マスクホルダ、円筒型マスク、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法
【課題】メンテナンス性に優れたマスクホルダを提供すること。
【解決手段】円筒状に形成された固定部と、円筒状に形成され、前記固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに前記固定部に対して回転可能に接続される回転部と、前記回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部とを備える。
【解決手段】円筒状に形成された固定部と、円筒状に形成され、前記固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに前記固定部に対して回転可能に接続される回転部と、前記回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクホルダ、円筒型マスク、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子、電子ペーパに用いられる電気泳動素子などが知られている。現在、これらの表示素子として、基板表面に薄膜トランジスタと呼ばれるスイッチング素子（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を形成し、その上にそれぞれの表示デバイスを形成する能動的素子（アクティブデバイス）が主流となってきている。
【０００３】
近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた１枚のシート状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。
【０００４】
基板が送り出されてから巻き取られるまでの間、複数の処理装置により、ＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート酸化膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等が形成される。その後、表示素子の他の構成要素が基板上に順次形成される。例えば基板上に有機ＥＬ素子を形成する場合には、発光層や陽極、陰極、電気回路などが基板上に順次形成される。これらの構成要素は、例えばマスクを介した露光光で基板を露光する露光装置などを用いて、例えばフォトリソグラフィ法を用いて形成される場合がある。
【０００５】
露光装置のマスクの一例として、例えば円筒型のマスクが知られている。このような円筒型マスクは、パターンを有する回転体を有している。この回転体は、例えば円筒形状又は円柱形状に形成されており、その円筒面上にパターンが形成されている。円筒型のマスクを用いることにより、ステージを往復運動させたり、マスクを保持する複数のステージを用いたりする必要が無く、コストを低減することができる。また、被露光体を一方向に移動させることで被露光体上の複数箇所にパターンを転写することができるため、ステージの加減速の回数を低減させることができる。その結果として、露光精度を向上させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／１００８６８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の円筒型マスクでは、回転体の円筒面上にパターンが一体的に形成されているため、マスクを交換する際に回転体ごと交換する必要がある。このため、円筒型マスクを用いる場合、メンテナンス動作が煩雑になる虞がある。
【０００８】
上記のような事情に鑑み、本発明は、メンテナンス性に優れたマスクホルダ、円筒型マスク、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の態様に従えば、円筒状に形成された固定部と、円筒状に形成され、固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに固定部に対して回転可能に接続される回転部と、回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部とを備えるマスクホルダが提供される。
【００１０】
本発明の第２の態様に従えば、本発明のマスクホルダと、当該マスクホルダの保持部に取り外し可能に保持され、パターンを有するシート状のマスク部材とを備える円筒型マスクが提供される。
【００１１】
本発明の第３の態様に従えば、マスクに形成されたパターンの像を基板に投影する露光装置であって、本発明のマスクホルダの固定部を保持する保持装置と、マスクホルダの回転部を固定部に対して回転させる駆動装置と、マスクホルダの保持部が保持するマスク部材に形成されたパターンの像を基板に投影する投影光学系とを備える露光装置が提供される。
【００１２】
本発明に第４の態様に従えば、帯状のシート基板を搬送する基板搬送部と、シート基板を処理する基板処理部と、を備え、基板処理部は、本発明の露光装置を有する基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の態様によれば、メンテナンス性に優れたマスクホルダを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板処理装置の構成を示す図。
【図２】本実施形態に係る露光装置の構成を示す図。
【図３】本実施形態に係る円筒型マスクの構成を示す斜視図。
【図４】本実施形態に係る円筒型マスクの一部の構成を示す斜視図。
【図５】本実施形態に係る円筒型マスクの一部の構成を示す斜視図。
【図６】本実施形態に係る照明光学系の構成を示す斜視図。
【図７】本実施形態に係るマスク部材の構成を示す斜視図。
【図８】本実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す斜視図。
【図９】本実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す斜視図。
【図１０】本実施形態に係る露光装置のメンテナンスの様子を示す図。
【図１１】本実施形態に係る露光装置の露光動作を示す図。
【図１２】マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る基板処理装置ＦＰＡの構成を示す図である。
図１に示すように、基板処理装置ＦＰＡは、シート基板（例えば、帯状のフィルム部材）ＦＢを供給する基板供給部ＳＵ、シート基板ＦＢの表面（被処理面）に対して処理を行う基板処理部ＰＲ、シート基板ＦＢを回収する基板回収部ＣＬ、及び、これらの各部を制御する制御部ＣＯＮＴを有している。基板処理装置ＦＰＡは、例えば工場などに設置される。
【００１６】
