【課題】高精度に量を規定して流体を送出する。
【解決手段】円筒状部材４と円柱状部材２とを有し、円柱状部材２を中心軸１０周りに回転することで、第１貫通孔群４αと溝部２ｂとが接続される第１の接続状態と、第２貫通孔群４βと溝部２ｂとが接続される第２の接続状態と、第１の接続状態と第２の接続状態との間における、溝部２ｂが円筒状部材４の内周面４ｅで塞がれている閉塞状態とが切り替えられる流路規定部材２０である。第１の状態において溝部２ｂに充填された流体を、第２の状態において第２貫通孔群から吐出させ、溝部２ｂに対応する量の流体を排出する。 （もっと読む）

【課題】光源の特徴に対応して、光源の機能を好適に維持することができるように、光源の温度を調整することができる照射装置を提供する。
【解決手段】照射装置は、光源管の内面の一部分に配置されたアマルガム合金体を備える光源と、光源が内部に配置されているチャンバーと、を備え、チャンバーは、チャンバー本体と、チャンバー本体に形成された第１気体流入口及び第１気体流出口と、記第１気体流入口からチャンバー本体内に流入する気体を、前記光源管における前記アマルガム合金体が配設された部分の外面に当たる方向に導く第１導流体と、を備える。また、光源は、放電電極を備えており、チャンバーは、チャンバー本体に形成された第２気体流入口及び第２気体流出口と、第２気体流入口からチャンバー本体内に流入する気体を、前記光源管における前記放電電極が配設された部分の外面に当たる方向に導く第２導流体と、をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】液状樹脂の廃棄を少なくして、樹脂膜の形成コストを低減すること。
【解決手段】本発明の樹脂膜形成装置（２）は、ウェーハ（Ｗ）を保持する吸着面（６１）を囲むように環状凸部（６５）が設けられた成膜用テーブル（２２）と、成膜用テーブル（２２）の環状凸部（６５）に当接して、ウェーハ（Ｗ）上方に液密な空間（Ｓ）を形成する塗布部（２３）とを備え、塗布部（２３）には、液密な空間に液状樹脂を供給する供給口（７４）と、ウェーハ（Ｗ）の外周側に対向する位置において液密な空間（Ｓ）内を吸引する吸引溝（７６）とが形成され、成膜用テーブル（２２）と塗布部（２３）とを相対的にスライドさせる構成にした。 （もっと読む）

【課題】高粘度の塗布液を、無駄なく均一に基板上に塗布する。
【解決手段】レジスト塗布装置１の塗布ノズル３３は、その内部にレジスト液Ｒを貯留する貯留室６２が形成された本体部６０と、本体部６０の下面に形成され、レジスト液Ｒの表面張力によりその先端にレジスト液の液溜りを形成するスリット状の吐出口６１と、貯留室６２と吐出口６１とに連通するレジスト液流路６３と、を備え、レジスト塗布装置１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に上下方向及び水平方向移動させる移動機構と、前記貯留室内部の圧力を調整する圧力調整機構７１と、を有している。圧力調整機構７１は、塗布ノズル３３とウェハとを相対的に移動させてウェハにレジスト液Ｒを塗布する間、吐出口６１からのレジスト液Ｒの吐出量が一定となるように、貯留室６２内部の圧力を調整し、且つ負圧に維持する。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドのノズルから塗布液を吐出して塗布液の塗膜を形成しつつ、塗布液の塗膜の表面をより平滑にすることができる塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッドに設けられる複数のノズルから塗布液の液滴を基板Ｗに吐出させ、基板Ｗの周縁部における膜厚に比べて基板Ｗの中央部における膜厚が厚い塗布液の塗膜Ｆを形成する工程と、基板Ｗを回転させて基板Ｗの中央部から周縁部に向けて塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程と、を備える塗布方法である。塗膜Ｆ内の塗布液を移動させる工程では、塗膜Ｆを形成している基板Ｗ上の塗布液は基板Ｗの中央部から周縁部に向かって移動するので、基板の中央部と基板の周縁部との間で塗膜の膜厚の差が減少し、塗膜の膜厚を略均一にすることができる。同時に、塗膜Ｆ内の塗布液が動くことによって、塗膜Ｆの表面をより平滑にすることができる。 （もっと読む）

【課題】液滴が衝突する基板内の衝突位置での膜厚のばらつきを低減することにより、処理の均一性を向上させること。
【解決手段】洗浄ノズル５は、複数の噴射口３１が形成された噴射部６と、吐出口３６が形成された吐出部７とを含む。複数の噴射口３１は、複数の液滴がそれぞれ基板Ｗ内の複数の衝突位置Ｐ１に衝突するように形成されている。吐出口３６は、各衝突位置Ｐ１からの距離Ｄが等しい基板Ｗ内の着液位置Ｐ２に保護液が着液するように形成されている。洗浄ノズル５は、吐出口３６から吐出された保護液の液膜によって覆われている基板Ｗに複数の噴射口３１から噴射された複数の液滴を衝突させる。 （もっと読む）

