【課題】 テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決装置】 基板（ＦＢ）の表面に凹凸状のパターンを形成するパターン形成装置（１０）において、パターンに対応するパターン情報に基づいて、基板（ＦＢ）の表面に供給された硬化性材料（Ｒ）を押圧する押圧部（１１）と、押圧部（１１）によって押圧された硬化性材料（Ｒ）に所定のエネルギーを付与し、該硬化性材料（Ｒ）を硬化させる硬化部（１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】高コスト化を招くことなく、高いスループットで精度良く描画する。
【解決手段】 電子線描画装置は、電子光学鏡筒及び試料室を有する本体部、及び主制御装置２５０などを備えている。主制御装置２５０は、制御装置２５１、回転コントローラ２５２、位置コントローラ２５３、同心円演算処理装置２５４、多角形演算処理装置２５５を有している。そして、多角形演算処理装置２５５は、多角形を描画する際の基板の回転数、描画開始位置、多角形の辺の数、及び走査電極の偏向感度に基づいて、偏向周波数を演算する振幅演算調整回路、偏向周波数と同じ周波数の方形波信号から２次関数波信号を生成する第１の信号処理回路、及び２次関数波信号における基板の半径方向の外向きの偏向成分を折り返し、半径方向の内向きの偏向成分と加算して、同心円生成信号に重畳する第２の信号処理回路を有している。 （もっと読む）

【課題】 分解能の高い識別記号を描画しながら周辺領域のフォトレジストを感光させることができる周辺露光装置を提供する。
【解決手段】 周辺露光装置（１００）は、第１の方向に移動するとともに、一端側で被露光基板（ＳＷ）を載置し他端側で被露光基板（ＳＷ）を第１の方向から第１の方向と交差する第２の方向へ回転させるステージ（１２）と、ステージの上方に配置され第２の方向に配置された躯体（１３）と、躯体の一端又は他端側の一方の側面に第２の方向に移動可能に設けられ周辺領域を露光する周辺露光手段（２０）と、躯体の一端又は他端側の周辺露光手段が設けられている側面とは反対側の側面に第２の方向に移動可能に設けられ周辺露光領域にパターンに関する識別記号を描画する記号描画手段（４２）と、を備える。そして、被露光基板（ＳＷ）が１往復のみ移動することで、パターンの周辺領域を露光するとともに識別記号を描画する。 （もっと読む）

【課題】複雑な図形のパターンに対してもフォトマスクの高精度な位置合わせを可能とする。
【解決手段】パターンをマトリクス状に備えた基板を搬送しながら、基板の搬送方向に略直交方向に複数の受光素子を一直線状に並べて有する撮像手段により所定の時間間隔で撮像された複数の画像を逐次処理して上記受光素子の並び方向における輝度変化の位置を検出し、基板が所定距離だけ移動する間に同じ位置で検出される輝度変化の回数を積算してエッジ数データを得、テンプレートを移動しながら算出されたエッジ数データに対して相関演算を行って相関値データを得、所定の閾値を超えた相関値データから複数のパターンの位置を特定し、それらの内から撮像手段のターゲット位置に近接したパターンの位置を選択し、該パターンの位置と撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出し、該位置ずれ量が所定値となるようにフォトマスクを基板の搬送方向と略直交方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】複雑な図形のパターンに対してもフォトマスクの高精度な位置合わせを可能とする。
【解決手段】パターンをマトリクス状に備えた基板を搬送しながら、基板の搬送方向に略直交方向に複数の受光素子を一直線状に並べて有する撮像手段により所定の時間間隔で撮像された複数の画像を逐次処理して上記受光素子の並び方向における輝度変化の位置を検出し、基板が所定距離だけ移動する間に同じ位置で検出される輝度変化の回数を基板搬送方向に積算してエッジ数データを得、所定の閾値を超えたエッジ数から上記パターンの搬送方向に平行な複数の長辺の位置を特定し、その複数の近接ペアの中点位置を演算し、該近接ペアの中点位置から撮像手段に予め設定されたターゲット位置に近接した中点位置を選択し、該中点位置と撮像手段のターゲット位置との位置ずれ量を算出し、該位置ずれ量が所定値となるようにフォトマスクを基板の搬送方向と略直交方向に移動する。 （もっと読む）