基板処理装置ＦＰＡは、基板供給部ＳＵからシート基板ＦＢが送り出されてから、基板回収部ＣＬでシート基板ＦＢを回収するまでの間に、シート基板ＦＢの表面に各種処理を実行するロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）の装置である。基板処理装置ＦＰＡは、シート基板ＦＢ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いることができる。勿論、これらの素子以外の素子を形成する場合において基板処理装置ＦＰＡを用いても構わない。
【００１７】
基板処理装置ＦＰＡにおいて処理対象となるシート基板ＦＢとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。
【００１８】
シート基板ＦＢのＹ方向（短尺方向）の寸法は例えば１ｍ〜２ｍ程度に形成されており、Ｘ方向（長尺方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えばシート基板ＦＢのＹ方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。また、シート基板ＦＢのＸ方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。
【００１９】
シート基板ＦＢは、例えば可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、シート基板ＦＢとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。
【００２０】
シート基板ＦＢは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。
【００２１】
基板供給部ＳＵは、例えばロール状に巻かれたシート基板ＦＢを基板処理部ＰＲへ送り出して供給する。基板供給部ＳＵには、例えばシート基板ＦＢを巻きつける軸部や当該軸部を回転させる回転駆動源などが設けられている。この他、例えばロール状に巻かれた状態のシート基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられた構成であっても構わない。
【００２２】
基板回収部ＣＬは、基板処理部ＰＲからのシート基板ＦＢを例えばロール状に巻きとって回収する。基板回収部ＣＬには、基板供給部ＳＵと同様に、シート基板ＦＢを巻きつけるための軸部や当該軸部を回転させる回転駆動源、回収したシート基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられている。なお、基板処理部ＰＲにおいてシート基板ＦＢが例えばパネル状に切断される場合などには例えばシート基板ＦＢを重ねた状態に回収するなど、ロール状に巻いた状態とは異なる状態でシート基板ＦＢを回収する構成であっても構わない。
【００２３】
基板処理部ＰＲは、基板供給部ＳＵから供給されるシート基板ＦＢを基板回収部ＣＬへ搬送すると共に、搬送の過程でシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して処理を行う。基板処理部ＰＲは、例えば処理装置１０、搬送装置３０及びアライメント装置５０などを有している。
【００２４】
処理装置１０は、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して例えば有機ＥＬ素子を形成するための各種装置を有している。このような装置としては、例えば被処理面Ｆｐ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、有機ＥＬ素子を駆動するための電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置、スピンコート型塗布装置など）、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。これらの各装置は、例えばシート基板ＦＢの搬送経路上に適宜設けられている。本実施形態では、処理装置１０として、例えば露光装置を用いた場合を例に挙げて説明する。
【００２５】
搬送装置３０は、基板処理部ＰＲ内において例えばシート基板ＦＢを基板回収部ＣＬ側へ搬送するローラー装置Ｒを有している。ローラー装置Ｒは、シート基板ＦＢの搬送経路に沿って例えば複数設けられている。複数のローラー装置Ｒのうち少なくとも一部のローラー装置Ｒには、駆動機構（不図示）が取り付けられている。このようなローラー装置Ｒが回転することにより、シート基板ＦＢがＸ軸方向に搬送されるようになっている。複数のローラー装置Ｒのうち例えば一部のローラー装置Ｒが搬送方向と直交する方向に移動可能に設けられた構成であっても構わない。
【００２６】
アライメント装置５０は、シート基板ＦＢに対してアライメント動作を行う。アライメント装置５０は、シート基板ＦＢの位置状態を検出するアライメントカメラ５１と、当該アライメントカメラ５１の検出結果に基づいてシート基板ＦＢをＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向に微調整する調整装置５２とを有している。
【００２７】
アライメントカメラ５１は、例えばシート基板ＦＢに形成されたアライメントマークなどを検出し、検出結果を制御部ＣＯＮＴに送信する。制御部ＣＯＮＴは、当該検出結果に基づいてシート基板の位置情報を求め、当該位置情報に基づいて調整装置５２による調整量を制御する。
【００２８】
図２は、処理装置１０として用いられる露光装置ＥＸの構成を示す図である。
図２に示すように、露光装置ＥＸは、マスクＭに形成されたパターンの像をシート基板ＦＢに投影する装置である。露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬ、保持装置ＨＤ、回転駆動装置ＡＣＲ、投影光学系ＰＬ及び基板ステージＦＳＴを有している。
【００２９】
本実施形態において、マスクＭは、マスクホルダ４０及びマスク部材４１を有している。図３は、マスクＭの構成を示す斜視図である。図２及び図３に示すように、マスクホルダ４０は、保持装置ＨＤに固定される固定部材４２と、当該固定部材４２の表面に沿って回転する回転部材４３とを有している。
【００３０】
回転部材４３は、例えば回転駆動機構ＡＣＲに接続されている。回転駆動機構ＡＣＲは、回転部材４３を駆動する。当該回転部材４３の駆動量及び駆動のタイミングなどについては、例えば制御部ＣＯＮＴによって制御されるようになっている。マスク部材４１は、例えばシート状に形成されている。マスク部材４１は、回転部材４３の保持部４４上に保持されている。
【００３１】
図４は、固定部材４２の構成を示す斜視図である。図５は、回転部材４３の構成を示す斜視図である。
