【課題】基板の両側にパターニングした層を設ける場合に、基板の上面に、基板の下面にあるアライメントマークと位置合わせされるパターンを投影可能にする。
【解決手段】表裏アライメント可能なリソグラフィ装置のキャリブレーション方法である。この方法は、複数のアライメントマークを有する基板を、アライメントマークがキャリアの方に向くように配置して、キャリアに取り付けることと、基板の厚さを減少させることと、装置のアライメントシステムを使用して、この装置の基板テーブル中の光学系によって形成されるアライメントマーク像の位置を測定することと、基板上の、アライメントマークの測定位置により決定されたパターンの位置に、パターンを投影することと、投影したパターンと基板の反対側に設けたアライメントマークの位置を測定し、基板の反対側に設けたアライメントマークの位置の測定を基板を通して放射を誘導するアライメントシステムによって行うことと、オーバーレイエラーを決定するために測定位置を比較することとを含む。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、回転ステージ41を回転させながら行う際に、同じトラックにおけるサーボパターン12の描画時とグルーブパターン15の描画時とで基板10の回転数を変更し、サーボパターン描画時の第１の回転数より、グルーブパターン描画時の第２の回転数を高くして描画する。 （もっと読む）

【課題】回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。
【解決手段】電子ビームを照射して走査することにより基材に描画するにあたり、
第１のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第１のステップと、
第２のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第２のステップと、
前記第１のドーズ量にて描画される部分と前記第２のドーズ量にて描画される部分とが混在する領域を設ける第３のステップと、
を含む電子ビーム描画方法。 （もっと読む）

【課題】測定スケール部が測定中のデバイスに直接に関連付けられていないエンコーダを使用するシステム等を提供する。
【解決手段】システム及び方法を用いてデバイスのパラメータ（例えば、角度、位置、向きなど）が決定される。第１の部分は、デバイスの反射部分に反射するように誘導される放射ビームを生成するように構成された放射源を含む。第２の部分は第１の部分に結合され、反射したビームが測定デバイスを透過して検出器に達するように測定デバイスとオプションとして検出器とを含む。デバイスのパラメータが反射したビームと測定デバイスの相互作用に基づいて決定される。一例では、第１及び第２の部分はリソグラフィ装置内のスキャンミラーの角度又はステージの向きを測定する折返し光学エンコーダを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】同心円状に電子ビーム描画を行う場合に、円の始端と終端で高精度に接続された円を描画することができる電子ビーム描画装置及び描画方法を提供する。
【解決手段】１の円の描画が完了した後、当該１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、同期信号に基づいて電子ビームの偏向を制御して、電子ビームの照射位置を上記他の円へ移行させるコントローラと、電子ビームの照射位置を上記他の円へ移行させている間、及び前記他の円への移行の直前又は移行した直後の所定期間に亘って基板への電子ビームの照射を遮断するビーム遮断部と、を有している。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの電子ビームによる走査描画における照射線量調整の自由度をさらに高めて、微細パターンの複雑な形状の描画を高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13を描画する際に、電子ビームEBを周方向と直交する方向Ｙへ高速に往復振動させると同時に、半径方向と直交する方向Ｘに、回転ステージ41の回転速度より速い速度で偏向させて、エレメントの形状を塗りつぶすように走査制御し、順次エレメントを描画する。 （もっと読む）

【課題】基板上の複数の領域にそれぞれ対応するパターンを効率的に露光する。
【解決手段】第１ウエハステージＷＳＴ１と、第２ウエハステージＷＳＴ２と、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上のウエハのマークを検出するアライメントセンサ２６と、ウエハ上の第１領域に露光光ＩＬを照射する投影光学系ＰＬと、その第１領域とは異なるウエハ上の第２領域に露光光ＩＬＡを照射する欠けショット露光系４０Ａとを備える。欠けショット露光系４０Ａは、アライメントセンサ２６によるマークの検出動作中に、ウエハステージＷＳＴ２に保持されるウエハＷ２上の第２領域に露光光ＩＬＡを照射する。 （もっと読む）

【課題】小型化を実現できる光照射装置を提供する。
【解決手段】光ビームを発生する光源４と、外部信号に応じて光ビームが通過する媒体の屈折率を変化させる光変調素子５と、光変調素子が出力する複数の回折光の中からｎ（自然数）次の光ビームを分離する光ビーム分離手段３と、分離されたｎ次の光ビームを目的位置に導出する光学通路と、を備え、光ビーム分離手段３は、互いに対向するように配置されて複数の回折光を入射部及び出射部間で複数回反射させる第１及び第２のミラー列２，２を含み、各ミラー列２が挟角９０度の２つのミラーを組み合わせてなる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの位置を記憶する記憶手段を備えることにより、位置合わせの度にフォトマスクの位置を検出することなく、被露光基板とフォトマスクとの位置合わせをすることを可能とする。
【解決手段】被露光基板７が露光位置に投入される前に、記憶手段３３によって事前にマスク側基準パターンの位置を記憶し、その後、被露光基板７を搬送して露光位置に投入して基板側基準パターンの位置を検出し、前記記憶したマスク側基準パターンの位置と検出した基板側基準パターンの位置とを比較して被露光基板７に対してフォトマスク１２を位置合わせし、露光光源３から被露光基板７に所定のタイミングで露光光を照射して所定のパターンを露光する。 （もっと読む）

