【課題】基板搬送時の振動等により発生する基板の高さのばらつきをリアルタイムで補正することができ、より高精度な露光を実現する近接スキャン露光装置及びその露光方法を提供する。
【解決手段】マスクMに近接しながらX方向に搬送される基板Wに対してマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構２０と、マスクＭを保持するマスク保持部７１と、マスク保持部７１を駆動するマスク駆動部７２と、基板搬送機構２０に搬送される基板Ｗと、マスク保持部７１に保持されるマスクＭとの間のギャップを検出するギャップセンサ１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃと、を備える。そして、マスク駆動部７２は、露光動作中、ギャップセンサ１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃによって検出されたギャップに基づいてマスク保持部７１を上下方向に駆動する。 （もっと読む）

【課題】描画装置の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減できるとともに、光学部品毎の調整負担やコストも低減でき、かつ、照射光の数を容易に増減させることができる描画装置を提供する。
【解決手段】基板９の上面にパルス光を照射するための複数の光学部品を、パルス光ごとに照射ユニット４０として一体化する。そして、照射ユニット４０ごとに予め複数の光学部品の位置や光軸を調整しておき、調整済みの照射ユニット４０を装置上に取り付ける。このため、装置上において複数の光学部品の調整を行う必要はなく、パターン描画装置１の組み立てやメンテナンスに掛かる時間を低減できる。また、照射ユニット４０全体として高精度に調整されていればよいため、光学部品毎の調整負担やコストも低減できる。更に、照射ユニット４０の数を増減させることにより容易に照射光の数を増減させることもできる。 （もっと読む）

【課題】レジストの膜厚分布を測定することなく、所望の線幅の配線パターンを形成する。
【解決手段】薄膜が形成された基板上に塗布したレジストを画像データによりオンオフ制御される露光機８０により走査露光した後、現像、エッチングを行い薄膜による所望の線幅のパターンを形成する際、ベーク温度測定器１０２によりプリベーク時において基板Ｆの温度を測定し、予め求めておいた、プリベーク時の基板温度とレジスト感度との関係から、測定した前記基板の温度に対するレジスト感度を算出し、さらに、予め求めておいた、エッチング後の線幅に対する露光量とレジスト感度との関係から、算出した前記レジスト感度に対するエッチング後の線幅補正量を決定し、決定した線幅補正量により、前記所望の線幅とするための露光機８０の設定露光量を補正する。 （もっと読む）

【課題】描画ステージに対する基板の載置位置及び載置姿勢を高精度に検出するとともに、基板の両面の所定の位置にパターンを高精度に描画する。
【解決手段】露光ステージ１８に載置された基板Ｆの一方の面の輪郭部分９８ａ〜９８ｄをＣＣＤカメラ２２ａ〜２２ｄによって撮像し、載置位置及び載置姿勢を算出して描画データを補正し、補正された描画データに基づいてパターンを露光記録した後、基板Ｆを反転させ、同様にして他方の面に描画データを露光記録する。 （もっと読む）

【課題】基板上に主たるパターンと当該パターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを適正な位置関係で描画することができる描画装置および描画方法を提供する。
【解決手段】パターン描画装置１は、光学ヘッド３２の照射位置と各アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の照射位置とを共通のキャリブレーションカメラを使用して計測し、アライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４の位置を補正することにより、光学ヘッド３２とアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４との相対的な位置関係を適正化させる。このため、パターン描画装置１は、光学ヘッド３２による規則性パターンとアライメント描画ヘッド４１，４２，４３，４４によるアライメントマークＡＭ１〜ＡＭ４とを、基板９上に適正な位置関係で記録することができる。 （もっと読む）

【課題】床面占有面積の増加を防ぎ、且つケーブル類の長尺化を抑制して露光精度の向上を図る。
【解決手段】デジタル露光装置２は、装置本体３、画像処理ユニット４ａ〜４ｊ、載置台５、光源ユニット６ａ〜６ｔ、光ファイバ２２、信号ケーブル２１を備える。装置本体３の上方に載置台５が配され、この載置台５の上面に画像処理ユニット４ａ〜４ｊ及び光源ユニット６ａ〜６ｊを載置した２階建て構造となっている。画像処理ユニット４ａ〜４ｊ及び光源ユニット６ａ〜６ｔは、装置本体３に内蔵される露光ヘッドに近接する位置に配設している。 （もっと読む）

【課題】ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストアップを抑制することができる光記録媒体用原盤の製造方法、及び光記録媒体用未露光原盤とその製造方法の提供。
【解決手段】基盤上の第１エリアに深い凹部を有すると共に、第２エリアに浅い凹部を有する光記録媒体用原盤の製造方法に用いられる光記録媒体用未露光原盤において、前記基盤上に、第一のフォトレジスト層、中間層、及び第１エリアに対応して設けられる高感度フォトレジスト領域と第２エリアに対応して設けられる低感度フォトレジスト領域から成る第二のフォトレジスト層が積層されていることを特徴とする光記録媒体用未露光原盤。 （もっと読む）