図４に示すように、固定部材４２は、例えば円筒状に形成されている。固定部材４２には、窓部４２ａ〜４２ｄが形成されている。窓部４２ａ〜４２ｄは、例えば固定部材４２の中心軸方向に一列に形成されており、例えば等間隔で配置されている。ここで、中心軸とは、例えば固定部材４２の断面の円の中心を通り円筒面に沿った軸である。窓部４２ａ〜４２ｄは、固定部材４２の内部と外部とを貫通して形成されている。
【００３２】
固定部材４２には、回転部材４３の回転を案内する案内部４２ｇが設けられている。案内部４２ｇは、例えば固定部材４２の円筒面４２ｆに対して凹状に形成されている。案内部４２ｇは、例えば円筒面４２ｆの一周に亘って形成されている。案内部４２ｇは、例えば固定部材４２の中心軸方向に複数設けられている。
【００３３】
図５に示すように、回転部材４３は、例えば円筒状に形成されている。回転部材４３は、固定部材４２の円筒面４２ｆを囲うように配置される。回転部材４３は、固定部材４２の案内部４２ｇに沿って回転可能に設けられている。案内部４２ｇと回転部材４３との間には、例えば気体の層が形成されるようになっている。当該気体の層を介して回転部材４３が固定部材４２の周りをほぼ摩擦の無い状態で回転することができるようになっている。
【００３４】
回転部材４３には、例えば開口部４３ａ〜４３ｄが設けられている。各開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３の円筒面４３ｆの周方向に沿って形成されている。開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３の中心軸方向に例えば等間隔に配置されている。ここで、中心軸とは、例えば回転部材４３の断面の円の中心を通り円筒面に沿った軸である。より具体的には、開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３が固定部材４２に取り付けられた状態において、それぞれ固定部材４２の窓部４２ａ〜４２ｄに重なる位置に配置されている。
【００３５】
開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３の周方向に互いにずれるように配置されている。例えば、開口部４３ａ及び４３ｃは、回転部材４３の回転方向において等しい角度位置に配置されている。また、開口部４３ｂ及び４３ｄは、回転部材４３の回転方向において等しい角度位置に配置されている。そして、開口部４３ｂ及び４３ｄは、開口部４３ａ及び４３ｃに対して、回転部材４３の回転方向にずれて配置されている。
【００３６】
回転部材４３には、マスク部材４１を保持する保持部４４が設けられている。保持部４４は、マスク部材４１を吸着可能な構成になっている。例えば、不図示の吸引口を有しており、当該吸引口にマスク部材４１を吸着させる構成であっても構わない。保持部４４は、例えば開口部４３ａ〜４３ｄの周囲に配置されている。
【００３７】
照明光学系ＩＬは、マスクＭ上の所定の照明領域を均一な照度分布の露光光ＥＬＩで照明する。照明光学系ＩＬから射出される露光光ＥＬＩとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）等が用いられる。照明光学系ＩＬは、例えばマスクＭの内部から露光光ＥＬＩをマスク部材４１に対して照射する。
【００３８】
照明光学系ＩＬは、一対の導光装置１２ａ及び１２ｂを有している。導光装置１２ａ及び１２ｂは、導光部材１３と、当該導光部材１３に接続された光分割器１６及び全反射鏡１５とを有している。導光装置１２ａは、光を射出する光射出筒１４ａ及び１４ｂを有している。導光装置１２ｂは、光を射出する光射出筒１４ｃ及び１４ｄを有している。
【００３９】
図３に示すように、本実施形態に係る露光装置ＥＸにおいて、導光装置１２ａ及び１２ｂは、固定部材４２内に収容されている。導光装置１２ａ及び１２ｂは、導光部材１３がそれぞれ固定部材４２の異なる端部に向けられており、当該固定部材４２の端部側から光分割器１６、全反射鏡１５が配置された構成となっている。したがって、導光装置１２ａ及び１２ｂは、固定部材４２の中心軸方向について線対称な構成となっている。
【００４０】
この照明光学系ＩＬは、導光部材１３によって例えば固定部材４２の両端から光を取り込む構成であり、取り込んだ光を光射出筒１４ａ〜１４ｄから射出する構成である。このため、露光装置ＥＸには例えば不図示の光源と、当該光源から導光部材１３に光を導く光学系とが設けられている。
【００４１】
各光射出筒１４ａ〜１４ｄは、例えば固定部材４２の中心軸方向に等間隔で配置されている。具体的には、光射出筒１４ａ〜１４ｄは、窓部４２ａ〜４２ｄに挿入されるように配置されている。このため、光射出筒１４ａから１４ｄは、窓部４２ａ〜４２ｄに挿入された状態で固定部材４２の径方向の外側に向けられている。ここでは、回転部材４３の開口部４３ａ〜４３ｄが窓部４２ａ〜４２ｄに重なるように配置されている。このため、光射出筒１４ａ〜１４ｄは、窓部４２ａ〜４２ｄ及び開口部４３ａ〜４３ｄを介して、マスク部材４１に向けられている。光射出筒１４ａ〜１４ｄ内には例えばブラインド結像系やコンデンサーなどが配置されており、例えば図６に示すように、光射出筒１４ａ〜１４ｄが台形状の露光光ＥＬＩを射出するようになっている。このように、照明光学系ＩＬは、マスクホルダ４０の内部からマスク部材４１に対して露光光を照射するようになっている。
【００４２】
図７は、マスク部材４１の構成を示す図である。
図７に示すように、マスク部材４１は、例えば可撓性を有する材料を用いて帯状に形成されている。マスク部材４１は、マスクホルダ４０の回転部材４３に取り付けられて用いられる（図３参照）。このようにマスク部材４１は、回転部材４３の円筒面に沿って湾曲した状態で保持される。マスク部材４１は、回転部材４３に取り付けられた状態において、例えば保持部４４によって吸着されて保持されるようになっている。保持部４４の保持状態を解除することにより、マスク部材４１を取り外すことができるようになっている。このように、マスク部材４１は、着脱可能に回転部材４３に取り付けられることとなる。
【００４３】
マスク部材４１には、所定のパターンＰが形成されている。パターンＰは、例えばマスク部材４１の長手方向に２箇所に形成されている。パターンＰは、例えば複数の単位パターンＰ１〜Ｐ４を有している。
【００４４】
単位パターンＰ１〜Ｐ４は、１つのパターンが分割されたパターンである。単位パターンＰ１〜Ｐ４は、互いに離間する複数の領域に分割されて形成されている。本実施形態では、単位パターンＰ１〜Ｐ４は、例えばマスク部材４１の短手方向に配列されている。単位パターンＰ１〜Ｐ４は、例えば開口部４３ａ〜４３ｄのピッチとほぼ等しいピッチで配置されており、例えば上記の開口部４３ａ〜４３ｄに対応する箇所に配置されている。すなわち、単位パターンＰ１及びＰ３と、単位パターンＰ２及びＰ４とがマスク部材４１の長手方向にずれた位置に配置されている。また、単位パターンＰ１及びＰ３と、単位パターンＰ２及びＰ４とは、それぞれマスク部材４１の長手方向に揃った位置に設けられている。このため、開口部４３ａ〜４３ｄと単位パターンＰ１〜Ｐ４とが重なるようにマスク部材４１を回転部材４３に取り付けることができるようになっている。