【課題】液膜の幅を安定させることができるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４の長手方向Ｘ１の両端にそれぞれ配置された一対のガイド部４６とを含む。一対のガイド部４６は、長手方向Ｘ１に間隔を空けて対向する一対のガイド面６６をそれぞれ含む。一対のガイド部４６のそれぞれには、ガイド面６６より凹んだ凹部６８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】塵ＰおよびレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去する。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに液状の被覆剤Ｃを塗布して、基板Ｗの周縁部Ｅに付着した塵Ｐを液状の被覆剤Ｃによって覆う。そして、基板周縁部Ｅに付着した塵Ｐを覆う被覆剤Ｃを硬化させることで、当該塵Ｐを硬化された被覆剤Ｃの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Ｃを基板Ｗの周縁部Ｅから除去することで、基板Ｗの周縁部Ｅから塵Ｐを除去することができる。さらに、基板Ｗの周縁部Ｅに被覆剤Ｃを塗布した後に、基板表面ＷfにフォトレジストＲを塗布するため、基板Ｗの周縁部Ｅでは、フォトレジストＲは被覆剤Ｃの上に塗布される。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅから被覆剤Ｃを除去した際には、被覆剤Ｃの上に塗布されたフォトレジストＲも被覆剤Ｃとともに基板Ｗの周縁部Ｅから除去される。こうして、塵ＰおよびフォトレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去できる。 （もっと読む）

【課題】 ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスが容易なノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置を提供する。
【解決手段】 洗浄機構６０は、超音波振動子１５を収納するとともに、この超音波振動子１５を冷却するための冷却水１３を貯留する冷却水貯留部１１を備える。また、洗浄機構６０は、冷却水貯留部１１に貯留された冷却水１３中にその下面が浸漬された状態で配設され、その内部に溶液１４を貯留する溶液貯留部１２を備える。スリットノズル４１を溶液１４中に浸漬した状態で超音波振動子１５が超音波振動を発振した場合には、この超音波振動は、冷却水１３および溶液貯留部１２を介して溶液１４に伝達される。 （もっと読む）

【課題】気泡を含む液体が基板などの対象物に供給されることを抑制または防止できるスリットノズルおよびこれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スリットノズル１１は、長手方向Ｘ１に延びるスリット状の吐出口５４が形成された吐出部４５と、吐出口５４に供給される液体が流通する液体流路５５が形成された供給部４３と、液体流路５５を上流側と下流側とに仕切っており、上流側と下流側とを接続する複数の第１接続路６４が形成された第１拡散板４７とを含む。 （もっと読む）

【課題】処理液中に混入している気泡を除去する脱気性能を向上させることができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに処理液を吐出する吐出ノズル５１ａと、吐出ノズルを保持してウエハＷ側に移動可能に形成されるノズルアーム６０と、ノズルアームと処理液供給源を接続する処理液供給管７１ａと、ノズルアームに配設され、吐出ノズルと処理液供給管を接続し、気液分離機能を有する部材により形成される気液分離管８０ａと、ノズルアームに配設され、気液分離管の周囲を密閉する密閉室６１と、密閉室内を減圧して脱気する脱気機構８５と、を具備する。これにより、脱気機構により密閉室内を減圧して気液分離管を流れるレジスト液Ｒから気泡Ｂを除去することができる。 （もっと読む）

【課題】塗布液の粘性やぬれ性を制御して膜厚を制御する。
【解決手段】塗布装置１は、基板Ｗを支持するステージ２と、前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に塗布材料を吐出する材料吐出ノズル７と、前記材料吐出ノズルとともに前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に気体を噴射する気体噴射ノズル８と、を一体に備える塗布ヘッド４を備えた。 （もっと読む）

【課題】円形の基板の周縁部に塗布液を塗布してリング状の塗布膜を形成するにあたり、その幅を均一性高く形成することができる技術を提供すること。
【解決手段】基板の回転及びノズルからの塗布液の供給を行いながら、塗布液の供給位置を基板の外側から基板の周縁部に向けて移動させ、当該基板を平面で見たときにその角度が１０°以下である楔型に塗布液を塗布し、次いで、基板の回転及び塗布液の供給を続けたままノズルの移動を停止し、基板の周縁部に沿って帯状に塗布液を塗布し、この帯状に塗布された塗布液の端部を前記楔型に塗布された塗布液に接触させ、基板の全周に亘って塗布液を塗布する。 （もっと読む）

【課題】気泡を含まない処理液を被処理体に塗布する装置を提供する。
【解決手段】被処理体８に処理液を滴下するノズル１６と、処理液の供給源７と、ノズルと供給源との間に設けられ供給源からの処理液を一旦貯留した後にノズルに供給する中継容器１０と、中継容器を制御する制御部とを備え、中継容器は有底のシリンダー９と、シリンダー内に摺動自在に設けられたピストン９ａと、ピストンの駆動源５と、シリンダーに設けた気泡排出口３と、ピストンの位置Ｐを検出するセンサ６とを備え、中継容器に貯留される処理液の体積に応じてピストンが移動し、制御部は、供給源から中継容器へ体積Ｖｓの処理液が吐出されたとき、位置Ｐに基づいて貯留空間の容積Ｖｐを算出し、Ｖｐ＞Ｖｓであるとシリンダー内の処理液が気泡を含むと判断し、駆動源によりピストンを駆動して気泡を含む処理液を気泡排出口から排出する。 （もっと読む）

