスノズル４２ｃがウエハＷ３の中心部上に移動して、Ｎ２ガスノズル４２ｃからＮ２ガスがウエハＷ３の中心部上に吐出されてウエハＷ３が乾燥される（図１２（ｃ））。その後Ｎ２ガスの供給が停止すると共にウエハＷ３の回転が停止し、複合ノズル部４ｃが待機部５１ｃに戻り（図１２（ｄ））、基板搬送手段によりウエハＷ３が現像処理部３１ｃから搬出される。
【００５４】
この現像装置２によれば、横方向に一列に配列された現像処理部２１ａ〜２１ｃのカップ体３１ａ〜３１ｃ間において、駆動機構６５により移動する現像液ノズル６の移動路の下方側に、その現像液ノズル６の下端に近接し、当該現像液ノズル６から垂れた現像液の液滴Ｄに接触して、その液滴Ｄを現像液ノズル６から除去するための液取り部７Ａ，７Ｂが、その現像液ノズル６の移動軌道上に設けられている。従って現像液ノズル６がウエハＷに処理を行うために待機部６６と各現像処理部２１ａ〜２１ｃとを移動し、現像液が除去されて乾燥したウエハＷ上を通過するにあたって、その乾燥したウエハＷ上への現像液ノズル６からの前記液滴Ｄの落下を防ぐことができる。従ってその液滴がパーティクルとなってウエハＷを汚染することが防がれるので、歩留りの低下を抑えることができる。また、現像液ノズル６の移動中にその液滴Ｄが除去されるので、液滴Ｄを除去するための時間を必要としない。その結果としてスループットの低下を抑えることができる。
【００５５】
また、この現像装置２は待機部６６においても液取り部７Ｃを備えており、ノズル６が横方向に移動するときだけでなく待機部６６に収納されたときにも液滴Ｄの除去が行われるので、より確実に既述の現像液ノズル６から乾燥したウエハＷへの液滴Ｄの落下を防ぐことができる。
【００５６】
上記の例では３枚のウエハＷが現像処理される様子を説明しているが、３枚以上のウエハＷを処理する場合には、例えば続けて現像処理部２１ａ、２１ｂ、２１ｃの順に繰り返しウエハＷが搬送されて、上記の例と同様に現像処理が行われる。
【００５７】
また、上記の例ではウエハＷに現像液を供給する毎に現像液ノズル６が待機部６６に戻っているがこのように処理の度に待機部６６に戻らずに、一の現像処理部で現像液を供給したら直接他の現像処理部に移動して現像液を供給し、何枚かウエハＷに現像液を供給した後に待機部６６に戻ってもよい。また、現像処理部２１ａ〜２１ｃへのウエハＷの搬送順も上記の通りでなくてもよく、例えば現像処理部２１ａ，２１ｂにこの順で繰り返しウエハＷが搬送され、所定の枚数これら現像処理部２１ａ及び２１ｂにウエハＷが搬送されたら現像処理部２１ｃにウエハＷが搬送されるようにし、この搬送順に現像処理が行われるようにしてもよい。これらのように現像処理を行う場合も各現像処理部２１ａ〜２１ｃ間を移動するときに液滴が除去されるので上記の実施形態と同様の効果が得られる。
【００５８】
液取り部としては例えば図１３（ａ）にその外観を、図１３（ｂ）にその側面を夫々示すように構成してもよい。液滴の高い除去効果を得るためにこの液取り部８１は櫛形に形成されており、その表面には現像液ノズル６の移動方向に沿って多数の溝（凹部）８２が形成されている。そして、既述の実施形態と同様に現像液ノズル６の下端が近接して、液滴Ｄがその液取り部８１の表面に付着すると、図１３（ｂ）に矢印で示すように液滴Ｄが毛細管現象によりその溝８２内に進入する。また、溝８２内に現像液を多く貯留させることにより、当該液取り部８１の交換の頻度が高くなることを防ぐために、この液取り部８１において図１３（ｃ）に示すように溝８２の下方側が広がるように構成されていてもよい。
【００５９】
ところで、この例では現像液ノズル６の吐出口６１は斜めに開口する代わりに、垂直方向に開口していてもよいが、背景技術の欄で説明したように、斜め方向に開口した現像液ノズル６を用いた場合の方がダミーディスペンスや液の吸引などを行っても、現像液ノズルからの液滴の落下を防ぎにくいので、既述の液取り部を設けることが特に有効になる。
【００６０】
上記の各液取り部を構成する材料としてはセラミックスに限られないが、高い液滴Ｄの除去効果を得るために親水性の材料を用いることが好ましい。また、その表面状態を荒くすることにより、高い現像液の除去効果を得ることができるので好ましい。また、各液取り部を弾性材を用いて構成してもよく、この場合は現像液ノズル６が各液取り部と接触しても、これら液取り部及び現像液ノズルの破損を防ぐことができるので、現像液ノズルと液取り部との間隔の調整に手間をかけることを抑えることができる。
【００６１】
また、ウエハＷへの液滴Ｄの落下を防ぐことができればよいので、液取り部７Ａ，７Ｂはカップ体３１ａ〜３１ｃの開口部３１ａ〜３１ｃ間に設けられていればよく、例えばカップ体３１ａ〜３１ｃの上側の傾斜部３２ａ〜３２ｃ上に設けられていてもよい。
【００６２】