照明デバイスと、対象物を受容する対象物スライド面を有する対象物スライド部と、を備えるプレート形状の対象物の処理システムを改良するために、照明デバイス及び対象物スライド部は、対象物スライド部に対するプレート形状の対象物の位置が正確に決定されうるように互いに対して移動可能である。本発明によれば、少なくとも一つの縁部照射ユニットを備える縁部取得デバイスが形成されており、縁部照射ユニットは、対象物縁部領域の少なくとも一部において照射領域を備えており、該照射領域内において、各対象物縁部領域に配置される対象物縁部は、光を面状に放出する対象物スライド部の複数の側面によって照射される。対象物スライド部の反対に配置される対象物の側面において、対象物スライド面から或る距離において、少なくとも１つの縁部画像取得ユニットが形成されており、該縁部画像取得ユニットは、照射領域に配置される対象物縁部の縁部区域を、縁部画像として画像面に像形成する。各縁部画像は、少なくとも1つの縁部画像取得ユニットを使用することにより、対象物スライド部に対する位置的な正確さを伴って取得されうる。
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【課題】製造が容易な投影光学系を有する露光装置を提供する。
【解決手段】原版のパターンを投影光学系によって基板に投影して該基板を露光する露光装置において、前記投影光学系は、ミラーアセンブリを含み、前記ミラーアセンブリは、前記投影光学系の光軸を折り曲げる第１反射面を有する第１ミラー部材と、前記光軸を折り曲げる第２反射面を有する第２ミラー部材と、前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材を支持する支持機構とを含み、前記支持機構が位置決めされることによって前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材の相互の位置関係が維持されたまま前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材が位置決めされる。 （もっと読む）

【課題】放射線のパルスの持続時間中の基板の移動による誤差を低減できる、プログラマブル・パターニング手段を有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】放射線のパルスの持続時間中に基板の移動と同期させて、基板上に入射するパターン化された投影ビームをシフトする手段を供給することにより、放射線の１回のパルスの持続時間中に内での基板の移動を補正する。 （もっと読む）

【課題】性能の低下を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、第１ステージと、第１ステージ上において第１ステージに対して水平面内の第１方向に相対的に移動可能な第２ステージとを有する。ステージ装置は、一端部が第１ステージに接続され、他端部が第２ステージに接続され、第１ステージ及び第２ステージの少なくとも一方の移動に伴って、第１方向と交差する方向に配列された複数のケーブルを保持して屈曲可能なケーブル保持装置と、複数のケーブルの配列方向が傾斜するように、水平面に対してケーブル保持装置を傾斜させて支持する支持機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】光学的に位置を評価する機器及び方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ機器は、表面上に位置合わせマークを有する基板を支持する基板テーブルを備える。この機器はさらに、走査動作モード又はステップ動作モードを実現するために、この基板に対して相対的に移動可能なフレームを備える。基板の目標部分にそれぞれのパターン化されたビームを投影するために、このフレーム全体にわたって投影システムのアレイを配設する。このフレームに取り付けられた複数の位置合わせマーク検出器は、それぞれの直線駆動機構を使用してこのフレームに関して移動可能である。各位置合わせマーク検出器に関連する位置センサは、フレームに対する相対的な検出器の位置を求める。制御システムは、基板上の位置合わせマーク・パターンの上でこれらの検出器の初期位置決めを行うことと、リソグラフィ工程中にフレームと基板を動的に位置合わせする役割を担う。 （もっと読む）

【目的】ステージ上の基板位置を高精度かつ簡易に測定可能な荷電粒子ビーム描画装置の基板位置測定方法を提供する。
【構成】基板をＸ方向およびＹ方向に移動自在なステージに載置するステップと、ステージをＸ方向に移動すると同時に、ステージのＸ方向の位置を測定し、かつ、基板の上面に対し斜めにレーザ光を照射し基板からの反射光を光位置センサで受光するステップと、ステージのＸ方向の移動時の反射光の重心位置を算出するステップと、ステージをＹ方向に移動すると同時に、ステージのＹ方向の位置を測定し、かつ、基板の上面に対し斜めにレーザ光を照射し基板からの反射光を光位置センサで受光するステップと、ステージのＹ方向の移動時の反射光の重心位置を算出するステップと、ステージの位置測定結果と、算出された重心位置から、基板の位置を算出するステップと、を備える荷電粒子ビーム描画装置の基板位置検出方法。 （もっと読む）

【課題】可動部の姿勢を高い精度で制御することができる駆動装置を提供する。
【解決手段】駆動装置は、第１方向に移動する第１可動部と、前記第１可動部をその一端側および他端側において浮上させて支持する気体ベアリングをそれぞれ含む２つの浮上機構と、前記第１可動部によって支持およびガイドされながら前記第１方向に直交する第２方向に移動する第２可動部と、前記２つの浮上機構を制御する制御部とを有し、前記２つの浮上機構は、それぞれ前記第１可動部の浮上量を磁力によって変化させる電磁石を含み、前記制御部は、前記２つの浮上機構のそれぞれの前記電磁石の励磁を前記第２可動部の前記第２方向における位置に応じて制御する。 （もっと読む）

