【課題】複数の円周トラックに沿って、連続的に精度よくパターンを描画する。
【解決手段】円周トラックＣＴｒ_１上の描画開始位置ＳＰ_１から円周トラックＣＴｒ_１に沿ってパターンの描画を開始してから、基板が２π−Δθｔｅ_１回転した位置で、電子線をＸ軸へ偏向することで電子線の入射位置を円周トラックＣＴｒ_２上へ位置決めする。そして、円周トラックＣＴｒ_２上の描画開始位置ＳＰ_２から円周トラックＣＴｒ_２に沿ってパターンの描画を開始してから、基板が２π＋Δθｔｅ_１＋Δθｔｅ_２回転（（４π＋Δθｔｅ_２）−（２π−Δθｔｅ_１））した位置で、電子線をＸ軸へ偏向することで電子線の入射位置を円周トラックＣＴｒ_３上へ位置決めする。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの感度が多様に変更されても、高精度の露光描画を大きなスループットで行うことができる走査型パターン描画装置の提供。
【解決手段】ステージと、光源の光を変調する光変調部と、変調された光を感光性材料層に照射する照射部と、光変調部へ入射する光の光量を調節する光量調節部と、照射部をステージに対し相対的に走査方向に沿って走査させる走査機構と、光量調節部および走査機構を制御する制御部と、感光性材料層の光感度に応じて選択される複数の露光量と、各露光量にそれぞれ適した走査速度とを対応付けて記憶する第１記憶部と、各走査速度にそれぞれ適した、制御部の制御パラメータの値を記憶する第２記憶部とを備え、制御部は、第１記憶部に記憶された走査速度の中から、入力された露光量に対応する走査速度を選択し、選択された走査速度に適した制御パラメータの値を第２記憶部に記憶された制御パラメータの値の中から選択する。 （もっと読む）

【課題】 走査速度、パルス光の光強度分布にずれがあっても露光斑の少ない走査露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、レチクル１３と基板１８とを走査しながら、基板１８の走査方向に沿った光強度分布の形状が等脚台形であるパルス光で照明されたレチクル１３のパターンを基板１８に転写する走査露光装置であって、基板１８が走査方向に単位量移動する間に基板１８が受光するパルス数及び光強度分布の形状に応じて変化する基板上における露光斑と受光パルス数との関係を演算し、演算した前記関係における露光斑の大きさと傾きとがそれぞれの閾値以下となるように受光パルス数を制御する制御器を備える。 （もっと読む）

【課題】凸部間のばらつきを抑制したモールド構造体用原盤の製造方法等の提供。
【解決手段】原盤用基板の表面にレジスト層を形成し、該レジスト層を露光及び現像して、該原盤用基板の表面に、前記原盤凹凸パターンを形成するための略同心円弧状の原盤レジストパターンを形成する原盤レジストパターン形成工程と、前記略同心円弧状の原盤レジストパターンのうち、内周側のレジストパターンが外周側のレジストパターンよりも多く削られる条件で、又は外周側のレジストパターンが内周側のレジストパターンよりも多く削られる条件で、前記原盤レジストパターンを選択的にエッチングする選択的エッチング工程と、前記選択的エッチング工程後の原盤レジストパターンをマスクとして、前記原盤用基板をエッチングし原盤凹凸パターンを形成する原盤凹凸パターン形成工程とを含むモールド構造体用原盤の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 レンズ枚数等を抑えたコンパクトな構成を有し、組立て調整を容易に行うことのできる反射屈折型の投影光学系。
【解決手段】 第１面（ＭＡ）の第１領域（ＩＦ）の像を第２面（ＰＴ）の第２領域（ＥＦ）に形成する反射屈折型の投影光学系は、正の屈折力を有する第１レンズ群（Ｇ１）と、第１レンズ群を介した第１領域からの光を第１面側に反射する曲面状の反射面（ＣＭａ）と、曲面状の反射面が反射した光を第２面側に反射する平面状の反射面（ＦＭａ）と、正の屈折力を有し、平面状の反射面が反射した光を第２領域に集光する第２レンズ群（Ｇ２）とを備えている。第１レンズ群、第２レンズ群及び曲面状の反射面は直線状の１本の光軸（ＡＸ）に沿って共軸に配置され、平面状の反射面は光軸に対して偏心配置されている。 （もっと読む）