【課題】処理液中の異物を除去する清浄性能と、処理液中に混入している気泡を除去する脱気性能を同時に向上させることができる液処理装置及び液処理方法を提供すること。
【解決手段】レジスト容器１３に第１管路２６を介して接続する一時貯留容器４０と、一時貯留容器に第２管路２７を介して接続される供給ノズルと、一時貯留容器内を負圧にして、処理液内に混入した気泡を排出するための脱気機構３２と、一時貯留容器内に形成され、第１管路を介して供給される処理液を貯留する流入槽４１と、流入槽からオーバーフローした処理液を貯留すると共に、第２管路２７が接続する流出槽４３と、流出槽と第１管路を接続する第３管路２８と、第１管路と第３管路の接続部に介設される切換弁３１と、流出槽から第３管路及び第１管路を介して流入槽への処理液の供給を行う供給・循環用ポンプＰ２と、第３管路に介設され、異物・気泡を除去するフィルタ５０と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 基板の周辺領域にレジスト等の樹脂膜を効率良く形成することができ、半導体素子製造におけるスループット向上に寄与する。
【解決手段】 素子形成に供される基板１０上の周辺部に樹脂膜を塗布する塗布装置であって、基板１０が載置され、少なくとも１８０度回転可能な回転テーブル３２と、基板１０の中心を通る第１の方向（Ｘ方向）軸で２分割された第１の基板周辺領域及び第２の基板周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置してなり、該ノズルが基板１０の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部５０と、基板１０と樹脂膜形成ヘッド部５０を相対的に、第１の方向とは直交する第２の方向（Ｙ方向）に移動させる移動機構４５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】カップ部を昇降する昇降ユニットの高さを低減することを図る。
【解決手段】昇降ユニット５０は、第１シャフト５４１、ボールねじナット５４２およびスプラインナット５４３を有するボールねじスプライン５４を備え、第１シャフトはカップ部に固定される。サーボモータ５６の第２シャフト５６１は、第１シャフトに略平行であり、第１シャフトに垂直な方向において少なくとも一部が第１シャフトに対向する。これにより、昇降ユニットの高さが低減される。ボールねじナットおよび第２シャフトには互いに係合する第１および第２平歯車５７１，５７２がそれぞれ固定され、第１シャフトを昇降する際に、第２シャフトの回転がボールねじナットに減速して伝達される。これにより、昇降ユニットでは、カップ部の位置を保持する際にサーボモータにおいて必要となる回転トルクが小さくなり、消費電力の削減が図られる。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物の表面及び裏面に相対位置精度良くパターンを形成する。
【解決手段】塗布装置１は、塗布対象物Ｗの表面Ｗａ及び裏面Ｗｂに液を塗布してパターンを形成する塗布装置であって、液をノズルから吐出する塗布ヘッド４と、塗布対象物Ｗを撮像可能な撮像部６と、塗布ヘッド４のノズルから吐出された液によって塗布対象物Ｗの表面Ｗａに形成されたパターンを撮像部６により撮像した撮像画像に基づいて、塗布対象物Ｗの表面Ｗａに形成されたパターンの位置を検出し、その検出した位置に基づいて塗布ヘッド４による塗布対象物Ｗの裏面Ｗｂに対する液の塗布位置を調整する制御装置９とを備える。 （もっと読む）

【課題】小径の処理液の液滴を均一に噴霧できる２流体ノズル及び同２流体ノズルを用いた基板液処理装置並びに基板液処理方法を提供すること。
【解決手段】本発明では、液体吐出部（４８）から吐出した処理液と気体吐出口（５２）から吐出した気体とを混合して生成した処理液の液滴を被処理体に向けて噴霧する２流体ノズル（３４）及び同２流体ノズル（３４）を用いた基板液処理装置（１）並びに基板液処理方法において、液体吐出部（４８）は、気体吐出口（５２）の内側に円周中心部に対して外側方向へ向けて処理液を吐出する複数の液体吐出口（４７）を同一円周上に配置することにした。 （もっと読む）

【課題】 塗布液の消費を極力抑制しつつ吐出孔からの塗布液の吐出状態の良否を判定し、良好な塗布状態を維持可能な塗布液の塗布装置を提供する。
【解決手段】 塗布ヘッド７の吐出面７ａに一列に配列されて設けられた複数の吐出孔７ｂから、それぞれの吐出孔７ｂに対応して設けられた圧電素子７ｅの駆動によって各吐出孔７ｂから塗布液の液滴を吐出させ基板Ｗ等の塗布対象物上に塗布液を塗布する塗布液の塗布装置において、所定周波数の振動を発生させる発振装置としての超音波発振装置８と、この超音波発振装置８の発振に伴って圧電素子７ｅから出力される出力信号に基づいて吐出孔７ｂからの塗布液の液滴の吐出状態の良否を判定する制御装置１３とを備える。 （もっと読む）