【課題】 シート状の基板をその表面と交差する方向に高精度に位置合わせすることができる位置合わせ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 シート状の基板（ＦＢ）を該基板の表面と交差する交差方向に位置合わせする位置合わせ装置である。位置合わせ装置は、基板に対して流体を吐出する複数の吐出孔（４２）及び該流体を吸引する複数の吸引孔（４７）を有し、吐出孔から吐出させた流体を介して基板を支持する支持部（２０）と、少なくとも１つの吐出孔及び吸引孔に対応して設けられた計測点（Ｐ１，Ｐ３，Ｐ５，Ｐ７，Ｐ９）における基板の交差方向の位置を計測する計測部（３０）と、計測部の計測結果に基づいて、計測点に対応付けられた吐出孔及び吸引孔に流通させる流体の流量を調整する調整部（６１，６２）と、を備える。 （もっと読む）

回転軸を持つ磁気ベアリングが、強磁性材料を有する円筒状ローターであって、上記円筒状ローターが、対称軸を持ち、上記円筒状ローターは、内側半径を持ち、上記円筒状ローターが、上部を持つ、円筒状ローターと、静的なハブであって、上記静的なハブが、該静的なハブから突出し、上記上部に隣接して配置されるオーバーハングを持つ、静的なハブと、上記第１の面と上記オーバーハングとの間の距離を制御するリフト磁気アクチュエータ装置と、上記内側半径と上記回転軸との間の距離を制御する半径方向の磁気アクチュエータ装置とを有する。
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【課題】マスクレス露光装置の各エンジンの投影レンズ等の投影倍率の違いにより各露光エリア８１〜８７の重なり部分の整合性が崩れる。
【解決手段】ワークに合わせた通常のデータ伸縮補正に加えて、予め各エンジンの投影倍率の違いによる投影伸縮率を測定し、各エンジンの開始ドット位置を設計上の正確なエンジン間隔に機械的に調整した後、各エンジンについて測定した前記投影伸縮率でもって各エンジンの描画データを補正することを特徴とするマスクレス露光装置の光学系補正方法。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの描画が基板の全面で所定通りに高精度に行え、三角波偏向信号による偏向制御において、電子ビームによる描画動作を修正し、所定のエレメント形状の感光描画が一定のドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBの照射タイミングをブランキング手段24に対するオン・オフ信号の出力によって制御しつつ、電子ビームEBの偏向動作をビーム偏向手段22に対する三角波偏向信号の出力によって制御しエレメント形状を塗りつぶすように走査して描画する際に、基準描画時間に対しブランキング手段の作動によるビーム照射時間が短くなるようにオン・オフ信号を設定する一方、ビーム照射時間の短縮比に反比例して三角波偏向信号の振幅を大きく設定する三角波補正を行って描画する。 （もっと読む）

【課題】露光ビームを照射して潜像パターンを形成する記録装置と記録方法において、ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高い装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 照射領域変更などの理由でハエの目レンズを交換する場合にハエの目レンズ固有の照度むらを補正し、照度むら調整のダウンタイムを無くし、生産性を向上させる照明光学装置を提供する。
【解決手段】 光源からの光を照明光学系に入射し、該照明光学系からの照明光により被照射面を照射する照明光学装置であって、複数のハエの目レンズと、光路内において前記ハエの目レンズを他のハエの目レンズに交換するハエの目レンズ交換手段と、前記複数のハエの目レンズと同数の、照射範囲を規定するスリットと、光路内において前記スリットを他のスリットに交換するスリット交換手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】斜めに配置するミラーの自重たわみを、ミラーの平面性を損なうことなく、簡便な機構で防ぐこと。
【解決手段】ランプ２から出射した光を集光鏡３で集光させ、第１のミラー４１、インテグレータレンズ７、第２のミラー４２、コリメータレンズ８を介して被照射面１１に照射する。第１のミラー４１や第２のミラー４２は、斜めに配置され自重によるたわみが生じる。このたわみを補正するためミラー４１、ミラー４２の反射面とは反対側に梃子手段２０ａ，２０ｂが設けられ、たわんだ部分を押し上げたり、たわんだ部分を引き上げてたわみを補正する。ここで、梃子手段２０ａ，２０ｂの棹を支点において曲げてもよい。これにより、梃子手段のバランスを安定させて、力点に取り付ける錘の重さの軽量化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】ブランキングを行う必要をなくすことでビーム電流のロスを無くし、スループットを向上する。
【解決手段】描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。このとき、描画パターンを径方向に太い大きさで形成したい区間Ｒ６においては、最適速度生成器４７で描画速度Ｖexpを区間Ｒ４，Ｒ５よりも遅く設定し、Ｖexpが略一定の場合よりもＶsubを相対的に遅くすることで、太い描画を実現できる。 （もっと読む）