【課題】描画処理において、ノウハウ的知識に基づいたセッティングをすることなく、適切な描画パターンを形成する。
【解決手段】あらかじめ設定された発光長に従い、２つの式に基づいて露光動作ピッチＥＰ、走査速度Ｖを算出する。そして、様々な露光量および発光長とそれに対応する走査速度，露光動作ピッチの中で、選択される露光量、発光長に応じた走査速度、露光動作ピッチを決定し、露光パラメータとして描画処理において設定する。 （もっと読む）

【課題】画像記録媒体に対する記録要素の相対的な移動方向に出現するローカリティを補正し、画像記録媒体に所望の画像を高精度に記録する。
【解決手段】基板Ｆの移動方向及び移動方向と直交する方向に矩形状パターンを形成してその線幅を測定し、線幅変化量を補正する光量を得ることのできるマスクデータを設定しておき、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを駆動して画像を露光記録する際、基板Ｆの移動位置に応じたマスクデータをマスクデータメモリ８２から読み出して出力データを補正し、基板Ｆにローカリティのない所望の画像を露光記録する。 （もっと読む）

【課題】相互に搬送方向に直交する方向にシフトして配置した各位置決め用マークを別々のカメラユニットで撮影可能とする。
【解決手段】記録媒体１２に設けたマークを撮影するため、アライメントユニット２５のベース部材３６の一方の側面部に移動調整手段を介して一方のカメラ２６を装着し、記録媒体１２に設けたマーク１１の搬送方向に沿った方向に対して、搬送方向に直交する方向に所定の短い距離シフトした位置決め用マーク１１Ａを撮影するため、アライメントユニット２５のベース部材３６の他方の側面部に移動調整手段を介してカメラ２６を装着して構成する。 （もっと読む）

【課題】拡大の投影倍率を有する安価な投影光学系を搭載した走査型露光装置を提供する。
【解決手段】走査方向の前方側に配置された第1投影光学系ＰＬ２と、走査方向の後方側に配置された第２投影光学系ＰＬ１とを用いて、第１投影光学系及び第２投影光学系と第１物体Ｍ及び第２物体Ｐとの走査方向に関する位置関係を変化させつつ第１物体のパターンを第２物体上に転写露光する走査型露光装置において、第１投影光学系及び第２投影光学系は、それぞれ第１物体上における視野内の拡大像を第２物体上の像野内に形成し、第１投影光学系及び第２投影光学系の前記視野の中心同士の走査方向における間隔をＤｍとし、第１投影光学系及び第２投影光学系による像野の中心同士の前記走査方向における間隔をＤｐとし、第１投影光学系及び第２投影光学系のそれぞれの投影倍率をβとするとき、Ｄｐ＜Ｄｍ×｜β｜（但し、｜β｜＞1）を満たす。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを高い位置精度で試料の所定の位置に照射して情報を記録することができる電子ビーム記録装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム記録装置１０は、電子ビームを用いて試料の表面上に情報を記録するものであって、電子ビームｂを放射する電子源と、電子ビームの照射軸線上に進入または退避可能に設けられ、照射軸線上における磁界情報を得る磁気検出器３６と、この磁気検出器による磁界情報から、試料の表面に対する電子ビームの収束位置を補正するための補正量を求める収束位置制御部２１と、電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整する収束位置調整手段７８とを有する。さらに、収束位置制御部は、補正量に基づいて、収束位置調整手段に電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整させる。 （もっと読む）

【課題】簡素で廉価な手段を用いてステージとヘッドとを相対的に移動させながら画像の歪みを補正して記録媒体に高精度な画像を形成する。
【解決手段】この露光装置、描画方法及び描画装置は、記録媒体１２を載置したステージ１４と、ヘッドとを相対的に移動させて画像を形成するための処理を行うもので、Ｎ回前（Ｎは１以上の整数）の１回又は複数回前の記録媒体に対する露光処理時に測定したステージ１４とヘッドとの相対的な移動動作時の位置誤差を制御目標値として、ステージ１４とヘッドとを相対的に移動動作させるときの短期間の再現性がある誤差をオープンループ制御して補正しながら露光する。 （もっと読む）