また、上記の例では現像処理部２１ａ〜２１ｃが直線方向に配列され、その列の延長線上に待機部６６が設けられているが、現像処理部２１ａ〜２１ｃ及び待機部６６が周方向に配列されており、現像液ノズル６がその配列方向に移動し、その現像液ノズル６の移動路の下方側に液取り部７Ａ,７Ｂが設けられてもよい。現像処理部及び液取り部の数としては既述の実施形態に限られるものではない。
【００６３】
また、液取り部としては図１４（ａ）、（ｂ）に示す構成としてもよい。この液取り部９は基台９１上に側面視三角形状の液受け部９２を備えている。また、基台９１上には斜め方向に純水などの洗浄液を吐出する洗浄液ノズル９３が設けられている。図中９４は基台９１に設けられた排液口であり、不図示の排液路に接続されている。この液取り部９は例えば液受け部７Ａ〜７Ｃの代わりに各カップ体３１ａ〜３１ｃ間及び待機領域６７に設けられる。この例では現像処理を行うための現像液ノズル９０は斜め方向に円形に開口した吐出口９７を備えており、基部９６を介して既述のアーム体６４に接続され、現像液ノズル６と同様に昇降及び横方向への移動を行うことができる。
【００６４】
例えば、カップ体３１ａ〜３１ｃ間において設けられた液受け部９２に現像液ノズル９０が横方向から移動して近づくと、現像液の液滴Ｄが液受け部９２に接触し、液受け部９２を伝わって基台９１へと流れ落ちる。さらに洗浄液ノズル９３から現像液ノズル９０に向けて洗浄液が吐出されて、その洗浄液により液滴Ｄが洗い流される。そして洗い流された液はノズル９０の下端から液受け部９２へ伝わり、その基台９１へと流れ落ち、その流れ落ちた排液は、排液口９４から除去される。この液取り部９は、液取り部７Ｃの代わりに待機領域６７に設けてもよい。また、この例において洗浄液ノズル９３を設けず、液受け部９２に接触した液滴を当該液受け部９２の下方に伝わらせることだけで現像液ノズル６からの液滴の除去を行ってもよい。
【００６５】
洗浄液を吐出するノズル９３としては、現像液ノズル９０についての高い洗浄効果を得て液滴Ｄの除去効果を高めるために、例えば洗浄液の液体と気体とを混合して洗浄液の霧を発生させてその霧を噴霧するいわゆる２流体ノズルを用いてもよい。また、そのように除去効果を高める目的のために例えば１ＭＨｚ程度の超音波をかけた洗浄液を吐出する、いわゆるメガソニックノズルを用いてもよい。なお、現像液ノズル９０の代わりに既述の現像液ノズル６に対してこの液取り部９を用いてもよい。
【００６６】
本発明の現像装置への適用例について説明してきたが、例えばレジスト塗布装置などの他の液処理装置へも本発明を適用することができる。この場合、処理液ノズルからの処理液が、当該処理液による処理前及び処理後の基板への落下することを防ぎ、パーティクルが発生したり、基板の処理の面内均一性が低下したりすることを防ぐことができる。その結果として歩留りの低下を防ぐことができる。
【００６７】
以下、上記の現像装置２が組み込まれた塗布、現像装置１０１について説明する。図１５は塗布、現像装置１０１に露光装置Ｃ４が接続されたレジストパターン形成システムの平面図を示しており、図１６は同システムの斜視図である。また、図１７は塗布、現像装置１０１の縦断面図である。この塗布、現像装置１０１にはキャリアブロックＣ１が設けられており、その載置台１１１上に載置された密閉型のキャリア１１０から受け渡しアーム１１２がウエハＷを取り出して処理ブロックＣ２に受け渡し、処理ブロックＣ２から受け渡しアーム１１２が処理済みのウエハＷを受け取ってキャリア１１０に戻すように構成されている。キャリア１１０は多数枚のウエハＷを含み、各ウエハＷは順次処理ブロックＣ２へと搬送される。
【００６８】
前記処理ブロックＣ２は、図１６に示すようにこの例では現像処理を行うための第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、レジスト膜の下層に形成される反射防止膜の形成処理を行うための第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、レジスト膜の塗布を行うための第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、レジスト膜の上層側に形成される反射防止膜の形成を行うための第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４を、下から順に積層して構成されている。
【００６９】
処理ブロックＣ２の各層は平面視同様に構成されている。第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３を例に挙げて説明すると、ＣＯＴ層Ｂ３は塗布膜としてレジスト膜を形成するためのレジスト膜形成モジュールと、このレジスト膜形成モジュールにて行われる処理の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットＵ１〜Ｕ４と、前記レジスト膜形成モジュールと加熱・冷却系の処理モジュール群との間に設けられ、これらの間でウエハＷの受け渡しを行う搬送アームＡ３と、により構成されている。
