【課題】溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法を提供する。
【解決手段】描画処理後の原盤をターンテーブルから外した後再度ターンテーブルに載置したときの原盤の中心座標と、ターンテーブルの回転中心との差を検出し、ターンテーブルの停止時に検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の原盤を径方向に移動させ、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた検出手段からの検出信号に基づいて移動手段により吸着前の原盤を径方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】投影領域の形状に応じて容易に露光を行うこと。
【解決手段】露光光のパターンを対象面に転写する露光装置であって、パターンを形成するパターン形成部と、パターンを対象面に投影する投影光学系と、対象面のうちパターンが投影される投影領域の露光光の光軸方向の形状に応じて投影光学系の開口数を調整する開口数調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】露光領域の拡大を容易になし得るようにする。
【解決手段】電気光学結晶材料からなる角柱状の部材の長軸に平行な対向面に夫々電極を設けて形成したスイッチング素子９と、該スイッチング素子９の長軸方向の両端面側に該スイッチング素子９を間にしてクロスニコルに配置された一対の偏光板１２Ａ，１２Ｂとで構成した複数の光スイッチ１１を被露光体６の面に平行な面内に配置して有するパターンジェネレータ３を備え、複数の光スイッチ１１を個別に駆動して一定の明暗模様の露光パターンを生成し、これを被露光体６に照射して露光する露光装置であって、パターンジェネレータ３の光射出面側に各スイッチング素子９の長手中心軸に光軸を合致させて設けられ、スイッチング素子９の光射出端面９ａの像を被露光体６上に縮小投影する複数のマイクロレンズ１７を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】露光パターン形成用領域を複数回に分けて露光する場合、又は複数の露光パターン形成用領域を同時若しくは連続的に露光する場合に、露光位置の確認が容易な露光方法及び露光位置の確認方法を提供する。
【解決手段】露光対象部材２は、露光パターン形成用領域及びその周囲の少なくとも一部の非パターン形成領域を備えている。この露光対象部材２の非パターン形成領域における露光パターンの延長上にある領域に露光光の照射により変色する光変色材料を塗布するか、又は露光光の照射により変色する光変色部材を貼付し、マスクに透過させた露光光を露光対象部材に照射する際に、露光パターン形成用領域の他に、光変色材料又は光変色部材からなる光変色領域２２にも照射してこれを変色させる。そして、この光変色領域２２の変色により、露光パターン形成領域における露光位置を確認し、露光不良の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルアレイを用いたリソグラフィ装置において均一な放射線量で露光する方法を提供する。
【解決手段】個々に制御可能な素子を使用してパターンを形成した放射線のパターン形成ビームを、基板の目標部分に投影する場合、（ａ）各ピクセルが、予め決定した標準的最大線量を超えない放射線線量を、露光ステップで目標部分に送出するように、素子を通常通りに制御し、（ｂ）少なくとも１つの選択されたピクセルが、標準的な最大線量より多い増加した放射線線量を送出するように、素子を例外的に制御する。増加した線量は、アレイの既知の位置にて欠陥がある素子が選択されたピクセルに隣接するピクセルに及ぼす効果を補償するように送出する。さらに、既知の欠陥がある素子の影響を受けたピクセルによって、その位置の露光で生じた選択ピクセルの位置での目標部分の露光不足を補償する。 （もっと読む）

【課題】高精度送りを実現できる光ディスク原盤露光装置等を提供すること。
【解決手段】露光装置は、第１の信号処理工程による２次関数波信号とゼロ電位との交点を検出するゼロクロス検出手段の選択パルス出力信号に基づいて、２次関数波信号とその反転信号から半径方向外向き偏向成分を折り返した信号と、半径方向内向き偏向成分信号とを連接した２次関数波信号を出力調整手段により増幅して同心円偏向信号に重畳する第２の信号処理工程とからなる多角形信号処理手段の出力信号を偏向手段に印加する。 （もっと読む）

【課題】複数の合焦位置のうちの所望の位置で合焦可能にする
【解決手段】本発明の態様の合焦装置４は、光学系３の焦点をステージ１上の対象物に合焦する合焦装置である。複数の合焦位置が得られたときに、光学系３からステージ１までの距離と合焦の判定パラメータ値との対応情報に基づいて、複数の合焦位置の中からいずれに合焦するかを制御する制御部５を有する。 （もっと読む）

【課題】サーボ領域を半径によらず一定の角度のパターンで形成することを可能にするとともに、データ領域を半径によらず一定の間隔のパターンで形成することを可能にする。
【解決手段】基板を回転させる回転機構と、移動機構と、電子銃と、電子線をブランキング制御信号に基づいてブランキングもしくは偏向制御信号に基づいて偏向、またはブランキング制御信号および偏向制御信号に基づいてブランキングおよび偏向させる偏向器と、ステージにおける描画半径位置に応じて変化する周期を有する第１基準クロック信号を発生する第１クロック信号発生回路と、第１基準クロック信号と独立な周期を有する第２基準クロック信号を発生する第２クロック信号発生回路と、第１基準クロック信号および第２基準クロック信号に基づいて、ブランキング制御信号および偏向制御信号のうちの少なくとも一方の制御信号を発生する制御信号発生回路と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。マスクＭが開口３１ａを密封しているので、液体中にレジストＲを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】駆動回路３５３の発熱量変化に依らず、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度を安定させることで、光路変化を抑制して、光変調を適切に実行できる技術を提供する。
【解決手段】光変調素子３５２や駆動回路３５３が配置された基板３５１に、発熱部３５４bを配置して、この発熱部３５４bにより光変調素子３５２周囲を加熱可能に構成する。駆動回路３５３の発熱量が減少したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が増大する一方、駆動回路３５３の発熱量が増大したときには、これに応じて発熱部３５４bの発熱量が減少する。つまり、駆動回路３５３の発熱量の変動傾向に対して反対の傾向で、発熱部３５４bの発熱量を増減させることで、光変調素子３５２周囲の雰囲気温度をある程度の範囲内に維持して、当該雰囲気温度を安定させている。 （もっと読む）

