【課題】情報記録媒体の製造コストを低減する。
【解決手段】情報記録媒体製造用の凹凸パターンを形成するための露光パターンＰを描画可能に構成され、ビーム出力部は、その有効描画幅が各パターンＰＳＯ１，ＰＳＯ２・・の幅および長さよりも狭い電子ビームＥＢを出力可能に構成され、制御部は、基準信号生成部によって基準信号Ｓ１が出力されたときに予め規定された時間ｔ１ｗ，ｔ２ｗ・・だけ待機した後にビーム出力部に電子ビームＥＢを出力させてパターンＰＳＯ１，ＰＳＯ２・・における幅方向の一部（描画領域ＰＳＯ１１，ＰＳＯ１２・・）を描画する部分描画処理と、部分描画処理による描画位置を回転中心側に有効描画幅の範囲内で変更する描画位置変更処理とを交互に複数回実行して露光パターンＰを描画すると共に、部分描画処理の都度、待機時間を変化させて上記の各描画位置をスキュー角θＯに対応させて回転方向に沿って位置ずれさせる。 （もっと読む）

【課題】生産の流れを阻害することなく、露光装置による描画を精度よくモニタリングし、そのデータから校正用データを抽出し、該露光装置にフィードバックスするマスクレス露光方法を提供する。
【解決手段】第１方向に走査し、該第１方向に交差する第２方向に走査領域がずらされた後、該第２方向に重なり部分を有するように第１方向に走査することによって、重なり部分を有して隣接する一対の走査領域であって、前記重なり部分の近傍に前記回路パターンと異なる複数のマークを露光し、前記マークは、少なくとも前記重なり部分の一方の側に２個および他方の側に２個で１セットをなすマークで構成され、これら複数のマークの距離のずれの計測によって、互いに隣接する走査領域の前記第１方向と第２方向のずれと前記第１方向に対する前記投影光学系の露光光の傾き及び走査露光中に発生したステージのヨーイング角を解析し、この結果から校正データを得る。 （もっと読む）

【課題】被露光領域の走査露光を複数回の往復走査で行う場合に全体の処理時間を短縮することができるパターン描画装置の提供。
【解決手段】対象物に光を照射する投光器と、投光器から照射された光の反射光の光量分布を検出するラインセンサと、露光ヘッド、投光器、ラインセンサを往復走査させる主走査機構と、光量分布のピーク部分の重心位置を算出する重心位置算出部と、重心位置と目標位置との差に基づいて露光ヘッドの光学系を移動させる距離を算出する移動距離算出部と、その距離に基づいて光学系を移動させる移動部とを備え、露光ヘッドが対象物上を主走査方向に沿って走査露光しているとき、ラインセンサは、露光ヘッドが走査露光中の走査列の近傍に位置する走査列であって後で露光ヘッドが走査露光する走査列からの反射光の光量分布を検出する。 （もっと読む）

【課題】記録層として金属を含む無機レジスト層を用いた場合における記録層の酸化防止した光学情報記録媒体製造用の原盤を提供する。
【解決手段】光学情報記録媒体製造用の原盤は、基板上に設けられた無機レジスト層と、無機レジスト層を被覆する透光性の保護層と、を備える。 （もっと読む）

【課題】レジスト上に所望の微細パターンを電子ビームにより描画する電子ビーム描画方法において、微細パターンを描画する時間を短縮する。
【解決手段】レジスト１１が塗布され回転ステージ４１に設置された基板１０上に、回転ステージ４１を回転させつつ電子ビームＥＢを走査して所望の微細パターンを描画する電子ビーム描画方法において、微細パターンの描画を、回転ステージ４１の半径方向位置における線速度が一定となるように、該回転ステージ１４の回転速度を、描画位置の半径に反比例して内周トラック描画で速く外周トラック描画で遅くなるように回転制御して行うものとし、この微細パターンを描画する前に、レジスト１１に予備露光を施す。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBを基板10の半径方向または半径方向と直交する方向に微小往復振動させるとともに、その振動方向と直交する方向に偏向してエレメントの形状を塗りつぶすように走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、前記偏向速度を疎配置部の同一エレメント描画での偏向速度より速く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。 （もっと読む）