【００７０】
前記棚ユニットＵ１〜Ｕ４は搬送アームＡ３が移動する搬送領域Ｒ１に沿って配列され、夫々上記の加熱モジュール、冷却モジュールが積層されることにより構成される。加熱モジュールは載置されたウエハを加熱するための加熱板を備えており、冷却モジュールは載置されたウエハを冷却するための冷却板を備えている。
【００７１】
第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４については、前記レジスト膜形成モジュールに相当する反射防止膜形成モジュール、保護膜形成モジュールが夫々設けられ、これらモジュールにおいてレジストの代わりに処理液として反射防止膜形成用の薬液、保護膜形成用の薬液が夫々ウエハＷに供給されることを除けばＣＯＴ層Ｂ３と同様の構成である。
【００７２】
第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１については一つのＤＥＶ層Ｂ１内にレジスト膜形成モジュールに対応する現像モジュール１１３が２段に積層されており、各現像モジュール１１３は夫々既述の現像装置２に相当し、共通の筐体内に３基の現像処理部や既述の各ノズルを含んでいる。また、ＤＥＶ層Ｂ１にはこの現像モジュール１１３の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理モジュール群を構成する棚ユニットＵ１〜Ｕ４が設けられている。そしてＤＥＶ層Ｂ１内には、これら２段の現像モジュールと、前記加熱・冷却系の処理モジュールとにウエハＷを搬送するための搬送アームＡ１が設けられている。つまり２段の現像モジュールに対して搬送アームＡ１が共通化されている構成となっている。この搬送アームＡ１が上記の基板搬送手段に相当する。
【００７３】
更に処理ブロックＣ２には、図１５及び図１７に示すように棚ユニットＵ５が設けられ、キャリアブロックＣ１からのウエハＷは前記棚ユニットＵ５の一つの受け渡しユニット、例えば第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２の対応する受け渡しユニットＣＰＬ２に順次搬送される。第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２内の搬送アームＡ２は、この受け渡しユニットＣＰＬ２からウエハＷを受け取って各ユニット（反射防止膜形成モジュール及び加熱・冷却系の処理ユニット群）に搬送し、これらユニットにてウエハＷには反射防止膜が形成される。
【００７４】
その後、ウエハＷは棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ２、受け渡しアームＤ１、棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＣＰＬ３に搬送され、そこで例えば２３℃に温度調整された後、搬送アームＡ３を介して第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３に搬入され、レジスト膜形成モジュールにてレジスト膜が形成される。更にウエハＷは、搬送アームＡ３→棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＢＦ３→受け渡しアームＤ１を経て棚ユニットＵ５における受渡しユニットＢＦ３に受け渡される。なおレジスト膜が形成されたウエハＷは、第４のブロック（ＩＴＣ層）Ｂ４にて更に保護膜が形成される場合もある。この場合は、ウエハＷは受け渡しユニットＣＰＬ４を介して搬送アームＡ４に受け渡され、保護膜の形成された後搬送アームＡ４により受け渡しユニットＴＲＳ４に受け渡される。
【００７５】
一方ＤＥＶ層Ｂ１内の上部には、棚ユニットＵ５に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１１から棚ユニットＵ６に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１２にウエハＷを直接搬送するための専用の搬送手段であるシャトルアーム１１５が設けられている。レジスト膜や更に保護膜の形成されたウエハＷは、受け渡しアームＤ１を介して受け渡しユニットＢＦ３、ＴＲＳ４から受け取り受け渡しユニットＣＰＬ１１に受け渡され、ここからシャトルアーム１１５により棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＣＰＬ１２に直接搬送され、インターフェイスブロックＣ３に取り込まれることになる。なお図１１中のＣＰＬが付されている受け渡しユニットは温調用の冷却ユニットを兼ねており、ＢＦが付されている受け渡しユニットは複数枚のウエハＷを載置可能なバッファユニットを兼ねている。
【００７６】