【００４５】
図８は、投影光学系ＰＬ及び基板ステージＦＳＴの構成を示す平面図である。
図８に示すように、投影光学系ＰＬは、４つの投影部ＰＬ１〜ＰＬ４を有している。当該投影部ＰＬ１〜ＰＬ４のうち例えば投影部ＰＬ１及びＰＬ３は、Ｘ方向の位置が揃っており、Ｙ方向に間隔をあけて配置されている。投影部ＰＬ１及びＰＬ３は、基板ステージＦＳＴ上のうち離れた２つの投影領域ＥＡ１及びＥＡ３にそれぞれパターンＰの像を投影する。投影領域ＥＡ１及び投影領域ＥＡ３は、例えば台形状に形成される。
【００４６】
投影部ＰＬ２は、投影部ＰＬ１及び投影部ＰＬ３に対してＸ方向にずれた位置に配置されている。また、投影部ＰＬ２は、Ｙ方向において投影部ＰＬ１と投影部ＰＬ３との間に配置されている。投影部ＰＬ４は、投影部ＰＬ２に対してＹ方向に間隔をあけて配置されている。投影部ＰＬ４は、投影部ＰＬ２との間で投影部ＰＬ３を挟む位置に設けられている。投影部ＰＬ４は、投影部ＰＬ２とＸ方向の位置が揃っている。投影部ＰＬ２及びＰＬ４は、基板ステージＦＳＴ上のうち離れた２つの投影領域ＥＡ２及びＥＡ４にそれぞれパターンＰの像を投影する。投影領域ＥＡ２及び投影領域ＥＡ４は、例えば台形状に形成される。
【００４７】
また、投影部ＰＬ１〜ＰＬ４が上記のように配置されているため、当該投影部ＰＬ１及びＰＬ３と、投影部ＰＬ２及びＰＬ４との間では、それぞれマスクＭ側の視野がずれた状態になっている。このため、上記マスクＭにおいては、回転部材４３の開口部４３ａ〜４３ｄが、当該回転部材４３の周方向（回転方向）にずれた位置に配置されることになる。そのズレ量は、投影部ＰＬ１〜ＰＬ４のマスク側の視野のズレに対応している。
【００４８】
本実施形態では、投影部ＰＬ１及び投影部ＰＬ２は、投影領域ＥＡ１の＋Ｙ側に形成されるテーパー部分と投影領域ＥＡ２の−Ｙ側に形成されるテーパー部分とが例えばＹ方向において重なるように配置されている。また、投影部ＰＬ２及び投影部ＰＬ３は、投影領域ＥＡ２の＋Ｙ側に形成されるテーパー部分と投影領域ＥＡ３の−Ｙ側に形成されるテーパー部分とが例えばＹ方向において重なるように配置されている。更に、投影部ＰＬ３及び投影部ＰＬ４は、投影領域ＥＡ３の＋Ｙ側に形成されるテーパー部分と投影領域ＥＡ４の−Ｙ側に形成されるテーパー部分とが例えばＹ方向において重なるように配置されている。
【００４９】
図９は、基板ステージＦＳＴの構成を示す断面図である。
図８及び図９に示すように、基板ステージＦＳＴは、投影領域ＥＡ１〜ＥＡ４を含む領域に凹部２１を有している。凹部２１は、例えばステージ本体２０の＋Ｚ側の面に対して−Ｚ側に湾曲して形成されている。当該凹部２１の曲率は、例えば回転部材４３に取り付けられたマスク部材４１の曲率に合わせて設定されている。具体的には、マスク部材４１が取り付けられた状態における半径をＲ、マスク部材４１に照射される露光光のＸ方向の幅をｘ、露光光が照射されるマスク部材４１の湾曲部分の深さｈとすると、
Ｒ´＝ｘ２／２ｈ
となる。
【００５０】
また、ステージ本体２０には、当該凹部２１の内部及びその周囲に噴出口２２及び吸引口２３が設けられている。噴出口２２から例えば気体を噴出し、吸引口２３から例えば当該気体を吸引することにより、ステージ本体２０の＋Ｚ側の面（凹部２１を含む）に気体の層を形成することができるようになっている。また、吸引口２３の吸引量を噴出口２２の噴出量よりも大きくすることにより、例えばシート基板ＦＢを吸着できるようになっている。なお、投影領域ＥＡ１に対応する凹部２１と投影領域ＥＡ３に対応する凹部２１とが接続されて１つの凹部を形成する構成であっても構わない。投影領域ＥＡ２に対応する凹部２１と投影領域ＥＡ４に対応する凹部２１とについても同様である。
【００５１】
上記のように構成された基板処理装置ＦＰＡは、制御部ＣＯＮＴの制御により、ロール方式によって有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する。以下、上記構成の基板処理装置ＦＰＡを用いて表示素子を製造する工程を説明する。
【００５２】
まず、ローラーに巻き付けられた帯状のシート基板ＦＢを基板供給部ＳＵに取り付ける。制御部ＣＯＮＴは、この状態から基板供給部ＳＵから当該シート基板ＦＢが送り出されるように、ローラーを回転させる。そして、基板処理部ＰＲを通過した当該シート基板ＦＢを基板回収部ＣＬのローラーで巻き取らせる。この基板供給部ＳＵ及び基板回収部ＣＬを制御することによって、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐを基板処理部ＰＲに対して連続的に搬送することができる。
【００５３】
制御部ＣＯＮＴは、シート基板ＦＢが基板供給部ＳＵから送り出されてから基板回収部ＣＬで巻き取られるまでの間に、基板処理部ＰＲの搬送装置３０によってシート基板ＦＢを当該基板処理部ＰＲ内で適宜搬送させつつ、処理装置１０によって表示素子の構成要素をシート基板ＦＢ上に順次形成させる。
【００５４】
この工程の中で、露光装置ＥＸによって処理を行う場合、例えば図１０に示すように、当該マスクホルダ４０にマスク部材４１を巻き付けてマスクＭを形成する。当該マスクＭは、露光装置ＥＸの保持装置ＨＤに保持させる。また、マスクホルダ４０内に照明光学系ＩＬを配置させる。
【００５５】
次に、不図示の光源から照明光学系ＩＬに露光光ＥＬＩを供給し、照明光学系ＩＬからマスクＭに対して台形状の露光光ＥＬＩを照射させる。マスクＭに照射された露光光ＥＬＩは、マスク部材４１のパターンＰに照射される。投影光学系ＰＬは、当該パターンＰの像を投影領域ＥＡ１〜ＥＡ４に対して投影する。
【００５６】
図１１に示すように、例えばシート基板ＦＢの被処理面は、複数の被処理領域（露光領域）Ｆ１〜Ｆ７に分割して処理が行われることとなる。ここでは、露光領域Ｆ１、Ｆ３、Ｆ５、Ｆ７は、投影領域ＥＡ１〜ＥＡ４に投影される像のみによって露光される部分である。露光領域Ｆ２は、投影領域ＥＡ１に投影される像の一部と投影領域ＥＡ２に投影される像の一部とによって露光される部分である。露光領域Ｆ４は、投影領域ＥＡ２に投影される像の一部と投影領域ＥＡ３に投影される像の一部とによって露光される部分である。露光領域Ｆ６は、投影領域ＥＡ３に投影される像の一部と投影領域ＥＡ４に投影される像の一部とによって露光される部分である。
【００５７】
以上のように、本実施形態によれば、円筒状に形成された固定部材４２と、円筒状に形成され、固定部材４２と同軸に該固定部材４２の周囲に設けられるとともに固定部材４２に対して回転可能に接続される回転部材４３と、回転部材４３に設けられ、シート状のマスク部材４１を取り外し可能に保持する保持部４４とを備えるマスクホルダ４０を用いるため、マスク部材４１の交換、取り付け及び取り外しを容易に行うことができる。これにより、メンテナンス性に優れたマスクホルダ４０を提供することができる。