【課題】マイクロミラーの歪み等に起因するマイクロミラーの投影された像形状の歪みをなくし、分解能を向上させる。
【解決手段】デジタル露光装置の露光ヘッド１８には、複数のマイクロミラーによって光源からの光を変調するＤＭＤ５６と、各マイクロミラーからの光を個別に集光するマイクロレンズ６３ａが形成されたマイクロレンズアレイ６３と、各マイクロレンズ６３ａに対応したフィルタ６４ａが形成されたフィルタアレイ６４とが設けられている。各フィルタ６４ａは、マイクロレンズ６３ａで結像されるマイクロミラーの像の歪みを整形するために設けられ、周縁に向かうほど光の減衰を大きくするように透過率分布を有する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、描画データに基づき、基板10の所定回転位置でオン信号により電子ビームを照射し、その回転に追従して回転方向に描画し、オフ信号で描画を停止するオン・オフ制御で１周分を描画した後、ビーム照射位置を半径方向に移動させてオン・オフ制御による描画を繰り返すもので、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、オン・オフ制御のオン時間を、疎配置部の同一エレメント描画でのオン時間より短く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。 （もっと読む）

【課題】
高精度に露光量を制御し、露光量に起因したレチクルパターンの解像不良を低減し、半導体製造工程における歩留りを向上する走査型露光装置を提供する。
【解決手段】
光源からの光を原版を介して基板に照射する走査型露光装置であって、前記基板を搭載して移動する基板ステージと、前記基板ステージ上に搭載され、前記光源からの光を検出するセンサと、前記基板の露光をする前に検出した前記センサの出力にもとづいて、前記光源からの光が前記基板に到達するまでの遅延に関する補正値を算出する演算部と、前記基板の露光をする際に、前記補正値にもとづいて前記光源の出力を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく、露光対象面に適合するパターンを基板等へ確実に形成させる。
【解決手段】基板が描画システムに搬入されると、露光対象面に形成されたアライメントマークの位置を検出し、第１面の基準アライメントマークとアライメントマークのマーク間隔の誤差量から、補正アライメントマークを算出する。そして、補正アライメントマークのマーク間隔ＳＬｎｍと、計測したアライメントマークのマーク間隔ＭＬｎｍとの平均差である指標Ｓｔを算出する。同様に、第２面に対しても指標Ｓｂを算出する。指標Ｓｔ＜Ｓｂの場合、第１面が露光対象面になっていると判断し、第１面の描画データに基づき描画処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンを基板の全面に、周方向に高精度に、電子ビームの照射がオン・オフ制御でき、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、描画データに基づき、基板10の所定回転位置でオン信号により電子ビームを照射し、その回転に追従して回転方向に描画し、オフ信号で描画を停止するオン・オフ制御で１周分を描画した後、ビーム照射位置を半径方向に移動させてオン・オフ制御による描画を繰り返すもので、基板10の回転速度を描画位置の半径に反比例して内周トラック描画で速く外周トラック描画で遅くなるように回転制御する。 （もっと読む）

【課題】微小パターンの大きさを変えることなく、微小パターンを基板上の任意の位置に描画するためのクロック信号を生成する。
【解決手段】表面に所定の基準点を中心とする等ピッチ同心円トラックが規定され、電子線の照射位置に対して前記同心円トラックに対応する螺旋トラックに沿って相対移動される基板の前記同心円トラック上に入射する電子線をブランキングさせるための、第１クロック信号及び第２クロック信号を形成する。そして、第１クロック信号を用いて複数の微小パターンからなるパターン群を形成した後に、第２クロック信号を用いて電子線のブランキングを行う。これにより、第１クロック信号に基づく微小パターン群の形成を開始する位置の調整を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ワークの損傷を未然に防止した、フォトレジスト層を有するワークの加工方法を提供する。
【解決手段】露光装置３０を用いてフォトレジスト層１２を有するワーク１０を加工する加工方法である。露光装置３０の対物レンズ３５ａとフォトレジスト層１２との間に、露光装置３０が発する光を透過可能な透明シート２０を配置し、この透明シート２０を通してフォトレジスト層１２を露光する。 （もっと読む）