方法は、媒体が画像形成ヘッドに対して動かされる間にその媒体に画像を形成するために提供される。媒体は、レジストレーションサブ領域のパターンを含みうる。画像は、レジストレーションサブ領域のパターンと見当を合わせられ得る、例えば、色フィルタ特徴又は有色照射源等の、特徴のパターンを含みうる。画像形成方法は、媒体に画像を形成するよう媒体を走査しながら複数の独立制御可能な放射線ビームを発するように画像形成ヘッドを動作させるステップを有してよい。画像形成ヘッドの画像形成チャネルは、第１走査の間媒体を第１の方向で走査しながら第１の強さを有する放射線ビームを発し、第２走査の間媒体を反対の第２の方向で動作しながら異なる第２の強さを有する放射線ビームを発するよう動作することができる。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線基板のサイズに対応できる露光装置を提供する。
【解決手段】搬送装置１を露光部５０内に移動し、可動ハンド２０の係止シリンダ３０がマスクホルダベース６３の直下に到達する位置で停止し、係止シリンダ３０を駆動し、マスクホルダベース６３に押し当てて、可動ハンド２０をマスクホルダベース６３に係止する。固定シリンダ２６を解除し、可動ハンド２０を移動可能なフリーの状態にし、固定ハンド１０を移動し、固定ハンド１０と可動ハンド２０の距離Ｘ（幅）を所定の距離に設定する。
（もっと読む）

【課題】基板の中心を回転テーブルの回転中心に精度よく位置決めする。
【解決手段】基板トレイ４０に形成された円形開口４１ａ〜４１ｃに、回転テーブル３２に設けられた固定ロックピン５０Ａ,５０Ｃ、及び移動ロックピン５０Ｂが挿入した状態で、基板トレイ４０を回転テーブル３２に載置し、その後、回転テーブル３２の移動ロックピン５０Ｂを、半径方向に沿って、回転テーブル３２の中心から離れる方向へ移動することで、基板トレイ４０の円形開口４１ａ〜４１ｃが内接する円Ｃ１の中心を、回転テーブル３２の回転中心に位置決めする。これにより、基板Ｗの中心を、回転中心に精度よく位置決めすることが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、フォトリソグラフィ技術、詳細には、高エネルギービーム、一般にレーザービームによって特徴部が基板に直接書き込まれる、マスクを用いないフォトリソグラフィ技術に関する。
本発明によれば、ビームの位置を、支持体の表面に対して連続的に移動させることによって変位させ、ビームは、支持体に書き込まれる特徴部に従ってスイッチオンまたはスイッチオフされる。特徴部は、被照射ゾーンの最も小さい幅が、照射する必要のないゾーン（８）の最も小さい幅（Ｌ、Ｌ１）よりも大きくなるようにする。照射ビームの有効直径（Ｄ）は、照射する必要のないゾーンの幅よりも大きい。この直径は、被照射フォトレジストの深さに従って規定され、深さ方向の照射に必要なものと、書き込まれる特徴部の大きさとの妥協点から得られる。それゆえ、形成される最も精細な特徴部のサイズよりも厚さが遙かに大きいフォトレジストでも、ビームの直径が理論的に許容するものよりも高い解像度が達成される。 （もっと読む）

【課題】ステッチング誤差の問題の解決。
【解決手段】加工品にパターンを形成する装置および方法。この装置は、超紫外線から赤外線までの波長範囲の光を放射する光源と、精密ステージに装架され、多数の変調素子を有し、放射された光によって照射されるように構成された空間光変調装置と、加工品に空間光変調装置の画像を形成する投射系と、書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取り、パターンを変調信号に変換し、変調信号を空間光変調装置に供給する電子データ処理および伝送系と、加工品及び／又は投射系を相互に位置決めする高精度機械系と、加工品の位置、空間光変調装置への変調信号の供給、および放射の強度の調整の制御を行い、それによりパターンを加工品に印刷するようにさせる電子制御系と、印刷されるべきパターンの座標系を、位置付けステージ上の加工品の座標系に対して回転させる手段とを含む。 （もっと読む）