【００５８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態では、１つのマスクホルダ４０に対して１枚のマスク部材４１を取り付ける構成としたが、これに限られることは無く、例えば１つのマスクホルダ４０に対して複数のマスク部材４１を取り付ける構成としても構わない。この場合、例えば１つのパターンが分割された単位パターンの１つ１つがそれぞれ形成されたマスク部材４１を４枚用意し、回転部材４３の開口部４３ａ〜４３ｄにそれぞれ取り付けるようにする。
【００５９】
また、上記実施形態では、１つのマスク部材４１において１つのパターンＰが分割された単位パターンＰ１〜Ｐ４が形成された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、１つのマスク部材４１において複数のパターンＰが形成された構成であっても構わない。この場合、シート基板ＦＢ上には、同一のパターンＰの像が複数投影されることになる。
【００６０】
また、上記実施形態の構成に加えて、例えばマスク部材４１に位置検出用パターンを形成し、当該位置検出用パターンを検出する検出装置及びマスクホルダ４０の位置調整装置を設けることにより、マスクホルダ４０の位置合わせを行う構成としても構わない。この場合、位置検出用パターンを検出し、検出結果に応じてマスクホルダ４０の位置を調整する。これにより、マスク部材４１に形成されるパターンＰの像の投影位置を調整することができる。
【００６１】
上述の実施形態の露光装置は、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。
【００６２】
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６３】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板（感光剤）を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。なお、ステップ２０４では、感光剤を現像することで、マスクのパターンに対応する露光パターン層（現像された感光剤の層）を形成し、この露光パターン層を介して基板を加工することが含まれる。
【符号の説明】
【００６４】
ＦＰＡ…基板処理装置 ＦＢ…シート基板 ＳＵ…基板供給部 ＰＲ…基板処理部 ＣＬ…基板回収部 ＣＯＮＴ…制御部 ＥＸ…露光装置 Ｍ…マスク ＩＬ…照明光学系 ＨＤ…保持装置 ＰＬ…投影光学系 ＦＳＴ…基板ステージ ＡＣＴ…回転駆動機構 Ｐ…パターン Ｐ１〜Ｐ４…単位パターン ＦＳＴ…ステージ装置 １０…処理装置 １４ａ〜１４ｄ…光射出筒 ４０…マスクホルダ ４１…マスク部材 ４２…固定部材 ４２ａ〜４２ｄ…窓部 ４２ｇ…案内部 ４２ｆ…円筒面 ４３…回転部材 ４３ａ〜４３ｄ…開口部 ４３ｆ…円筒面 ４４…保持部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクホルダ、円筒型マスク、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子、電子ペーパに用いられる電気泳動素子などが知られている。現在、これらの表示素子として、基板表面に薄膜トランジスタと呼ばれるスイッチング素子（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を形成し、その上にそれぞれの表示デバイスを形成する能動的素子（アクティブデバイス）が主流となってきている。
【０００３】
近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた１枚のシート状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。
【０００４】
基板が送り出されてから巻き取られるまでの間、複数の処理装置により、ＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート酸化膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等が形成される。その後、表示素子の他の構成要素が基板上に順次形成される。例えば基板上に有機ＥＬ素子を形成する場合には、発光層や陽極、陰極、電気回路などが基板上に順次形成される。これらの構成要素は、例えばマスクを介した露光光で基板を露光する露光装置などを用いて、例えばフォトリソグラフィ法を用いて形成される場合がある。
【０００５】
露光装置のマスクの一例として、例えば円筒型のマスクが知られている。このような円筒型マスクは、パターンを有する回転体を有している。この回転体は、例えば円筒形状又は円柱形状に形成されており、その円筒面上にパターンが形成されている。円筒型のマスクを用いることにより、ステージを往復運動させたり、マスクを保持する複数のステージを用いたりする必要が無く、コストを低減することができる。また、被露光体を一方向に移動させることで被露光体上の複数箇所にパターンを転写することができるため、ステージの加減速の回数を低減させることができる。その結果として、露光精度を向上させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／１００８６８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の円筒型マスクでは、回転体の円筒面上にパターンが一体的に形成されているため、マスクを交換する際に回転体ごと交換する必要がある。このため、円筒型マスクを用いる場合、メンテナンス動作が煩雑になる虞がある。
【０００８】
上記のような事情に鑑み、本発明は、メンテナンス性に優れたマスクホルダ、円筒型マスク、露光装置、基板処理装置及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の態様に従えば、円筒状に形成された固定部と、円筒状に形成され、固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに固定部に対して回転可能に接続される回転部と、回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部とを備えるマスクホルダが提供される。
【００１０】
本発明の第２の態様に従えば、本発明のマスクホルダと、当該マスクホルダの保持部に取り外し可能に保持され、パターンを有するシート状のマスク部材とを備える円筒型マスクが提供される。
【００１１】