【課題】ピットの相対位置の精度を低下させることなくピットの絶対位置の精度を向上させることができる露光ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】回転体１３の所定の回転角ごとに検出される位相誤差から回転体１３の任意の回転数にわたる位相誤差の平均値が差し引かれる。こうして算出される非定常誤差は回転体１３の回転に非同期の誤差に相当する。非定常誤差に基づき偏向器２４の動作は制御される。露光ビームの偏向方向は微調整される。その結果、ピットの相対位置精度の低減は回避される。その一方で、前述の位相誤差の平均値に基づき第２定常誤差が算出される。第２定常誤差は、スケール誤差を除去した真の定常誤差に相当する。第２定常誤差に基づきブランカ２３の動作は制御される。回転体１３上に正確なタイミングで露光ビームが照射される。その結果、ピット形成領域の絶対位置の精度は向上する。 （もっと読む）

【課題】加工精度を維持しつつ、安定した状態で基板の搬送及び加工を行うことを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、搬送領域５１及び加工領域５３及び搬送領域５５に、それぞれ、搬送領域エア浮上装置１１及び加工領域エア浮上装置１３及び搬送領域エア浮上装置１５が設けられる。加工領域エア浮上装置１３は、搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５と比較して、要求精度が高く、基板３の浮上量が小さい。加工領域エア浮上装置１３と、搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５との間には、基板３の浮上量に応じた段差が設けられる。搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５の上面の高さが、加工領域エア浮上装置１３の上面の高さと比較して、基板３の浮上量差の分だけ低くなるように、各装置が組み付けられる。 （もっと読む）

【課題】被照射物の位置合わせを行い、精度良くレーザビームを照射するレーザ照射装置及びレーザ照射方法を提供する。また、レーザビームの所望の照射位置に精密に照準を合わせる方法を用いて、信頼性の高いＴＦＴを作製する方法を提供する。
【解決手段】マーカー付き基板を、赤外光透過材料で形成されたステージ上に載置し、ステージ上に載置されたマーカー付き基板に設けられたマーカーを、赤外光を検知可能なカメラによって検出して、ステージの位置を制御し、レーザ発振器からレーザビームを射出し、レーザ発振器から射出されたレーザビームを光学系によって線状に加工し、ステージに載置されたマーカー付き基板に照射する。 （もっと読む）

【課題】回路構成を複雑にすることなく、ＤＭＤによって照射される位置を考慮して露光データを作成する装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、露光のために使用されるベクタデータである描画データに基づいて作成されるラスタデータである露光データを作成する制御部１０を備える。露光のために使用され、露光データに基づいて駆動されるＤＭＤを有する露光部１５を備える。ＤＭＤによって照射される描画エリア２３と、ＤＭＤによって照射される位置に関する情報を検出するフォトダイオードを有するＰＤ群を有する位置検出部２２とを有する描画部２０を備える。制御部１０は、位置検出部２２によって検出された位置に関する情報を考慮して、露光データを作成する。 （もっと読む）

【課題】走査領域の繋ぎ目に生じるムラを緩和できるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】パターン描画装置では、主走査方向への複数回の露光走査によってパターンの描画が行われる。先行の露光走査と後続の露光走査との間で基板９に対して露光ヘッドを副走査方向に相対移動する幅ｈは、一つの走査領域Ａｓの副走査方向の幅ｗよりも短くなっている。このため、先行の露光走査と後続の露光走査とで走査領域Ａｓの一部が重複される。したがって、隣り合う走査領域Ａｓの繋ぎ目には、先行の露光走査及び後続の露光走査の二度の露光走査が行われる重複範囲Ｂ１が形成される。重複範囲Ｂ１では、露光ヘッドの両端部の不均一特性の影響を混和させて均すことができるため、走査領域Ａｓの繋ぎ目に生じるムラを緩和できる。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ方式を用いて複数のショットを行う露光において、スループットを向上させる。
【解決手段】フォトマスク２０のパターンをガラス基板１ａ，１ｂに露光する露光位置と、ガラス基板１ａ，１ｂを搭載して移動するステージと、ステージ上にガラス基板１ａ，１ｂをロード乃至アンロードする複数のロード／アンロード位置ａ，ｂとを備え、ステージは、ロード／アンロード位置ａ，ｂと露光位置との間でガラス基板１ａ，１ｂを移動し、露光位置でガラス基板移動方向と直交する方向に当該ガラス基板１ａ，１ｂを移動する機構を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上の描画領域の周囲の非描画領域に容易に光を照射する。
【解決手段】パターン描画装置１では、ネガ型の感光材料が主面上に形成された基板９に対して、第１光照射部４からの光の照射領域を相対移動することにより、描画領域に液晶表示装置の画素パターンが描画される。また、第１光照射部４のアパーチャを交換し、ポジ型の感光材料が主面上に形成された基板９に対して照射領域を相対移動しつつ、主走査方向に関して描画領域を等分割した分割領域に照射領域が一致する毎に瞬間的な光の照射を行うことにより、描画領域の液晶配向制御用の突起パターン以外の部分に光が照射される。第２光照射部５では、描画領域および非描画領域を横断する照射領域を当該基板に対して相対移動しつつ、照射領域のうち光の照射が遮られる領域を変更することにより、非描画領域のみに光が照射される。これにより、非描画領域に容易に光を照射することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の深さ／高さを有する凹凸パターンが形成された光ディスク原盤を、がたつき無く高精度に、かつプロセスの増加を抑え高歩留まりに安定して作製することが本発明の課題である。
【解決手段】昇温で状態変化する無機レジスト材料を用い、基板上にそれぞれ異なる温度で状態変化する第１無機レジストと第２無機レジストを順次成膜する成膜工程と、成膜後の基板を露光し、第１無機レジストまたは第２無機レジストのどちらか一方のみを状態変化させる第１露光工程と、第１無機レジストと第２無機レジストの両方を状態変化させる第２露光工程と、露光された基板を現像し複数の深さ／高さの凹凸パターンを形成する現像工程を少なくとも有する原盤製造方法によりこれを解決する。 （もっと読む）