次いで、ウエハＷはインターフェイスアーム１１６により露光装置Ｃ４に搬送され、ここで所定の露光処理が行われた後、棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＴＲＳ６に載置されて処理ブロックＣ２に戻される。戻されたウエハＷは、第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１にて現像処理が行われ、搬送アームＡ１により棚ユニットＵ５の受け渡しユニットＴＲＳ１に受け渡される。その後、受け渡しアーム１１２を介してキャリア１１０に戻される。
【００７７】
（評価試験１）
現像液ノズル６において、その下端からどの程度下方まで垂れ下がった液滴Ｄが落下するのかを確認した。結果として液滴の大きさが１ｍｍ、２ｍｍ、３ｍｍの場合においては液滴の落下は起きなかったが、液滴の大きさが４ｍｍになると現像液ノズル６の先端から落下することが確認された。そして、この結果を踏まえて、現像液ノズル６が待機部６６に収納されたとき当該現像液ノズル６の下端と液取り部７Ｃとの距離ｈ２を２ｍｍに設定し、続いて現像液ノズル６を液取り部７Ｃに対して上昇させ、現像液ノズルの下端から２ｍｍ強下側へ垂れ下がった液滴を形成した。そして、現像液ノズル６を下降させ、待機部６６に収納した後、現像液ノズル６を上昇させて、液滴の有無を観察した。この現像液ノズル６を上昇させての液滴の形成と現像液ノズル６の待機部６への収納とを５０回繰り返し行った。
【００７８】
評価試験１の結果、現像液ノズル６が下降する毎に液滴は現像液ノズル６の下端から除去された。この試験から上記の実施形態のように現像装置２に液取り部７Ｃを設けることで液滴の除去が行うことができることが示された。また、現像液ノズル６が接近する方向は異なるが、この実験から液取り部７Ａ，７Ｂにおいても有効に現像液ノズル６から液滴Ｄの除去が行うことができることが予想される。
【００７９】
（評価試験２）
液取り部７Ｃを絵の具で染めて、評価試験１と同様の試験を行い、現像液ノズル６が絵の具で汚染されるかどうかを調べた。結果として現像液ノズル６への絵の具の付着はなかった。従って、現像液ノズル６から液取り部７Ｃに付着した、液滴は再度現像液ノズル６に付着せずに、液取り部７Ｃにより除去されていることが分かる。この試験からも上記の実施形態のように現像装置に液取り部７Ｃを設けることが有効であることが分かり、また液取り部７Ａ，７Ｂを設けることが有効であることが予想される。
【符号の説明】
【００８０】
Ｄ 液滴
Ｌ 現像液
Ｗ ウエハ
２ 現像装置
２１ａ〜２１ｃ 現像処理部
２２ａ〜２２ｃ スピンチャック
３０ａ〜３０ｃ 開口部
３１ａ〜３１ｃ カップ体
４ａ〜４ｃ 複合ノズル部
４１ａ〜４１ｃ 純水ノズル
４２ａ〜４２ｃ Ｎ２ガスノズル
６ 現像液ノズル
６１ 吐出口
６５ 駆動機構
６６ 待機部
７Ａ〜７Ｃ 液取り部
１００ 制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部と、
これら複数の液処理部に対して共用化され、基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記液処理部の列の延長線上に設けられ、処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動させるための移動手段と、
前記カップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に設けられ、前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部と、
カップ体の開口部間における前記移動路に位置すると共に一の液処理部から他の液処理部に向けて横方向に移動する途中の当該処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄し、その洗浄液が前記液取り部にて処理液ノズルから除去されるように前記液取り部に設けられた洗浄液供給部と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記処理液ノズルは斜め下方に前記処理液を吐出する吐出口を備えていることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
前記液取り部は弾性材により構成されることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項４】
前記液取り部は更に前記待機部に設けられていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項５】
前記待機部に位置する処理液ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給部を備えていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項６】
