【課題】立体構造物に均一なコーティング剤の皮膜を形成する立体構造物のコーティング装置およびコーティング方法を提供する。
【解決手段】収容室２１にコーティング剤を供給して半導体装置４０を浸漬した後、収容室２１からコーティング剤を回収して半導体装置４０コーティング剤を塗布する。その後、回転駆動部３８によりコーティング剤を塗布した半導体装置４０を所望のコーティング剤の膜厚ごとに予め設定されている回転数で収容タンク１１とともに回転駆動する。 （もっと読む）

【課題】薬液を両面に塗布する両面塗布装置であって、ウエハ上の有効チップ面を覆うようなウエハチャックを有する装置において、裏面洗浄機構を省略出来るようにする。
【解決手段】ウエハチャックを有する両面塗布装置において、ウエハ上の有効チップ面を覆うような形状のウエハチャックを有するとともに、ウエハチャックが円形であり、チャック面の半径寸法を着工ウエハの半径寸法に対して小さくして、その差が１ｍｍから１０ｍｍであるようにする。 （もっと読む）

【課題】空気より動粘性係数の高いガスを効率的に使用して塗布膜厚の均一性の向上を図れるようにし、発生するミストの付着を抑制すると共に、スループットの向上を図れるようにすること。
【解決手段】空気より動粘性係数の高いガスの雰囲気中で、塗布液中の溶剤を蒸発させてウエハの表面に塗布膜を形成する基板処理装置において、ウエハＷの表面を下向きにして回転可能に保持するスピンチャック１と、スピンチャックによって保持されたウエハを収容する開閉可能な処理容器１０と、スピンチャックによって保持されたウエハの表面に向かってそれぞれレジスト液を吐出するレジストノズル４１、レジスト液の溶剤であるシンナーを吐出するシンナーノズル４２、Ｈｅガスを供給するガス供給ノズル４０を具備する。これにより、ガス供給ノズルから吐出されたＨｅガスをウエハの表面層に効率的に供給し、Ｈｅガス濃度を高く維持してレジスト塗布処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置のＳＯＤ膜形成工程において、下層にダメージを生じることなくリワークを可能とする半導体製造方法および半導体製造装置を提供する。
【解決手段】ウェハを保持し、これを回転させながら、ウェハ上に絶縁膜を形成するための薬液を供給して、塗布膜を形成し、塗布膜が形成されたウェハについて、移動および加熱処理を行うことなく非接触で表面検査を行い、表面検査により不良と判断されたウェハ上に、溶媒を供給しながら回転させることにより、塗布膜を除去する。 （もっと読む）

【課題】優れた生産性で自動操作によりピストンリングの側面に塗装を行う。
【解決手段】水平な公転軸(7c)により鉛直面内で回転可能であり、その面上で外周部(7b)に回転可能な複数の保持部(7a)を有するターンテーブル(7)と、水平な自転軸(3a)により単独で回転可能に保持部(7a)に装着されかつピストンリング(1)を支持する取付台(3)と、取付台(3)に支持されかつ回転するピストンリング(1)の両側面(1a, 1b)を加熱する加熱装置(12)と、ピストンリング(1)の両側面(1a, 1b)に塗料(5)を塗布する塗装装置(13)とをピストンリング側面塗装装置に設ける。水平な自転軸(3a)を回転させピストンリング(1)を自転して、ピストンリング(1)の側面(1a, 1b)を加熱すると共に、加熱された側面(1a, 1b)にほぼ同時に塗料(5)を塗布するので、側面(1a, 1b)への加熱と塗装とを連続的かつ自動的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】二流体ノズルにおいて簡単な構造で液滴を効率よく帯電させる。
【解決手段】基板処理装置は、基板に処理液である純水の液滴を噴出する二流体ノズル３を備え、ノズル３は内筒部材３２および外筒部材３３を備える。ガスは気体流路である内筒部材３２内を流れ、処理液は内筒部材３２と外筒部材３３とにより構成される処理液流路を下方へと流れる。内筒部材３２の下端部３２１の下方は混合領域３０２となっており、混合領域３０２でガスと処理液とが混合されて微細な液滴が生成され、外筒部材３３の下端の噴出口３１から噴出される。気体流路内には第１電極６１が設けられ、処理液流路内には第２電極６２が設けられ、第１電極６１と第２電極６２との間に電位差が付与されることにより処理液に電荷が誘導され、帯電した液滴が生成される。ノズル３では簡単な構造で第１電極６１を処理液から隔離しつつ液滴を効率よく帯電させることができる。 （もっと読む）

【課題】処理対象に応じた処理を施すことができる二流体ノズルユニットおよびそれをそなえた基板処理装置を提供する。
【解決手段】二流体ノズルユニット３は、ＤＩＷと窒素ガスとを混合させてＤＩＷの液滴を形成する第１二流体ノズル９および第２二流体ノズル１０と、これら第１および第２二流体ノズル９，１０を一体保持するノズル保持部材１１とを有している。第１二流体ノズル９からは小流量で窒素ガスが吐出されるようになっており、パターンへのダメージを抑制した処理をウエハＷに施すことができる。また、第２二流体ノズルからは大流量で窒素ガスが吐出されるようになっており、パーティクル除去率の高い処理をウエハＷに施すことができる。第１および第２二流体ノズル９，１０から選択的にＤＩＷの液滴を吐出させることにより、ウエハＷの表面状態に応じた適切な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】気体の吐出流量を変更して処理対象に応じた処理を施すことができる二流体ノズルおよびそれをそなえた基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＤＩＷの液滴をウエハＷに供給するための二流体ノズル３には、ＤＩＷを吐出する円状の処理液吐出口２８と、処理液吐出口２８を取り囲む第１気体吐出口２９と、第１気体吐出口２９を取り囲む第２気体吐出口３１とが形成されている。第１気体吐出口２９からは小流量で窒素ガスが吐出されるようになっており、第２気体吐出口３１からは大流量で窒素ガスが吐出されるようになっている。第１および第２気体吐出口２９，３１への窒素ガスの供給を制御装置によって制御することにより、一つの二流体ノズル３で、大流量での窒素ガスの吐出と、小流量での窒素ガスの吐出とを行うことができる。これにより、表面状態に応じた処理をウエハＷに施すことができる。 （もっと読む）