【課題】温度変化が少なく安定な動作を実現可能なマイクロミラーデバイス及び光照射装置を提供する。
【解決手段】このマイクロミラーデバイス１０は、マイクロミラー２１と、マイクロミラーを覆うようにして配置された透光性窓部材２３と、マイクロミラーと透光性窓部材との間のスペースＳに空気を流すようにした空冷手段１１と、マイクロミラーが配置された基板の裏面側に設けられた冷却手段１２，１３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスクの表面に粉塵が付着することを防止し、高い描画品質を維持することができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】マスク保持部において、マスクに当接する当接ピン６１の下方に、磁石６４を配置する。当接ピン６１とマスクとが当接または摺接することにより、当接ピン６１の先端部６１ａから磁性体の粉塵が発生しても、発生した粉塵は、磁石６４に引き付けられて磁石６４の表面に付着する。従って、マスクの表面への粉塵の付着が防止され、高い描画品質が維持される。部材同士が当接または摺接して磁性体の粉塵が発生し得る箇所の近傍にも、同じように磁石を配置する。 （もっと読む）

【課題】ステージを駆動する際に生じる振動を効果的に抑制する。
【解決手段】所定タイミングで検出された制御対象３０１の位置と所定位置との誤差を、前記タイミングからの時間経過に応じてフィードフォワード制御部１０２による操作量を変更することによって補正するとともに、フィードバック制御部１０３への外部入力をフィードフォワード制御部１０２による補正量に応じて変更する制御部１０４を備える。 （もっと読む）

【課題】直動ステージとスピンドル回転機構を用いたビーム露光装置において、簡単で安価な回路構成で、円弧パターンを原盤に露光する。
【解決手段】ＤＤＳ(Direct Digital synthesizer)により、スピンドルクロック、ライトクロック、ステージクロックを生成する回路（８０，８２，８４）と、ライトクロックから、１回転に１回程度、特定の描画位置を示すトリガ信号を発生するトリガ発生回路（８７）と、そのトリガが発生した半径及び円周方向位置を測定する測定回路（８８）と、測定結果により、クロック周波数を調整する周波数データ設定回路（８９）とを有する。磁気ディスク媒体等のサーボパターンのような円弧状の整列ピットを、より簡単な回路によって実現できる。 （もっと読む）

【課題】反りが生じやすい薄型の基板に塵埃が付着した場合にも、正確なパターンを形成することができる露光描画装置を提供すること。
【解決手段】露光描画装置１０は基板ＳＷに対しパターンを直接描画するダイレクト方式の露光装置である。露光描画装置１０は、基板ＳＷを載置する描画テーブル１３が設けられた基台１１と、描画光学系２０が収納されたゲート状構造体１２とを備えている。ゲート状構造体１２には、基板ＳＷの表面に接触して基板の表面に付着した塵埃を除去する粘着ローラ３１と、この粘着ローラ３１が基板ＳＷに対して一定の圧力で接するように付勢するコイルばね３２とを含むクリーニングユニット３０が設けられている。描画テーブル１３には、描画ビームの配列するＹ方向とほぼ平行に基板ＳＷを横断して配置され、描画テーブル１３上に載置された基板ＳＷを描画テーブル１３に押しつけて固定する２組の固定手段５０が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板を移動する場合にも、高精度なパターンの形成を可能とする。
【解決手段】ビーム発振器１と、マスク３及びマスク角度補正手段１１と、マスク３を通過したビームのスキャニング装置７及びスキャニング装置７の傾きを制御してビームの照射位置を制御するビーム位置補正手段１０と、スキャニング装置７を介して基板５上に照射するビームの集光レンズ８と、基板５を載置して移動するステージ４と、ビーム位置補正手段１０に、基板５の相対的な移動方向とビームの照射位置とのずれを補正する制御信号を、マスク角度補正手段１１に、前記ずれに伴う基板５上のパターンの傾きのずれを補正する制御信号を、それぞれ送信するビーム照射位置補正制御手段９を備えたパターン描画装置である。基板５へのビームの照射方向、照射位置、マスク３の傾き、基板５の相対的な移動距離の少なくとも何れか１つを制御する。
【効果】大きい領域をパルスで高速にて描画できる。 （もっと読む）

【課題】走査距離を短くしてスループットを向上する走査露光装置を提供する。
【解決手段】基板上の露光領域に対して第１方向に隔たった計測点と第１方向と反対方向の第２方向に隔たった計測点とを有し、投影光学系の光軸方向における基板の表面の位置を計測する計測手段と制御手段を含み、制御手段は少なくとも１行分のショット領域を含むグループの表面の部分の位置を計測し、その結果に従って前記部分を像面に合せ込みながら、走査する列が切り替わる度に走査方向を第１方向から第２方向に又はその逆に切り替えて走査露光し、第１グループが走査露光されているときに第１グループに隣接する第２グループに属するショット領域の少なくとも一部の領域における表面の位置を計測し、当該計測結果を使用して第２グループを走査露光するように、レチクルステージ、基板ステージ及び計測手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数のラインパターンを短時間で形成することができるフォトレジスト層の加工方法およびパターン形成基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フォトレジスト層の加工方法およびパターン形成基板の製造方法は、所定の中心軸２Ａから等距離に配置される複数の設置面２２を有する支持部材２の各設置面２２に、フォトレジスト層６２を有する複数の基板６１を固定する設置工程と、フォトレジスト層６２に対してレーザ光を出射するヘッド３および支持部材２の少なくとも一方を中心軸２Ａ回りに回転させるとともに、ヘッド３および支持部材２の少なくとも一方を中心軸２Ａに沿うように移動させながら、ヘッド３からレーザ光を出射する露光工程と、を備える。 （もっと読む）