【課題】光ディスク原盤の溝間隔を高精度に露光する。
【解決手段】移動ステージ５に移動自在に支承された回転テーブル３に光ディスク原盤２を載置し、光ディスク原盤２に露光ビーム１を照射し、光ディスク原盤２に所定の情報をスパイラル状に記録する光ディスク原盤露光装置において、移動ステージ５の移動位置を検出して移動位置信号を出力するリニアエンコーダ１５と、回転テーブル３の回転角度を検出し回転角度位置信号を出力するロータリエンコーダ１５と、移動位置信号と回転角度位置信号とから隣接するトラック間の溝間隔の偏差量を算出するトラック溝間隔偏差算出装置２１と、装置２１からの偏差量に基づいて光ディスク原盤２に照射される露光ビーム１の照射位置を調整する偏向器１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】同一面内ピットパターンとグルーブパターンの二領域が露光される光記録媒体用原盤において、ピットパターン形成を容易にすることができ、露光装置の使用環境を厳しくしないことによりコストアップを抑制することができる光記録媒体用原盤ならびに光記録媒体用原盤の露光方法を提供すること。
【解決手段】基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層、および第二のフォトレジスト層が順次積層されている二層フォトレジスト原盤を使用した光記録媒体用原盤において、該フォトレジスト原盤の露光工程で、同一面内で露光線速を変更させ、線速が異なる各領域で異なったパターンが露光されたものであることを特徴とする光記録媒体用原盤。 （もっと読む）

【課題】より細いガードバンドを描画するためにビームを細く絞るとアドレス部描画では半径方向の送りを狭くしないと未描画部が出来てしまい、トータルの描画時間が長くなる。また、アドレス部描画のために半径方向の送りを狭くするほど円周方向には長い溝が描画されてしまい、アドレス部の溝幅（円周方向）は、ガードバンドほど細くできない。
【解決手段】原盤（描画原盤２４）として、データ部にはガードバンドと称する円周方向に細い溝があり、アドレス部には、位置情報を記録した半径方向に細い溝があるディスクリートトラックメディアの原盤を用い、ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、少なくとも、アドレス部において電子ビームマスタリング装置（図１の装置）の電子ビーム１１を原盤（描画原盤２４）の半径方向に微小振動させながら描画する。 （もっと読む）

サイズが大きい工作物を使用して、ディスプレイ、ソーラ・パネル、及び他のデバイスを製造する装置及び方法が提供される。工作物は、円筒状に巻かれ、それにより、１つの次元において３分の１に物理的サイズが減少する。工作物がその上に巻かれるステージは、円筒形状を有し、ガラスのより頑健な移動及び／又はコンパクトな移動、機械重量の減少を可能にする。工作物は、比較的薄く、より柔軟性があり、約１メートルの直径の円筒体上に巻かれる。
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【課題】安価な構成でしかもＤＭＤ（空間的光変調器）と基板の相対角度を精度良く設定することができるようにする。
【解決手段】回転の中心がＸＹ方向に移動自在の回転テーブル１３を設け、この回転テーブル１３に露光対象物である基板６を載置し、露光開始前にＹ軸に対して予め定める角度θだけ回転させておく。この状態で、基板６をＸＹ軸補完制御を行うことにより角度θ方向に斜行させながら時系列露光データに基づいてＤＭＤ３の各ミラーＭをオンオフ制御することにより基板６上にパターンを露光（描画）する。 （もっと読む）

機械フレーム（１０）、基板ボディを支持する、基板支持体面（１９）を備えた基板支持体（１２）および光学ユニット（２２）を備えた露光装置（２０）を有し、その場合に光学ユニットと機械フレームが互いに対して第１の方向と第２の方向に移動可能であるので、第１の方向と第２の方向におけるこの相対移動によって感光コーティングが露光可能である、基板支持体面上に感光コーティング（１８）を支持する、基板ボディ（１６）のための露光設備を、第１と第２の方向に極めて大きい広がりを有する基板ボディにもかかわらずコンパクトな構造が可能であるように改良するために、露光装置が、露光装置の、光学ユニットを支持する少なくとも１つのガイドキャリッジ（７２、７４）のためのガイドクロスメンバ（３０）を有し、ガイドキャリッジが、ガイドクロスメンバに接して第１の方向に移動可能に案内されており、かつガイドクロスメンバが、機械フレームに第２の方向に移動可能に配置されていることが提案される。
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【課題】安全性を確保しつつ、短時間でのステップ動作を行い、スループットを向上することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置の制御装置は、Ｚ軸送り台２Ａの鉛直方向の相対移動とワークステージ送り機構２Ｂの水平方向の相対移動とを同期させるようにＺ軸送り台２Ａ及びワークステージ送り機構２Ｂを制御する。 （もっと読む）

