【課題】 回転精度が高いことに加えて、モータ等で発生した熱が主軸を経由してモータと反対側の回転テーブルへ伝わりにくく、かつ主軸の熱膨張を抑えることができ、さらに、不導体材料を使用しながら静電容量タイプの非接触計での測定を可能にした静圧気体軸受スピンドルを提供する。
【解決手段】 静圧気体軸受スピンドルは、主軸２と、この主軸２を回転自在に支持する静圧気体軸受３と、主軸２の一端がモータ軸と２ｃなり主軸２を回転駆動するモータ４と、主軸２の他端に固定された回転テーブル５とを備える。主軸２における静圧気体軸受３により回転自在に支持される部分である主軸被支持部２ａ、および主軸２における主軸被支持部２ａよりも回転テーブル５側の部分である主軸テーブル側部２ｂをセラミックス材で形成し、主軸被支持部２ａにおけるラジアル軸受部３ｂに導電性のメッキを施す。 （もっと読む）

【課題】ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。
【解決手段】ロングアーク方式の１７２ｎｍエキシマＵＶランプによるＵＶランプ２を複数本収容したＵＶランプボックス１の照射窓６に、金属膜スリット７ａを複数有するワイヤグリッド偏光子７を設置して、配向膜としての被露光基板５に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマＵＶランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス性に優れたマスクホルダを提供すること。
【解決手段】円筒状に形成された固定部と、円筒状に形成され、前記固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに前記固定部に対して回転可能に接続される回転部と、前記回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクパターン等の微細パターンの描画が、簡易な制御により基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板１０を一方向に回転させつつ、電子ビームＥＢを描画オン・オフ制御により基板の回転に依存して描画するについて、半径方向にｎ分割したエレメントの第１区画を描画した後、電子ビームを基板回転方向および半径方向に偏向させて第２区画の描画開始位置へ移動させて描画するのを当該エレメントに対し１回転にｍ回（ｍ≧２）行った後、次のエレメントの描画に移行し順次描画する。 （もっと読む）

【課題】露光領域における半径方向に沿った辺のＬＥＲを良好にする。
【解決手段】情報記録媒体製造用の凹凸パターンを形成するための樹脂層が形成された基材を回転させた状態において樹脂層に描画用ビームを照射することによって、凹凸パターンを形成するためのサーボパターンＰＳａを含む露光パターンＰａを樹脂層に描画する描画方法であって、露光パターンＰａにおけるサーボパターンＰＳａのうちの少なくとも一部のパターン（プリアンブルパターンＰＳ１等）の描画に際して、基材の回転方向と交差する方向（同図における上下方向）に描画用ビームを往復動させて、そのパターンにおける基材の半径方向の一部を描画する第１の部分描画処理を、第１の部分描画処理において描画用ビームのビーム中心を移動させる第１の移動範囲の半径方向に沿った長さＬａよりも短く規定した長さＬｂだけ半径方向に沿って第１の移動範囲を移動させて複数回に亘って実行する。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に抑制することができる露光装置、露光方法及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルパターニングデバイスを含む柔軟で低コストなリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板の目標部分にパターンを生成可能である光学コラムを備えるリソグラフィ装置に関する。光学コラムには、ビームを発するよう構成されている自己放射コントラストデバイスと、ビームを目標部分に投影するよう構成されている投影系と、が設けられていてもよい。本装置には、光学コラム又はその一部を基板に対して移動させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。光学センサデバイスが設けられており、これは光学コラムに対し移動可能であり、光学センサデバイス９３６が光学コラムの各々の投影領域９４０を通るよう移動し光学コラムの各々のビームを測定することを可能とする移動範囲を有する。 （もっと読む）

【課題】光学コラム又はその一部の公差に影響されにくいリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板９２８を保持するよう構成されている基板テーブル９０２と、基板の目標部分にパターンを生成可能である光学コラムと、を備えるリソグラフィ装置に関する。光学コラムは、複数の放射ビームを与えるよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスと、複数のビームを基板に投影するよう構成されている投影系と、を備えてもよい。本装置には、光学コラム又はその一部９２４、９３０を基板に対して移動させるためのアクチュエータが設けられていてもよい。光学コラムは、複数のビームのうち少なくとも２つのビームを投影系の複数のレンズのうちある同一のレンズを通じて基板の目標部分に一度に投影するよう構成されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】基板移送ロボットを使用することなく、基板を水平方向に移送しつつ基板上にフォトレジスト膜を形成する。
【解決手段】基板処理装置１０はコーティングモジュール１００と乾燥モジュール２００を含み、コーティングモジュール１００は基板２を水平方向に移送して基板２を移送する間、基板２上にフォトレジスト組成物を供給してフォトレジスト膜を形成し、乾燥モジュール２００はコーティングモジュール１００から直接基板２を移送され基板２上に形成されたフォトレジスト膜を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンへのドーパントのドープ又はポリシリコンの成膜により基板上に導電化層を形成する導電化層形成工程と、前記導電化層上にレジスト層を形成して電子線により描画し、前記導電化層の表面が凹部に露出するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記導電化層を電流シード層として電鋳により前記レジストパターン上に金属めっき層を形成する電鋳工程とを備え、前記基板、導電化層及びレジストパターンを除去して前記金属めっき層をスタンパとする。 （もっと読む）