【目的】本発明は、マスク転写方法に関し、マスクの解像度の限界を超える微細パターンサイズをモールドにマスク転写することを目的とする。
【構成】基本パターンの部分を電子線が透過するように作製したマスクを、レジストを塗布したモールドの所定位置に近接して位置づけるステップと、近接して位置づけた状態で、電子線をマスクに照射してマスク上の基本パターンを透過した電子線をマスク上のレジストに露光するステップと、露光した後に、マスクを基本パターンの繰り返しに相当する距離だけ移動した後に露光することを、繰り返しの数分だけ繰り返すステップと、繰り返した後に、モールド上の露光されたレジストを現像するステップと、現像した後のモールドをエッチングし、マスク上のパターンに対応するパターンをモールド上に形成するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】遮光部材を選択的に用いて露光用光を遮光して、最小非露光幅の領域を遮光できるとともに、マスクのパターン領域全域を効率的に遮光することができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供する。
【解決手段】各遮光部１４が、搬送方向における幅ｗ１が該方向における最小非露光幅ｗＮＲ以下の第１遮光部材６０，６０と、搬送方向における幅ｗ２が第１遮光部材６０のものより大きい第２遮光部材６１と、搬送方向における幅ｗ３が第２の遮光部材６１の幅ｗ３より大きい第３遮光部材６２の４枚の遮光部材を有する。そして、基板ＷがマスクＭの下方で搬送される状態において、複数の遮光部材６０，６０，６１，６２によってマスクＭのパターンＰの領域全体を遮光し、第１遮光部材６０を基板Ｗの搬送と同期して移動させ、最小非露光幅ｗＮＲの非露光領域ＮＲを形成しながら基板Ｗを露光する。 （もっと読む）

【課題】一台で繰り返し露光領域と非繰り返し露光領域とを同時に露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】繰り返し露光領域と非繰り返し露光領域を有する基板Ｗを所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構１０と、基板Ｗに向けて露光用光ＥＬを照射する照射部１３と、露光用光ＷＬが照射されて、基板Ｗの繰り返し露光領域を露光するためのマスクＭを保持するマスク保持部１１と、マスクＭを照射する照射部１３の露光用光ＥＬの一部を利用して、基板Ｗの非繰り返し露光領域を描画露光する直描部１４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光源の消耗を抑制し露光光の照度を適切に設定することができる照明装置を提供する。
【解決手段】感光基板Ｐに対して露光光を照射する照明装置ＩＬにおいて、少なくとも１つの口径が異なる複数の入射口１２ａ〜１２ｃを有し、該複数の入射口１２ａ〜１２ｃから受光した前記露光光を前記感光基板Ｐに対して共通の射出口１４ａ〜１４ｇから射出させるライトガイド１３と、前記複数の入射口１２ａ〜１２ｃのうち少なくとも１つの入射口に対して選択的に前記露光光を入射させる光源部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 複数の露光領域への露光に際して、露光装置の露光精度を簡単に評価すること。
【解決手段】 投影手段によって投影されるパターン像と感光性基板とを相対的に所定の移動方向に沿って移動させるとともに、移動の前後に感光性基板にパターンを露光する露光工程と、露光工程により設けられた感光性基板の像を撮像する撮像工程と、撮像工程において撮像された像の移動の前後の連続性を解析する解析工程と、解析工程における解析の結果に基づいて、露光工程の露光精度を評価する評価工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ＤＥ／ＤＰ用マスク描画処理において要求される高い位置精度に対応可能な電子ビーム描画装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 描画モードとして、前記重ね合わせ露光用マスク描画モードを選択するモード選択手段と、この重ね合わせ露光モードが選択されると、描画パターンの登録時に、この重ね合わせ露光用マスク描画で使用される複数の基板のうち、同種の形状を有するものを選定する形状選定手段とを備えた電子ビーム描画装置を提供する。
（もっと読む）

【課題】記録層として金属を含む無機レジスト層を用いた場合における記録層の酸化防止した光学情報記録媒体製造用の原盤を提供する。
【解決手段】光学情報記録媒体製造用の原盤は、基板上に設けられた無機レジスト層と、無機レジスト層を被覆する透光性の保護層と、を備える。 （もっと読む）