【課題】一般に有機系の液体が適用されて環境への影響が懸念される酸化防止液を、廃液量を極力少なく抑えた上でウェハ表面の全面に均一に塗り、各処理工程中に待機状態にあるウェハの表面酸化を抑制し、さらには処理後の製品ウェハを、表面を保護した状態で格納する表面劣化を防止する塗布装置、塗布方法、研磨洗浄装置及び研磨洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は上記目的を達成するために、酸化防止液供給部材３８をウェハＷに近接又は接触させて相対的に移動させるとともに酸化防止液供給部材３８の上部に供給された酸化防止液を、酸化防止液供給部材３８に沿ってウェハＷに塗る酸化防止液供給手段６Ｃを有し、酸化防止液供給部材３８と酸化防止液との界面張力又は毛細管現象を利用することによりウェハＷに酸化防止液を塗る表面劣化を防止する塗布装置、塗布方法、研磨洗浄装置及び研磨洗浄方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】スピンコート装置の回転軸と同心円方向に発生する膜厚ムラを低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。
【解決手段】被塗布物９が載置され、被塗布物９と一体化された状態で回転されるテーブル２と、被塗布物９に塗布液を供給する塗布液供給手段４と、テーブル２を回転させる回転手段５とを備え、塗布液供給手段４が、少なくとも被塗布物９全面に対向して設けられ、テーブル２の回転軸２ａに近い領域ほど単位面積あたりの供給量を少なくした前記回転軸２ａを中心とする同心円状の供給量分布で塗布液を供給するノズル６１を有するスピンコート装置とする。 （もっと読む）

【課題】 基板上の感光性材料の成分が露光装置における液体中に溶出することを防止できる基板処理装置を提供することである。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、洗浄処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。インターフェースブロック１４に隣接するように露光装置１５が配置される。洗浄処理ブロック１３は洗浄処理部８０を備える。レジスト膜用処理ブロック１１において基板Ｗ上にレジスト膜が形成される。露光装置において基板Ｗに露光処理が行なわれる前に、洗浄処理部８０において基板Ｗの洗浄および乾燥処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】 膜厚分布の少ない被膜を形成するスピンコート用基板を提供し、膜厚分布の少ない被膜を有するセンサー用固体基板を提供すること。
【解決手段】 基板の外周部の一部または全周にわたって、塗布面以外の面を塗布面に隣接して有することを特徴とするスピンコート用基板。 （もっと読む）

バッチスプレイ方法は、ターンテーブル上に搭載される基板を設置するステップと、ターンテーブルの中心軸まわりに基板を回転させるためにターンテーブルを回転させるステップと、ターンテーブルから独立して基板を回転させるステップであって、基板の回転がターンテーブルの回転と同時に生ずるステップと、少なくとも１つの固定位置から基板上に化学物質を定量供給するステップとを含む。ターンテーブルから独立して基板を回転させることは、基板の全周が化学物質の噴射に晒されることを可能とする。一実施例では、基板は、プロセスカセット内に装着されてもよく、プロセスカセットは、ターンテーブル上に搭載され、プロセスカセットは、ターンテーブルが回転している間、ターンテーブルから独立して回転してもよい。

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【課題】基板表面における膜形成において、生産性を低下させることなく、パーティクルの発生を防止できる成膜方法および成膜装置、かかる成膜方法により形成された膜を提供すること。
【解決手段】成膜装置１は、液状の膜形成材料が塗布されるウエハＷを回転支持するウエハ支持部２と、膜形成材料をウエハＷに塗布法により供給して膜を形成する膜形成材料供給部４と、ウエハＷの一方の面の縁部および他方の面の縁部に撥液材料を供給して撥液膜を形成する撥液膜形成部５とを備え、ウエハＷの一方の面に液状の膜形成材料を膜形成材料供給部４から供給するのに先立って、ウエハＷの一方の面の縁部および他方の面の縁部に、撥液材料を撥液膜形成部５から供給して撥液膜を形成することにより、ウエハＷの他方の面側に前記膜形成材料が浸入するのを防止するものである。 （もっと読む）

【課題】処理溶液の圧力を測定するための圧力センサを含むスピンコーティングシステム、特にその装置を提供する。
【解決手段】基板上に処理溶液をスピンコーティング処理するのに有効な方法及び装置を開示する。この方法及び装置は、処理溶液の圧力、即ち、分配器から処理溶液の開始または終了に関係した圧力を検出するための圧力センサ218を含む。好ましい方法及び装置は、分配ライン215におけるフォトレジスト、現像液、水、溶媒、または洗浄剤の圧力を測定する。また、この方法及び装置は、割り込み動作を含むパラレル制御方法を含む処理制御システムを包含する。
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【課題】レンズの曲面の少なくとも１部分を偏光液でコーティングする方法を提供する。
【解決手段】１つの方法は、曲面とレンズ軸を有するレンズを準備する工程と、偏光液が前記曲面の少なくとも１部分の上に流れるように、回転軸を中心として前記レンズを回転させる工程とを備え、前記回転軸は前記レンズ軸からオフセットされている。他の方法も記載されている。装置には、上述の方法のいずれかに従って形成された偏光コーティングを有する眼科用レンズが含まれる。 （もっと読む）