前記液取り部は毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、その表面に多数の凹部を有することを特徴とする請求項１または５のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項７】
前記凹部は上方に向けて開口すると共に、上方から下方に向かうにつれて末広がりに構成されることを特徴とする請求項６記載の液処理装置。
【請求項８】
前記液取り部は毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、多孔質材料により構成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項９】
前記処理液は現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものであることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項１０】
上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部に対して共用化された処理液ノズルから前記基板に処理液を供給する液処理方法において、
前記液処理部の列の延長線上に設けられた、処理液ノズルを待機させるための待機部から、前記複数の液処理部を構成する一の液処理部の上方領域へ、当該一の液処理部の基板に処理液を供給するために前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動手段により移動させる工程と、
次いで、前記待機部に処理液ノズルを戻さずに当該処理液ノズルを前記複数の液処理部を構成する他の液処理部の基板に処理液を供給するために、当該他の液処理部の上方領域へ向けて前記列に従って移動させる工程と、
次いで、前記処理液ノズルが他の液処理部まで横方向に移動する途中で、前記カップ体の開口部間において、当該処理液ノズルに洗浄液供給部により洗浄液を供給して当該処理液ノズルを洗浄し、前記洗浄液供給部を備えると共に処理液ノズルの移動路の下方側に設けられた液取り部を前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた洗浄液の液滴に接触させる工程と、
前記液取り部に接触した液滴を当該液取り部により処理液ノズルから除去する工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
【請求項１１】
前記基板に処理液を供給する工程は、
処理液ノズルの吐出口から前記処理液を斜め下方に供給する工程であることを特徴とする請求項１０記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記処理液は現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものであることを特徴とする請求項１０または１１に記載の液処理方法。
【請求項１３】
基板に対する液処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項１０ないし１２のいずれか一つに記載の液処理方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
【請求項１】
上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部と、
これら複数の液処理部に対して共用化され、基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記液処理部の列の延長線上に設けられ、処理液ノズルを待機させるための待機部と、
前記液処理部の各々の上方領域と前記待機部との間で前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動させるための移動手段と、
前記カップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に設けられ、前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部と、
カップ体の開口部間における前記移動路に位置すると共に一の液処理部から他の液処理部に向けて横方向に移動する途中の当該処理液ノズルに洗浄液を供給して洗浄し、その洗浄液が前記液取り部にて処理液ノズルから除去されるように前記液取り部に設けられた洗浄液供給部と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
前記処理液ノズルは斜め下方に前記処理液を吐出する吐出口を備えていることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。
【請求項３】