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光ビームを光ビーム照射装置で照射し、前記基板へ描画する描画データを作成し、前記基板にパターンを描画するに際し、前記基板に設けられた複数のアライメントマークを撮像し、前記描画データの作成は、前記描画する描画点に対応して前記複数のアライメントマークで結ぶ辺に対して予め規定される前記描画点の座標比率に基づいて前記描画点の位置を決め、前記描画データを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大面積の被露光体における非周期性のパターンの露光を高解像力にて行う。
【解決手段】被露光体の面及びフォトマスクの面に平行な面内を矢印Ｂ方向に移動可能に形成されレンズ組立体１１が、フォトマスクのマスクパターンの等倍正立像を被露光体表面に結像可能に構成した複数のレンズ群１５を矢印Ｂ方向と交差する方向に一定の配列ピッチで並べて複数のレンズ列１６を形成し、且つ各レンズ列１６の各レンズ群１５が矢印Ｂ方向に対して斜めに交差する軸線Ｏ−Ｏに平行に並ぶように各レンズ列１６を矢印Ｂ方向と交差する方向に相互に一定量だけシフトさせて形成すると共に、互いに隣接する端部１１Ａａ，１１Ｂａ，１１Ｂｂ，１１Ｃａを軸線Ｏ−Ｏに平行に切除した構成の複数の単位レンズ組立体１１Ａ〜１１Ｃを各レンズ列１６のレンズ群１５が矢印Ｂ方向と交差方向に一定の配列ピッチで並ぶように一列に並べた構成を有するものである。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの固定子と可動子との衝突を防止する。
【解決手段】Ｘボイスコイルモータ１８ｘの固定子７３に、ストッパブロック７０を固定する。ストッパブロック７０と可動子７１のヨーク７５との間のＹ軸方向に関するクリアランスは、コイルユニット７８と磁石ユニット７７とのＹ軸方向に関するクリアランスよりも狭く設定されている。従って、コイルユニット７８と磁石ユニット７７が接触するよりも前にストッパブロック７０とヨーク７５とが接触し、これによりコイルユニット７８及び磁石ユニット７７が保護される。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの位置の検出精度を低下させることなくアライメントマークの位置の検出に要する時間を短縮することが可能なアライメントマークの検出方法および配線回路基板の製造方法を提供する
【解決手段】カメラ６２により得られる画像の範囲内にアライメントマークＡＭが存在しない場合に、画像の範囲内に存在する識別マークおよび予め記憶されたアライメントマークＡＭと識別マークとの位置関係に基づいてアライメントマークＡＭの座標が算出される。算出されたアライメントマークＡＭの座標に基づいてカメラ６２の撮像範囲内にアライメントマークＡＭが位置するために長尺状基材１００ａを移動させるべき距離が算出され、長尺状基材１００ａが算出された距離移動される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクと基材との位置合わせの時間を短縮することが可能なフォトマスクと基材との位置合わせ方法およびそれを用いた配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】露光システムは、露光機６０および画像処理装置６４を備える。露光機６０は、複数のカメラ６２ａ，６２ｂを含む。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードおよびパーシャルスキャンモードに選択的に設定可能に構成される。カメラ６２ａ，６２ｂは、フルスキャンモードでは、得られた画像データの全てを転送し、パーシャルスキャンモードでは、得られた画像データから一部を抽出して転送する。画像処理装置６４が、カメラ６２ａから転送される画像データを用いた処理とカメラ６２ｂから転送される画像データを用いた処理とを並列的に行う。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造できること。
【解決手段】本発明の態様にかかるマスク移動装置は、パターンを有するマスクを保持して該マスクを移動させるマスク移動装置であって、円筒状に形成され、所定の円筒面に沿って前記マスクを保持する保持部と、前記円筒面の円周方向に沿って前記保持部を回転させる駆動部と、を備え、前記保持部は、前記保持部が保持する前記マスクの前記パターンを前記保持部の内側に露出させる第一開口部と、前記第一開口部と対向し、前記パターンから前記第一開口部を介して前記保持部の内側に発した光を前記保持部の外側へ通過させる第二開口部と、が形成されている。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板にデバイスを効率的に製造できる露光装置を提供すること。
【解決手段】所定の円筒面に沿ってパターンを有するマスクを円筒面の円周方向に回転させつつパターンを基板に転写する露光装置であって、パターンのうち円筒面の第一領域に位置する第一部分パターンの像を第一投影領域に投影する第一投影光学系と、パターンのうち第一領域から円周方向に沿って間隔を置いた第二領域に位置する第二部分パターンの像を、第一投影領域と異なる第二投影領域に投影する第二投影光学系と、マスクの円周方向への回転に同期して、第一投影領域及び第二投影領域を経由するように基板を搬送する基板搬送装置と、を備え、搬送装置は、第一投影領域と第二投影領域との間における基板の搬送経路の経路長を調整する経路調整装置を含む。 （もっと読む）