【課題】 余分な被覆処理液を完全に除去することができる被覆膜形成装置の提供を目的
【解決手段】 被覆膜形成装置１００は、部材を保持する部材保持カゴを有する被覆膜調整部１０１を矢印ａ１１方向、矢印ａ１３方向へ水平回転させるとともに、矢印ａ１５方向、矢印ａ１７方向へ垂直回転させる。これにより、被覆処理液を付着させた部材を水平方向及び垂直方向に回転させることができるので、部材に付着させた被覆処理液のうち不要な被覆処理液を均一に除去し、部材に均一な被覆膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】保護膜を形成するために塗布される液状樹脂の飛散等に起因する装置本体の不具合を防止すること。
【解決手段】半導体ウェーハＷの被加工面に液状樹脂からなる保護膜を形成する保護膜形成機構６と、保護膜形成機構６に半導体ウェーハＷを搬入搬出するプッシュプル機構８とを備えるレーザー加工装置１において、保護膜形成機構６は、被加工面を露出した状態で半導体ウェーハＷを保持するワーク保持部６２２と、半導体ウェーハＷを保持したワーク保持部６２２を鉛直方向に回転軸として回転させるテーブル支持部６２１と、ワーク保持部６２２及び保持された半導体ウェーハＷを囲んで密閉する筐体とを有し、この筐体に、半導体ウェーハＷの搬入搬出の際にプッシュプル機構８の通過を許容する開位置に配置される一方、保護膜を形成する際に液状樹脂の筐体外への飛散を防止する閉位置に配置されるシャッター部６５を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スピンコート法により基材の表面に薄膜を形成する場合に、均一に成膜することができる治具、薄膜形成装置及び薄膜形成方法並びに当該薄膜形成方法により薄膜が形成された光学部材を提供することを目的とする。
【解決手段】表面２１ａの少なくとも一部に塗布液が塗布された基材２１を保持して回転する治具１０を用いて、表面に塗布液の薄膜２２を形成する場合において、治具は、基材の外周部２１ｂを当接させて保持するテーパ面１１を有し、該テーパ面は、外周部との間に、該外周部に到達した塗布液が通過可能な空隙Ｋを形成しており、表面が上側になるようにして外周部をテーパ面に当接させて、基材を治具に保持する基材保持工程と、表面に塗布液を塗布して、基材を保持した治具を回転させ、表面に薄膜を形成する薄膜形成工程と、を有し、薄膜形成工程で、外周部に到達した塗布液が、空隙を通過するようになっている。 （もっと読む）

【課題】スループットを向上させることが可能な回転塗布装置を提供すること
【解決手段】基板Ｗを保持し、基板Ｗとともに回転可能な基板保持部１と、基板保持部１に保持された基板Ｗの外方を囲み、基板Ｗを収容する収容体２と、収容体２の上方に設けられた、基板Ｗの径よりも小さい径を有する開口部３ａを中央部分に備えた蓋体３と、蓋体３と収容体２との間に配置され、収容体２の中と収容体２の外とを、収容体２に収容された基板Ｗの外周部Ｗａの上方を介して連通させる複数の筒状気流案内路４と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】被塗布材に供回りする容器を備え、容器内の気密性を良好に維持できる塗布装置の提供を図る。
【解決手段】塗布装置１は、スピンナー４とインナーカップ３とを備える。インナーカップ３は、Ｏリング３３と蓋部材３２と底部材３１とを備え、内部に収容するワーク９９とともにスピンナー４に供回りする。Ｏリング３３は、弾性体材料により構成された無端状のものである。蓋部材３２は、周壁部３２２を周縁に備える円盤状のものである。周壁部３２２は、Ｏリング３３の外周側に当接する。底部材３１は、周壁部３１２を周縁に備える円盤状のものである。周壁部３１２は、Ｏリング３３の内周側に当接する。底部材３１の回転時に、遠心力により周壁部３１２が蓋部材３２の周壁部３２２よりも大きく外周側に歪む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、回転するディスク状部材上に滴下部材を滴下して膜を形成するスピンコーターに関するものである。
【解決手段】本発明のスピンコーターは、ディスク状部材を載置して回転する回転基盤と、前記ディスク状部材の上面に所望の滴下部材を滴下するノズルと、余剰の滴下部材の散乱を防止するほぼドウナツ状コーティングカップと、前記ほぼドウナツ状コーティングカップから前記余剰の滴下部材を回収するドレインパイプと、前記ドレインパイプに連結された回収タンクとから構成されている。前記ノズルは、前記回転基盤の上部に配置され、前記ディスク状部材上に所望の滴下部材を滴下する。前記コーティングカップは、断面がほぼ玉子形をしたほぼドウナツ状であり、中央部に前記ディスク状部材および前記回転基盤を内部に備えている。前記ドレインパイプは、前記コーティングカップの一方から前記滴下部材が流下して、空気に振れることなく、回収タンクに回収できる構造になっている。 （もっと読む）