【課題】基板表面のセクタ内の領域に、トラックに沿って、第１の長さの複数の微小パターンからなるパターンと、第２の長さの複数の微小パターンからなるパターンとを混在させて形成する。
【解決手段】基板上の同心円トラックに沿ってパターンを描画する際に、セクタ内の第１領域内では、第１基長さに基づいて生成された第１クロック信号を用いて電子線をブランキングさせ、セクタ内の第２領域内では、第２基準長さに基づいて生成された第２クロック信号を用いて電子線をブランキングさせる。これにより、セクタ内の第１領域内に、同心円トラックに沿って第１の長さの円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成するとともに、第２領域内に、第２の長さの円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板表面のセクタ内の領域に、トラックに沿って中心角が同一の複数の微小パターンからなるパターンとトラック方向の長さが同一の複数の微小パターンからなるパターンとを混在させて形成する。
【解決手段】基板上の同心円トラックに沿ってパターンを描画する際に、セクタ内の第１領域内では、第１基準角度に基づいて生成された第１クロック信号を用いて電子線をブランキングさせ、セクタ内の第２領域内では、基準長さに基づいて生成された第２クロック信号を用いて電子線をブランキングさせる。これにより、セクタ内の第１領域内に、同心円トラックに沿って中心角が同一の円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成するとともに、第２領域内に、トラック方向の長さが同一の円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】インライン方式によるカラーフィルタ製造工程では、基板の大型化に伴って、露光処理すべき部分の面積が増大したため、ステップ露光のステップ数が増加し、アライメント及び露光に要する処理時間が増大するという問題がある。
【解決手段】インライン方式で基板上にカラーフィルタを形成する場合の感光性樹脂のステップ露光方法において、ステップ露光装置を複数台直列に配列し、前記基板を複数の領域に区分し、前記領域ごとに前記ステップ露光装置を割り当てて露光していくことを特徴とする感光性樹脂のステップ露光方法である。 （もっと読む）

【課題】
冷媒の振動が露光に与える影響を低減、または非露光時の冷却能力を向上させることを目的とする。
【解決手段】
鏡筒の内部に配置される光学部品と、冷媒を用いて前記光学部品を冷却する冷却手段と、前記冷媒の流量を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、露光時の冷媒の流量が非露光時よりも小さくなるように制御することを特徴とする。反射ミラー７の上部を分割面１３で分割し、そこに溝を有し、溝には流路１６を有するチューブ１５が接続される。チューブ１５の先には、恒温循環槽１４が接続される。恒温循環槽１４は、温度制御された冷媒を循環させる手段である。冷媒は、恒温循環槽１４から出て、チューブ１５を通り、反射ミラー７内の流路１６を通り、チューブ１５を経て、恒温循環槽１４に戻る。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作でマスクレス露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１０は、複数の光源１２ａ〜１２ｄと、ミラーＭを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、複数の光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、複数の光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより走査して被露光物上に露光する。 （もっと読む）

【課題】広い描画範囲にわたって精細なパターンを精度よく高速に描画することを可能とする。
【解決手段】
移動する基板に入射する電子線の入射位置を、電子線を偏向させることによって基板に対して相対的に停止させて、基板上のセル内の領域を露光してドットを形成する。また、セル内にドットを形成しない場合には、電子線を高速に偏向して、電子線の入射位置を基板に対して高速に移動させる。これにより、電子線をブランキングすることなく、セルに対する電子線のオン及びオフが可能となるため、基板に対して高速にパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】対称的なピット形状を持ち且つ再現性良くピットを形成することが可能な原盤記録装置及び方法を提供する。
【解決手段】半導体レーザーの照射光を光ディスク原盤のレジスト膜に照射して情報を記録する原盤記録装置において、前記レジスト膜を無機レジスト膜とし、前記半導体レーザーの照射光をパルス幅２００ｐｓ以上１ｎｓ以下の短パルスのレーザーとして出力する手段を具備したたことを特徴とする。 （もっと読む）