本発明の第３の態様に従えば、マスクに形成されたパターンの像を基板に投影する露光装置であって、本発明のマスクホルダの固定部を保持する保持装置と、マスクホルダの回転部を固定部に対して回転させる駆動装置と、マスクホルダの保持部が保持するマスク部材に形成されたパターンの像を基板に投影する投影光学系とを備える露光装置が提供される。
【００１２】
本発明に第４の態様に従えば、帯状のシート基板を搬送する基板搬送部と、シート基板を処理する基板処理部と、を備え、基板処理部は、本発明の露光装置を有する基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の態様によれば、メンテナンス性に優れたマスクホルダを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板処理装置の構成を示す図。
【図２】本実施形態に係る露光装置の構成を示す図。
【図３】本実施形態に係る円筒型マスクの構成を示す斜視図。
【図４】本実施形態に係る円筒型マスクの一部の構成を示す斜視図。
【図５】本実施形態に係る円筒型マスクの一部の構成を示す斜視図。
【図６】本実施形態に係る照明光学系の構成を示す斜視図。
【図７】本実施形態に係るマスク部材の構成を示す斜視図。
【図８】本実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す斜視図。
【図９】本実施形態に係る露光装置の一部の構成を示す斜視図。
【図１０】本実施形態に係る露光装置のメンテナンスの様子を示す図。
【図１１】本実施形態に係る露光装置の露光動作を示す図。
【図１２】マイクロデバイスの製造工程の一例を説明するためのフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る基板処理装置ＦＰＡの構成を示す図である。
図１に示すように、基板処理装置ＦＰＡは、シート基板（例えば、帯状のフィルム部材）ＦＢを供給する基板供給部ＳＵ、シート基板ＦＢの表面（被処理面）に対して処理を行う基板処理部ＰＲ、シート基板ＦＢを回収する基板回収部ＣＬ、及び、これらの各部を制御する制御部ＣＯＮＴを有している。基板処理装置ＦＰＡは、例えば工場などに設置される。
【００１６】
基板処理装置ＦＰＡは、基板供給部ＳＵからシート基板ＦＢが送り出されてから、基板回収部ＣＬでシート基板ＦＢを回収するまでの間に、シート基板ＦＢの表面に各種処理を実行するロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）の装置である。基板処理装置ＦＰＡは、シート基板ＦＢ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いることができる。勿論、これらの素子以外の素子を形成する場合において基板処理装置ＦＰＡを用いても構わない。
【００１７】
基板処理装置ＦＰＡにおいて処理対象となるシート基板ＦＢとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。
【００１８】
シート基板ＦＢのＹ方向（短尺方向）の寸法は例えば１ｍ〜２ｍ程度に形成されており、Ｘ方向（長尺方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えばシート基板ＦＢのＹ方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。また、シート基板ＦＢのＸ方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。
【００１９】
シート基板ＦＢは、例えば可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、シート基板ＦＢとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。
【００２０】
シート基板ＦＢは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。
【００２１】
基板供給部ＳＵは、例えばロール状に巻かれたシート基板ＦＢを基板処理部ＰＲへ送り出して供給する。基板供給部ＳＵには、例えばシート基板ＦＢを巻きつける軸部や当該軸部を回転させる回転駆動源などが設けられている。この他、例えばロール状に巻かれた状態のシート基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられた構成であっても構わない。
【００２２】
基板回収部ＣＬは、基板処理部ＰＲからのシート基板ＦＢを例えばロール状に巻きとって回収する。基板回収部ＣＬには、基板供給部ＳＵと同様に、シート基板ＦＢを巻きつけるための軸部や当該軸部を回転させる回転駆動源、回収したシート基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられている。なお、基板処理部ＰＲにおいてシート基板ＦＢが例えばパネル状に切断される場合などには例えばシート基板ＦＢを重ねた状態に回収するなど、ロール状に巻いた状態とは異なる状態でシート基板ＦＢを回収する構成であっても構わない。
【００２３】
基板処理部ＰＲは、基板供給部ＳＵから供給されるシート基板ＦＢを基板回収部ＣＬへ搬送すると共に、搬送の過程でシート基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して処理を行う。基板処理部ＰＲは、例えば処理装置１０、搬送装置３０及びアライメント装置５０などを有している。
【００２４】
処理装置１０は、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して例えば有機ＥＬ素子を形成するための各種装置を有している。このような装置としては、例えば被処理面Ｆｐ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、有機ＥＬ素子を駆動するための電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置、スピンコート型塗布装置など）、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。これらの各装置は、例えばシート基板ＦＢの搬送経路上に適宜設けられている。本実施形態では、処理装置１０として、例えば露光装置を用いた場合を例に挙げて説明する。
【００２５】
搬送装置３０は、基板処理部ＰＲ内において例えばシート基板ＦＢを基板回収部ＣＬ側へ搬送するローラー装置Ｒを有している。ローラー装置Ｒは、シート基板ＦＢの搬送経路に沿って例えば複数設けられている。複数のローラー装置Ｒのうち少なくとも一部のローラー装置Ｒには、駆動機構（不図示）が取り付けられている。このようなローラー装置Ｒが回転することにより、シート基板ＦＢがＸ軸方向に搬送されるようになっている。複数のローラー装置Ｒのうち例えば一部のローラー装置Ｒが搬送方向と直交する方向に移動可能に設けられた構成であっても構わない。