基板の電子感受性面を選択露光することによってアイランドのアレイ（１２）を回転する基板にある同心状のトラック（１３）に形成する方法は、ビームの作用領域内の面にあるポイント（Ａ）にビームを方向付ける工程と、基板の回転方向（３１）にビームを偏向してポイント（Ａ’）がビームから所定の電子線量を受けるまでポイントに留める工程と、を備える。そして、ビームは、直前のポイント（Ａ’）から離間したさらなるポイント（ＢからＴ）に方向変更して同様の方法でビームによって照射される。方向変更することと偏向することとの処置は、基板の少なくとも１回転、好ましくは数回転に対して繰り返され、ポイントは、少なくとも１つのトラック（１３ａ）、好ましくは数トラック（１３ａから１３ｊ）に沿って照射される。そして、ポイントが基板にある目的のトラックすべてに沿って照射されるまで、基板の回転軸に垂直な基板の連続的または周期的な線形移動に連動して同様の処置を繰り返し、基板を横断するように作用領域をシフトさせ、照射されたポイント全体がアイランドのアレイを形成する。
（もっと読む）

【課題】本発明の目的は、露光により表面形状や反射率の変化を伴う無機レジストを用いた場合でも、高精度な焦点位置制御を可能にし、所定の高密度パターンを高速で露光可能な無機レジストによる露光方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、基板と、基板上に形成されたレジストと、露光光となる第１の光ビームと、第１の光ビームの焦点位置を制御するための焦点位置制御用の光となる第２の光ビームと、第２の光の前記レジスト面からの反射光を受けて第１の光ビームの焦点位置制御を行う焦点位置制御手段とを有し、基板を、露光光に対して相対的に移動させながら、基板上に形成されたレジストを露光する露光方法であって、第２の光ビームが、レジストの第１の光ビームの露光領域及び記第１の光ビームにより露光された領域以外の領域を照射することを特徴とする露光方法である。 （もっと読む）

【課題】精度よく電子線のブランキングを行うことを可能とする。
【解決手段】ブランキング装置２０において、第１同軸伝送路２４Ａと第２同軸伝送路２４Ｂとによって、ブランキング電極１４ａ,１４ｂに対して、駆動回路２１、及び終端器２５を電気的に接続する。そして、駆動回路２１の出力インピーダンス、同軸ケーブル２２、第１同軸伝送路２４Ａ、第２同軸伝送路２４Ｂ、ブランキング電極１４ａ,１４ｂ、及び終端器２５の各特性インピーダンスを、例えば５０Ωに整合する。これにより、駆動回路２１から出力される駆動信号の反射が回避されるため、ブランキング電極１４ａ,１４ｂへの印加電圧にオーバーシュートやリンキングが発生することがなくなり、精度よく電子線のブランキングを行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】精度よく非同期回転振れの量を算出する。
【解決手段】回転テーブル３１の回転角度毎の回転振れ量を変位データとして算出し、この変位データを順次メモリ５２ｅに記憶する。そして、メモリ５２ｅに順次記憶された変位データを値の大きさに基づいて並び替え、この並び替えられた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とする。変位データをその大きさに基づいて並び変えることにより、非同期回転振れ量を包含する変位データは、並び替えられた変位データのうち高順位、若しくは低順位となるため、並び替えた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とすることで、非同期回転振れの影響をほとんど受けていない基準値を算出することができる。そして、この基準値を用いることで、回転テーブル３１の非同期回転振れ量を精度よく算出することができる。 （もっと読む）

【課題】露光対象箇所の積算照度を正確に、かつ簡単に計測することができる「露光用照度計測装置」を提供すること。
【解決手段】露光用照度計測装置１０は、光源１１と、該光源から照射された光を変調する空間光変調素子（ＤＭＤ）１２と、このＤＭＤから出射された光をすべて入射する集光レンズ１３と、該集光レンズを通して収束された光が入射される単一の光電変換素子（ＰＤ）１４と、コントローラ１７とを備える。このコントローラ１７により、ＰＤ１４の光検出信号から、ＤＭＤ１２を使用して光照射されるべき露光面の当該箇所の積算照度（露光装置において露光を行うのに必要とされる光量のデータ）を算出する。 （もっと読む）

【課題】浮上ユニットによって浮上・支持される基板の浮上量を精度よく制御して、露光精度を向上させることができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板Ｗを浮上・支持する浮上ユニット１６及び基板駆動ユニット１７を備える基板搬送機構１０と、マスクＭを保持するマスク保持部１１と、基板Ｗの浮上量を検出する基板ギャップセンサ６０とを備え、基板ギャップセンサ６０によって検出された基板Ｗの浮上量と目標浮上量との差に基づいて制御部１５が浮上ユニット１６のエア流量及びエア圧力を調節し、基板Ｗの浮上量を精度よく制御する。 （もっと読む）