【課題】短ピット形状の、隣接トラック上の長ピット露光ビームのエアリーリングの過剰露光による形状変化の影響を低減したピット形状形成を達成できる光ディスク原盤露光方法を実現する。
【解決手段】フォトレジストを塗布したガラス基盤５に、記録すべきピット情報に基づいて変調されたレーザ光１を照射し、光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤露光装置であり、隣接するトラック上に形成される長ピットに応じて短ピットの露光ビーム強度を制御する。パルスジェネレータ１３から各トラックのフォーマット信号送出クロックＣＬＫをフォーマッタシステム１５に送出し、さらに短ピット露光ビーム強度制御回路１７にピット露光データ信号を送出し、回路１７から光変調器３にピット形成信号を送出することにより、短ピットを形成する。２は露光光学系、４はフォーカスアクチュエータである。 （もっと読む）

【課題】マスクレス露光機及びこれを用いた表示装置用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】水平、垂直方向に移動可能なスキャンステージ２０の上面に設けた基板２２の上部には、露光を行う光を発生させる光ユニット３０が設けられる。また、光ユニット３０を通過した光は、ＤＭＤユニット４０に伝達される。前記ＤＭＤユニット４０には、前記基板２２の表面にパターンを形成するために、光を選択的に反射させるＤＭＤ４２が設けられる。前記ＤＭＤ４２は、複数の列に配列され、互いに異なる列に位置するＤＭＤ４２は、一端が部分的に重なって形成される。したがって、前記ＤＭＤ４２において、前記基板２２にスキャンする際に発生するスキャンムラが２つの直線上に不連続的に形成された場合でも、使用者がディスプレイを視聴するとき、これを認識しなくなる。 （もっと読む）

【課題】ワーク上の基準マーク位置がずれていてもラインアウトせず、処理効率の低下しにくい露光装置のアライメント方法および露光装置を得る。
【解決手段】カメラ１８で撮影した基準マークの画像データを基に基準マークの重心位置ズレ量（Ｘ、Ｙ、θｚ）を算出したのち、搬送システムによってＸ方向ズレ量分だけ、基板Ｐを露光ステージ４０上に置き直すことで重心位置ズレ量（Ｘ）を補正し、図３（Ｂ）に示すように露光システムに搭載されたθ回転ステージ機構４１によりθｚズレ量分だけ露光ステージ４０を回転させ、重心位置ズレ量（θｚ）を補正する。最後にＹ方向ズレ量の分だけカメラ１８による基準マークの撮影タイミングを変更（進める／遅らせる）し、再度カメラ１８にて基準マークを撮影する。 （もっと読む）

【課題】搬送されるステージ上に載置されたワークに設けられたアライメントマークの位置の測定誤差を抑制する。
【解決手段】ＣＣＤカメラ３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃによってワーク１２に設けられたアライメントマーク１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆを撮像する時点での、ステージ１４の正規位置に対する位置の誤差を測定し、この測定結果に応じて、ＣＣＤカメラ３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃの撮影画像から算出される撮像時点でのアライメントマーク１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ、１８Ｅ、１８Ｆの位置の算出結果を補正する。 （もっと読む）

【課題】特に周縁部が複雑な反り形状であるプリント配線基板等のワークの周縁部をステージ上に確実に固定できるワークの搬送方法と露光システムを得る。
【解決手段】基板Ｐに反りが発生すると吸引口４６からのエアーの吸引力だけでは充分に基板Ｐを露光ステージ４０上に吸着・保持（固定）することが困難となるため露光ステージ４０に搭載されたクランプ４４を移動させて基板Ｐの周縁部を押さえ、更に吸引口４６からのエア吸引で基板Ｐを露光ステージ４０上に吸着する。搬送部１２側の吸盤３２と露光部１４側のクランプ４４が入れ子となるよう構成することで、基板Ｐの状態に関わらず、各種基板サイズに自動で切替が可能となる。 （もっと読む）