【００２６】
アライメント装置５０は、シート基板ＦＢに対してアライメント動作を行う。アライメント装置５０は、シート基板ＦＢの位置状態を検出するアライメントカメラ５１と、当該アライメントカメラ５１の検出結果に基づいてシート基板ＦＢをＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向に微調整する調整装置５２とを有している。
【００２７】
アライメントカメラ５１は、例えばシート基板ＦＢに形成されたアライメントマークなどを検出し、検出結果を制御部ＣＯＮＴに送信する。制御部ＣＯＮＴは、当該検出結果に基づいてシート基板の位置情報を求め、当該位置情報に基づいて調整装置５２による調整量を制御する。
【００２８】
図２は、処理装置１０として用いられる露光装置ＥＸの構成を示す図である。
図２に示すように、露光装置ＥＸは、マスクＭに形成されたパターンの像をシート基板ＦＢに投影する装置である。露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬ、保持装置ＨＤ、回転駆動装置ＡＣＲ、投影光学系ＰＬ及び基板ステージＦＳＴを有している。
【００２９】
本実施形態において、マスクＭは、マスクホルダ４０及びマスク部材４１を有している。図３は、マスクＭの構成を示す斜視図である。図２及び図３に示すように、マスクホルダ４０は、保持装置ＨＤに固定される固定部材４２と、当該固定部材４２の表面に沿って回転する回転部材４３とを有している。
【００３０】
回転部材４３は、例えば回転駆動機構ＡＣＲに接続されている。回転駆動機構ＡＣＲは、回転部材４３を駆動する。当該回転部材４３の駆動量及び駆動のタイミングなどについては、例えば制御部ＣＯＮＴによって制御されるようになっている。マスク部材４１は、例えばシート状に形成されている。マスク部材４１は、回転部材４３の保持部４４上に保持されている。
【００３１】
図４は、固定部材４２の構成を示す斜視図である。図５は、回転部材４３の構成を示す斜視図である。
図４に示すように、固定部材４２は、例えば円筒状に形成されている。固定部材４２には、窓部４２ａ〜４２ｄが形成されている。窓部４２ａ〜４２ｄは、例えば固定部材４２の中心軸方向に一列に形成されており、例えば等間隔で配置されている。ここで、中心軸とは、例えば固定部材４２の断面の円の中心を通り円筒面に沿った軸である。窓部４２ａ〜４２ｄは、固定部材４２の内部と外部とを貫通して形成されている。
【００３２】
固定部材４２には、回転部材４３の回転を案内する案内部４２ｇが設けられている。案内部４２ｇは、例えば固定部材４２の円筒面４２ｆに対して凹状に形成されている。案内部４２ｇは、例えば円筒面４２ｆの一周に亘って形成されている。案内部４２ｇは、例えば固定部材４２の中心軸方向に複数設けられている。
【００３３】
図５に示すように、回転部材４３は、例えば円筒状に形成されている。回転部材４３は、固定部材４２の円筒面４２ｆを囲うように配置される。回転部材４３は、固定部材４２の案内部４２ｇに沿って回転可能に設けられている。案内部４２ｇと回転部材４３との間には、例えば気体の層が形成されるようになっている。当該気体の層を介して回転部材４３が固定部材４２の周りをほぼ摩擦の無い状態で回転することができるようになっている。
【００３４】
回転部材４３には、例えば開口部４３ａ〜４３ｄが設けられている。各開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３の円筒面４３ｆの周方向に沿って形成されている。開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３の中心軸方向に例えば等間隔に配置されている。ここで、中心軸とは、例えば回転部材４３の断面の円の中心を通り円筒面に沿った軸である。より具体的には、開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３が固定部材４２に取り付けられた状態において、それぞれ固定部材４２の窓部４２ａ〜４２ｄに重なる位置に配置されている。
【００３５】
開口部４３ａ〜４３ｄは、回転部材４３の周方向に互いにずれるように配置されている。例えば、開口部４３ａ及び４３ｃは、回転部材４３の回転方向において等しい角度位置に配置されている。また、開口部４３ｂ及び４３ｄは、回転部材４３の回転方向において等しい角度位置に配置されている。そして、開口部４３ｂ及び４３ｄは、開口部４３ａ及び４３ｃに対して、回転部材４３の回転方向にずれて配置されている。
【００３６】
回転部材４３には、マスク部材４１を保持する保持部４４が設けられている。保持部４４は、マスク部材４１を吸着可能な構成になっている。例えば、不図示の吸引口を有しており、当該吸引口にマスク部材４１を吸着させる構成であっても構わない。保持部４４は、例えば開口部４３ａ〜４３ｄの周囲に配置されている。
【００３７】
照明光学系ＩＬは、マスクＭ上の所定の照明領域を均一な照度分布の露光光ＥＬＩで照明する。照明光学系ＩＬから射出される露光光ＥＬＩとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）等が用いられる。照明光学系ＩＬは、例えばマスクＭの内部から露光光ＥＬＩをマスク部材４１に対して照射する。
【００３８】
照明光学系ＩＬは、一対の導光装置１２ａ及び１２ｂを有している。導光装置１２ａ及び１２ｂは、導光部材１３と、当該導光部材１３に接続された光分割器１６及び全反射鏡１５とを有している。導光装置１２ａは、光を射出する光射出筒１４ａ及び１４ｂを有している。導光装置１２ｂは、光を射出する光射出筒１４ｃ及び１４ｄを有している。
【００３９】
図３に示すように、本実施形態に係る露光装置ＥＸにおいて、導光装置１２ａ及び１２ｂは、固定部材４２内に収容されている。導光装置１２ａ及び１２ｂは、導光部材１３がそれぞれ固定部材４２の異なる端部に向けられており、当該固定部材４２の端部側から光分割器１６、全反射鏡１５が配置された構成となっている。したがって、導光装置１２ａ及び１２ｂは、固定部材４２の中心軸方向について線対称な構成となっている。
【００４０】
この照明光学系ＩＬは、導光部材１３によって例えば固定部材４２の両端から光を取り込む構成であり、取り込んだ光を光射出筒１４ａ〜１４ｄから射出する構成である。このため、露光装置ＥＸには例えば不図示の光源と、当該光源から導光部材１３に光を導く光学系とが設けられている。
【００４１】