【課題】マスクの振動を抑制しつつ、基板とマスクの露光時のギャップを維持したまま基板とマスクを相対移動させる、ラピッドモードを実現して、タクトタイムを短縮することができる露光装置を提供する。
【解決手段】分割逐次露光装置ＰＥは、被露光材としての基板Ｗを保持するワークステージ２と、基板Ｗに対向配置してマスクＭを保持するマスクステージ１と、基板Ｗに対してマスクＭを介してパターン露光用の光を照射する照射手段３と、マスクＭのマスクパターンを基板Ｗ上の複数の所定位置に対向させるようにワークステージ２とマスクステージ１とを相対的にステップ移動させるワークステージ送り機構２Ｂとを備える。マスクＭは、略椀型形状に形成される。基板Ｗ上の複数の所定位置で露光する際、ワークステージ送り機構２は、基板ＷとマスクＭとの間の露光ギャップを保持したまま、ワークステージ２をマスクステージ１に対して相対移動する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターニングが可能であり、大量の現像液やエッチング剤等の薬液等を使用せず製造コストおよび環境負荷を抑制すること等ができ、さらにレーザ照射欠陥が生じない、回路パターンを有するガラス基板の製造方法、およびこれにより製造される回路パターンを有するガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板１０上に薄膜層１２を形成した後、レーザ光２２をして、ガラス基板上に回路パターン２６を形成する工程と、ガラス基板上に、低融点ガラス２８を付着させる工程と、低融点ガラスを焼結して低融点ガラス層３２を形成し、さらに、ガラス基板と低融点ガラス層との間に、レーザ光の照射によってガラス基板に形成されたレーザ照射欠陥２４の厚さ以上の厚さを有する相溶層を形成する工程とを具備する回路パターンを有するガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】空気中の酸素が平版刷版の画像記録層内に入り込むことを防止して高感度化した状態で露光処理可能とする。
【解決手段】平版刷版１０を気体中で搬送するよう搬送路を構成し、搬送路上を搬送される平版刷版１０の表面から所定間隔を開けて露光補助部材１６を配置し、液体充填手段２６により、露光補助部材１６と平版刷版１０との間に液体を充填させ、平版刷版１０の画像記録層を液体で被って空気中の酸素から遮断した状態で露光処理することにより、酸素による重合阻害を防止し効率よくラジカル重合反応を進めて潜像を形成する。 （もっと読む）

【課題】識別マークが周辺領域のどの位置に形成されていても対応できるレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置を提供する。
【解決手段】本装置は、基板Ｗを保持するステージ２と、基板の予め設定された所定位置とステージに予め設定された基準位置に対応して設けた位置決めマークとを撮影して画像データを取得する撮像手段４と、ステージを移動する移動搬送機構３と、この移動搬送機構の移動経路上においてレーザビームを照射するレーザビームユニット５と、基板の周辺領域に紫外線を含む光を照射口から照射する紫外線照射ユニット９と、撮像手段により取得した画像データに基づき基板の整合を行い、レーザビームによる識別マークの露光と紫外線を含む光により周辺露光とを同時に行うように、移動搬送機構を制御する制御手段と２０を有する。 （もっと読む）

【課題】スループットを向上させ、基板の表面を汚染する原因が最小限となる周辺露光装置およびその方法を提供する。
【解決手段】周辺露光装置は、基板の周辺領域に紫外線を含む光を照射してフォトレジストインクを露光する周辺露光装置であって、基板の上方となる位置に設けられ基板の周辺領域に紫外線を含む光を筐体に形成した照射口９ｍから照射用レンズ９ｅを介して照射する紫外線照射ユニット９と、紫外線照射ユニットに設けられ、紫外線の照度を計測する照度計測部１１と、照度計測部を紫外線照射ユニットの照射口に対面する対面位置と照射口から外れた退避位置とに移動させる照度計測部移動機構と、を有する。 （もっと読む）

【課題】識別マークが周辺領域のどの位置に形成されていても対応でき、そして、基板の表面を汚染する原因が最小限となる周辺露光装置およびその方法を提供する。
【解決手段】周辺露光装置は、移動経路上において基板の周辺領域に紫外線を含む光を照射口から照射用レンズを介して照射する紫外線照射ユニット９と、基板の移動速度に基づいて、照射口９ｍの少なくとも一部を覆って識別マークを遮光するように制御される照射領域調整シャッタ機構１０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】一つのステージの移動速度を適切な速度に決定するレーザビーム・紫外線照射周辺露光装置およびその方法を提供する。
【解決手段】レーザビーム・紫外線照射周辺露光装置は、基板を保持するステージ２と、基板の面に対して直交する垂線の垂線回りとなる回転方向、移動方向および移動方向に直交する直交方向に、ステージを移動する移動搬送機構３と、この移動搬送機構の移動経路上において基板の上方となる位置に設けられ、レーザビームを照射するレーザビームユニット５と、周辺領域に紫外線を含む光を照射口から照射する紫外線照射ユニット９と、レーザビームを照射する際にステージを移動させる第一移動速度と、紫外線を含む光を照射する際にステージを移動させる第二移動速度とのいずれか一方に合わせて、移動搬送機構を制御する制御手段と、を有する。 （もっと読む）