システム内で、スピンドル上に支持された各部品（ｃ）を水平方向に移送するスピンドルコンベアシステム（２５）を含むスピンドルスプレーコーティングシステム。スプレー時に、各部品を支持する個々のスピンドルを回転させるスピンドル回転ステーション（１８）も設けられる。調整可能なスプレーシステムによるスプレー中に、スピンドル上に支持された各部品を閉じ込めて、スプレーされるコーティング材料に対する環境および作業員の曝露を最低限に抑えるスプレー閉じ込め密閉スプレーブース（２０）。調整可能な二次スプレーシステムによる二次スプレー中に、スピンドル上に支持された各部品を閉じ込める第２のスプレー閉じ込め密閉スプレーブースを設けてもよい。スプレー工程（ｓ）に続いて、目視検査システム（２２）を使用して、コーティングされた各部品が検査される。垂直引き上げ機構と、欠陥部品を把持し、釣り合い重りを使用してこの部品を引き上げ１８０度回転移動させるグリッパ機構とを有し、引き上げ及び回転移動の後に、グリッパ機構からの放出によって部品が処分される欠陥部品自動廃棄用組立体（２４）も設けられる。
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【課題】基板を支持するユニットを提供する。
【解決手段】基板支持ユニットは、工程時に基板に旋回流を供給して基板をチャックプレート上から浮揚及び回転させる工程を行う。したがって、本発明は、基板を非接触方式でチャックプレートから浮揚させて支持し、工程速度で回転させる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に供給ノズルから処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、この液処理装置に装着されるカップ体の着脱の容易な液処理装置等を提供する。
【解決手段】ウエハＷに対して例えばレジスト液等の処理液を塗布する塗布ユニット等に適用される液処理装置に適用される液処理装置１において、カップ体保持部３は処理液の飛散を抑えるための筒状のカップ体２を保持し、モータ・シリンダ機構４は装着位置にてカップ体２を保持する第１の位置と、当該第１の位置の略垂直上方であって、他の機器と干渉せずに搬出入可能な位置にてこのカップ体２を保持する第２の位置と、の間でこのカップ体保持部３を昇降させる。 （もっと読む）

【課題】パーティクルおよびミストの基板への付着を防止することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布装置１００は、箱形の処理チャンバ１を備える。この処理チャンバ１の４つの側面には、スリット１ａがそれぞれ設けられている。処理チャンバ１を取り囲むように箱形のハウジング２が設けられている。処理チャンバ１とハウジング２との間に空間ＳＰが形成される。ハウジング２の上部には、空間ＳＰ内にダウンフローを形成するためのファンフィルタユニットＦＦＵが設けられている。ファンフィルタユニットＦＦＵに供給された空気は、当該ファンフィルタユニットＦＦＵにより清浄化され、空間ＳＰに供給される。空間ＳＰに供給された空気は、処理チャンバ１の各スリット１ａを介して当該処理チャンバ１内に供給される。これにより、処理チャンバ１内に竜巻状の気流が発生される。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、塗布材料の均一性を確保できるとともに、調整が容易なスピン塗布装置及びスピン塗布方法を提供する。
【解決手段】基板１を支持する載置台２１、基板１上に滴下された樹脂Ｒが展延されるように、載置台２１を回転させる駆動部２３とを備える。基板１における樹脂Ｒの塗布面に対向する対面部４を備え、対面部４に、基板１の表面と対面部４との間に気体を流入させる開口部４２と、基板１の回転により生じる基板１表面の気流Ａの速度を変化させるように、基板１の周縁近傍に接近する接近部４１とを有する。 （もっと読む）