【課題】サーボエリアおよびデータエリアの微細パターンの描画が基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に実行でき、一定ドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、電子ビームＥＢの照射をブランキング手段２４に対するオン・オフ信号によって制御し、ビーム偏向動作を偏向手段２２に対する偏向信号の出力によって制御し、サーボエレメント１３およびグルーブパターン１６またはドットパターンを走査して描画する際に、パターン形状を描画するためのパターン形状偏向信号に加えて、ビームスポットの周方向の相対線速度を調整する相対線速度偏向信号を偏向手段に出力し、サーボエリアでの相対線速度＞基板線速度＞データエリアでの相対線速度に設定して描画する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。
【解決手段】露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。基板１０が露光及び位置合わせユニット１５の真下で走査を受けるとき、基板のそれぞれの部分が最初に検出器ユニット１６の下方を通過し、次いで露光ユニット１７の下方を通過する。したがって、基板１０のそれぞれの部分に関して検査器ユニット１６によって測定された、直線位置、配向、及び膨張に関する情報が露光ユニット１７に伝達可能であり、基板が露光ユニット１７の真下を通過しながら基板が露光されるとき、基板の当該部分に関する露光条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板を１回の走査で露光するリソグラフィ装置と方法を提供する。
【解決手段】照明システムは、個別制御可能の要素のアレイでパターン形成したビームを供給し、ビームをレンズアレイに通して基板の目標部分へ投影し、アレイの各レンズはビームの各部分を基板へ配向し、変位システムは、基板とビームを相対的に変位させ、ビームは所定の走査方向に基板全体で走査される。投影システムを各トラックに沿って各ビームを走査するように位置決めする。各トラックはビーム１本で走査する第一部分と、隣接トラックと重なりビーム２本で走査する第二部分を有する。第一部分への各ビーム部分の最大強度は第二部分へのビーム部分の最大強度より大きいので、第一と第二部分はほぼ同じ最大強度の放射線に露光する。隣接ビームをこのように重ねビーム強度を変調すると異なる光列の光学的フットプリントが継合わされ１回の走査で大面積の基板を露光できる。 （もっと読む）

パターン生成システムは、光学系（１０６）および回転子（１００）を備えている。光学系（１０６）は、光学スキャナｃ（１０４）にレーザ像を投影するように構成されている。回転子（１００）は、互いに対して第１角度で配置された複数の光学アーム（１０２）を有し、光学スキャナ（１０４）をさらに備えている。レーザ像は、光学スキャナ（１０４）によって回転子（１００）の複数の光学アーム（１０２）の各々に順次反射され、ワーク上にパターンを生成する。
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【課題】鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する干渉型リソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】レーザにより発生される空間的かつ時間的にコヒーレントな光ビーム１０２は、ビームスプリッタ１０４に入射する。ビームスプリッタ１０４はビーム１０２を第１および第２のビーム１０６Ａおよび１０６Ｂに分離する。続いて２つのビーム１０６Ａおよび１０６Ｂは、それぞれ基板１１０に向けて第１および第２の反射表面１０８Ａおよび１０８Ｂにより再指向される。干渉パターン１１２は基板１１０の頂部表面に形成される。干渉パターン１１２は書き込み用イメージでフォトレジスト層を露光する。 （もっと読む）

基板（Ｐ）の下方には、基板（Ｐ）の下面にエアを噴出する複数のエア浮上ユニット（５０）が配置され、基板（Ｐ）は、概ね水平となるように非接触支持される。また、基板（Ｐ）は、定点ステージ（４０）が有するチャック本体（８１）により被露光部位が下方から非接触保持され、その被露光部位の面位置がピンポイントで調整される。従って、基板（Ｐ）に高精度で露光を行うことがでる。チャック本体（８１）は、基板の位置に応じて、スキャン方向に移動するので、基板が露光領域（ＩＡ）に進入する際でも、確実に基板を保持できる。
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【課題】光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置、露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】光照射装置８０は、ランプ７１とランプ７１から発生された光に指向性をもたせて射出する反射鏡７２をそれぞれ含む複数の光源部７３と、所定数の光源部７３をそれぞれ取り付け可能な複数のカセット８１と、複数のカセット８１を取り付け可能なフレーム８２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】制御装置により、シートＳを仮保持したまま６つの補助シートホルダＳＨ_２，ＳＨ_３が−Ｚ方向に微小駆動され、それらの保持面がシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めされ、これにより、シートＳに幅方向（Ｙ軸方向）及び長尺方向に関する適当なテンションが加えられ、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。すなわち、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉにＸＹ二次元方向のテンションが付与された状態で、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分が、シートホルダＳＨ_１の平坦状の保持面に倣わされる。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シートＳの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、シートの所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】長尺のシートＳの長尺方向の少なくとも２箇所を拘束し、長尺方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに長尺方向に関するテンションを付与するとともに、シート材の長尺方向と交差する幅方向の両側でシート材をホルダＳＨ_２で吸着して拘束し、幅方向に関して所定領域ＳＡ_ｉに幅方向に関するテンションを付与する。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シート材Ｓの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、平坦化された状態のシート材の所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】シートの複数の区画領域に連続してパターンを形成する。
【解決手段】シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光に際して、ステージＳＳＴ_１は、走査領域ＡＳの＋Ｘ端部の待機位置でシートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着して、マスク（マスクステージ）と同期して、Ｘ軸方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動する。この際に、マスクのパターンの一部に対応する照明光が投影光学系を介してシートＳに照射されることで、パターンが転写（形成）される。区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光後、ステージＳＳＴ_２は、待機位置にＸＹ平面内で移動して、シートＳの次の区画領域ＳＡ_ｉ+１に対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着後、上述と同様に走査露光方式で露光してパターンを形成する。 （もっと読む）