前記液取り部は弾性材により構成されることを特徴とする請求項１または２記載の液処理装置。
【請求項４】
前記液取り部は更に前記待機部に設けられていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項５】
前記待機部に位置する処理液ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給部を備えていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項６】
前記液取り部は毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、その表面に多数の凹部を有することを特徴とする請求項１または５のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項７】
前記凹部は上方に向けて開口すると共に、上方から下方に向かうにつれて末広がりに構成されることを特徴とする請求項６記載の液処理装置。
【請求項８】
前記液取り部は毛細管現象により液滴をその内部に吸収して除去するために、多孔質材料により構成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項９】
前記処理液は現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものであることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか一つに記載の液処理装置。
【請求項１０】
上側に開口部が形成されたカップ体の中に基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、各々横方向に一列に配置された複数の液処理部に対して共用化された処理液ノズルから前記基板に処理液を供給する液処理方法において、
前記液処理部の列の延長線上に設けられた、処理液ノズルを待機させるための待機部から、前記複数の液処理部を構成する一の液処理部の上方領域へ、当該一の液処理部の基板に処理液を供給するために前記液処理ノズルを液処理部の列に従って移動手段により移動させる工程と、
次いで、前記待機部に処理液ノズルを戻さずに当該処理液ノズルを前記複数の液処理部を構成する他の液処理部の基板に処理液を供給するために、当該他の液処理部の上方領域へ向けて前記列に従って移動させる工程と、
次いで、前記処理液ノズルが他の液処理部まで横方向に移動する途中で、前記カップ体の開口部間において、当該処理液ノズルに洗浄液供給部により洗浄液を供給して当該処理液ノズルを洗浄し、前記洗浄液供給部を備えると共に処理液ノズルの移動路の下方側に設けられた液取り部を前記移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた洗浄液の液滴に接触させる工程と、
前記液取り部に接触した液滴を当該液取り部により処理液ノズルから除去する工程と、
を備えたことを特徴とする液処理方法。
【請求項１１】
前記基板に処理液を供給する工程は、
処理液ノズルの吐出口から前記処理液を斜め下方に供給する工程であることを特徴とする請求項１０記載の液処理方法。
【請求項１２】
前記処理液は現像液であり、前記基板はその表面にレジストが塗布され、露光されたものであることを特徴とする請求項１０または１１に記載の液処理方法。
【請求項１３】
基板に対する液処理を行う液処理装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項１０ないし１２のいずれか一つに記載の液処理方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【公開番号】特開２０１２−６０１３７（Ｐ２０１２−６０１３７Ａ）
【公開日】平成２４年３月２２日（２０１２．３．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２０７９３３（Ｐ２０１１−２０７９３３）
【出願日】平成２３年９月２２日（２０１１．９．２２）
【分割の表示】特願２００９−３１８８９（Ｐ２００９−３１８８９）の分割
【原出願日】平成２１年２月１３日（２００９．２．１３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２２日（２０１２．３．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月２２日（２０１１．９．２２）
【分割の表示】特願２００９−３１８８９（Ｐ２００９−３１８８９）の分割
【原出願日】平成２１年２月１３日（２００９．２．１３）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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