【課題】回転塗布装置上で紫外線照射も行う場合に効率的な構造により余剰塗布液の硬化による問題を解消する。また回転塗布及び紫外線照射による樹脂層をより良好に生成できるようにする。
【課題を解決するための手段】ディスク基板９０に紫外線硬化樹脂を滴下し、被塗布物を回転させて紫外線硬化樹脂を被塗布物上に延伸塗布した後、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる回転塗布工程において、紫外線照射時には、回転台１を、回転実行位置から紫外線照射実行位置に上昇させる。紫外線照射実行位置では、回転台１が回収経路部２１に対する紫外線の遮蔽体として機能するようにし、回収経路部内に付着した余剰樹脂に紫外線が照射されないようにする。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造で塗布対象液体の基板裏面への廻り込みを防ぐことができるスピンコータを提供する。
【解決手段】 スピンコータは、長方形の基板１を下方から保持するためのものであり、基板１の下方に完全に隠れ得る大きさの吸着部５と、吸着部５を取り囲んで広がり、基板１の下面とほぼ同一高さの上面６ｕを有する整流板６と、吸着部５および整流板６を回転させるための回転駆動部５１と、吸着部５に保持された基板１の上面１ｕに塗布対象液体を供給するための供給機構５２と、整流板６の上面６ｕのうち、吸着部５に基板１を設置したときに基板１の長辺に隣接する領域において、長辺の一部に沿うように配置された廻り込み防止板８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 容器内でミストが滞留することを抑制できる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布装置は、半導体基板１を載置するステージ２０とステージ２０を回転させるモーター２４と、ステージ２０を内側に含むカップ状の容器１０と、容器１０の底面に設けられた排気口１０ｂと、ステージ２０に載置された半導体基板１上に薬液を供給する薬液供給部１２とを具備する。ステージ２０の底面から容器１０の底面までの距離は、ステージ２０の側面２０ａから容器１０の内側面１０ａまでの距離より短い。 （もっと読む）

【課題】 特別な排気量調整部材を使用することなく簡易にチャンバからの排気量を変更することが可能な減圧乾燥装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 減圧乾燥装置は、蓋部１１と、パッキング１２と、基部１３とから成るチャンバ１０と、このチャンバ１０における基部１３に立設された支持ピン１５と、昇降ピン２１が立設された支持板２２とを備える。チャンバ１０における基部１３には、排気口３１が形成されている。この排気口３１は、真空ポンプ３４と接続されている。排気口３１からの排気量は、支持板２２の下面と排気口３１におけるチャンバ１０側の開口部との距離により変更される。 （もっと読む）

【課題】基板表面における膜形成において、生産性を低下させることなく、パーティクルの発生を防止できる成膜方法および成膜装置、かかる成膜方法により形成された膜を提供すること。
【解決手段】成膜装置１は、液状の膜形成材料が塗布されるウエハＷを回転支持するウエハ支持部２と、膜形成材料をウエハＷに塗布法により供給して膜を形成する膜形成材料供給部４と、ウエハＷの一方の面の縁部および他方の面の縁部に撥液材料を供給して撥液膜を形成する撥液膜形成部５とを備え、ウエハＷの一方の面に液状の膜形成材料を膜形成材料供給部４から供給するのに先立って、ウエハＷの一方の面の縁部および他方の面の縁部に、撥液材料を撥液膜形成部５から供給して撥液膜を形成することにより、ウエハＷの他方の面側に前記膜形成材料が浸入するのを防止するものである。 （もっと読む）