各光射出筒１４ａ〜１４ｄは、例えば固定部材４２の中心軸方向に等間隔で配置されている。具体的には、光射出筒１４ａ〜１４ｄは、窓部４２ａ〜４２ｄに挿入されるように配置されている。このため、光射出筒１４ａから１４ｄは、窓部４２ａ〜４２ｄに挿入された状態で固定部材４２の径方向の外側に向けられている。ここでは、回転部材４３の開口部４３ａ〜４３ｄが窓部４２ａ〜４２ｄに重なるように配置されている。このため、光射出筒１４ａ〜１４ｄは、窓部４２ａ〜４２ｄ及び開口部４３ａ〜４３ｄを介して、マスク部材４１に向けられている。光射出筒１４ａ〜１４ｄ内には例えばブラインド結像系やコンデンサーなどが配置されており、例えば図６に示すように、光射出筒１４ａ〜１４ｄが台形状の露光光ＥＬＩを射出するようになっている。このように、照明光学系ＩＬは、マスクホルダ４０の内部からマスク部材４１に対して露光光を照射するようになっている。
【００４２】
図７は、マスク部材４１の構成を示す図である。
図７に示すように、マスク部材４１は、例えば可撓性を有する材料を用いて帯状に形成されている。マスク部材４１は、マスクホルダ４０の回転部材４３に取り付けられて用いられる（図３参照）。このようにマスク部材４１は、回転部材４３の円筒面に沿って湾曲した状態で保持される。マスク部材４１は、回転部材４３に取り付けられた状態において、例えば保持部４４によって吸着されて保持されるようになっている。保持部４４の保持状態を解除することにより、マスク部材４１を取り外すことができるようになっている。このように、マスク部材４１は、着脱可能に回転部材４３に取り付けられることとなる。
【００４３】
マスク部材４１には、所定のパターンＰが形成されている。パターンＰは、例えばマスク部材４１の長手方向に２箇所に形成されている。パターンＰは、例えば複数の単位パターンＰ１〜Ｐ４を有している。
【００４４】
単位パターンＰ１〜Ｐ４は、１つのパターンが分割されたパターンである。単位パターンＰ１〜Ｐ４は、互いに離間する複数の領域に分割されて形成されている。本実施形態では、単位パターンＰ１〜Ｐ４は、例えばマスク部材４１の短手方向に配列されている。単位パターンＰ１〜Ｐ４は、例えば開口部４３ａ〜４３ｄのピッチとほぼ等しいピッチで配置されており、例えば上記の開口部４３ａ〜４３ｄに対応する箇所に配置されている。すなわち、単位パターンＰ１及びＰ３と、単位パターンＰ２及びＰ４とがマスク部材４１の長手方向にずれた位置に配置されている。また、単位パターンＰ１及びＰ３と、単位パターンＰ２及びＰ４とは、それぞれマスク部材４１の長手方向に揃った位置に設けられている。このため、開口部４３ａ〜４３ｄと単位パターンＰ１〜Ｐ４とが重なるようにマスク部材４１を回転部材４３に取り付けることができるようになっている。
【００４５】
図８は、投影光学系ＰＬ及び基板ステージＦＳＴの構成を示す平面図である。
図８に示すように、投影光学系ＰＬは、４つの投影部ＰＬ１〜ＰＬ４を有している。当該投影部ＰＬ１〜ＰＬ４のうち例えば投影部ＰＬ１及びＰＬ３は、Ｘ方向の位置が揃っており、Ｙ方向に間隔をあけて配置されている。投影部ＰＬ１及びＰＬ３は、基板ステージＦＳＴ上のうち離れた２つの投影領域ＥＡ１及びＥＡ３にそれぞれパターンＰの像を投影する。投影領域ＥＡ１及び投影領域ＥＡ３は、例えば台形状に形成される。
【００４６】
投影部ＰＬ２は、投影部ＰＬ１及び投影部ＰＬ３に対してＸ方向にずれた位置に配置されている。また、投影部ＰＬ２は、Ｙ方向において投影部ＰＬ１と投影部ＰＬ３との間に配置されている。投影部ＰＬ４は、投影部ＰＬ２に対してＹ方向に間隔をあけて配置されている。投影部ＰＬ４は、投影部ＰＬ２との間で投影部ＰＬ３を挟む位置に設けられている。投影部ＰＬ４は、投影部ＰＬ２とＸ方向の位置が揃っている。投影部ＰＬ２及びＰＬ４は、基板ステージＦＳＴ上のうち離れた２つの投影領域ＥＡ２及びＥＡ４にそれぞれパターンＰの像を投影する。投影領域ＥＡ２及び投影領域ＥＡ４は、例えば台形状に形成される。
【００４７】
また、投影部ＰＬ１〜ＰＬ４が上記のように配置されているため、当該投影部ＰＬ１及びＰＬ３と、投影部ＰＬ２及びＰＬ４との間では、それぞれマスクＭ側の視野がずれた状態になっている。このため、上記マスクＭにおいては、回転部材４３の開口部４３ａ〜４３ｄが、当該回転部材４３の周方向（回転方向）にずれた位置に配置されることになる。そのズレ量は、投影部ＰＬ１〜ＰＬ４のマスク側の視野のズレに対応している。
【００４８】
本実施形態では、投影部ＰＬ１及び投影部ＰＬ２は、投影領域ＥＡ１の＋Ｙ側に形成されるテーパー部分と投影領域ＥＡ２の−Ｙ側に形成されるテーパー部分とが例えばＹ方向において重なるように配置されている。また、投影部ＰＬ２及び投影部ＰＬ３は、投影領域ＥＡ２の＋Ｙ側に形成されるテーパー部分と投影領域ＥＡ３の−Ｙ側に形成されるテーパー部分とが例えばＹ方向において重なるように配置されている。更に、投影部ＰＬ３及び投影部ＰＬ４は、投影領域ＥＡ３の＋Ｙ側に形成されるテーパー部分と投影領域ＥＡ４の−Ｙ側に形成されるテーパー部分とが例えばＹ方向において重なるように配置されている。
【００４９】
図９は、基板ステージＦＳＴの構成を示す断面図である。
図８及び図９に示すように、基板ステージＦＳＴは、投影領域ＥＡ１〜ＥＡ４を含む領域に凹部２１を有している。凹部２１は、例えばステージ本体２０の＋Ｚ側の面に対して−Ｚ側に湾曲して形成されている。当該凹部２１の曲率は、例えば回転部材４３に取り付けられたマスク部材４１の曲率に合わせて設定されている。具体的には、マスク部材４１が取り付けられた状態における半径をＲ、マスク部材４１に照射される露光光のＸ方向の幅をｘ、露光光が照射されるマスク部材４１の湾曲部分の深さｈとすると、
Ｒ´＝ｘ２／２ｈ
となる。
【００５０】
また、ステージ本体２０には、当該凹部２１の内部及びその周囲に噴出口２２及び吸引口２３が設けられている。噴出口２２から例えば気体を噴出し、吸引口２３から例えば当該気体を吸引することにより、ステージ本体２０の＋Ｚ側の面（凹部２１を含む）に気体の層を形成することができるようになっている。また、吸引口２３の吸引量を噴出口２２の噴出量よりも大きくすることにより、例えばシート基板ＦＢを吸着できるようになっている。なお、投影領域ＥＡ１に対応する凹部２１と投影領域ＥＡ３に対応する凹部２１とが接続されて１つの凹部を形成する構成であっても構わない。投影領域ＥＡ２に対応する凹部２１と投影領域ＥＡ４に対応する凹部２１とについても同様である。
【００５１】
上記のように構成された基板処理装置ＦＰＡは、制御部ＣＯＮＴの制御により、ロール方式によって有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する。以下、上記構成の基板処理装置ＦＰＡを用いて表示素子を製造する工程を説明する。
【００５２】
まず、ローラーに巻き付けられた帯状のシート基板ＦＢを基板供給部ＳＵに取り付ける。制御部ＣＯＮＴは、この状態から基板供給部ＳＵから当該シート基板ＦＢが送り出されるように、ローラーを回転させる。そして、基板処理部ＰＲを通過した当該シート基板ＦＢを基板回収部ＣＬのローラーで巻き取らせる。この基板供給部ＳＵ及び基板回収部ＣＬを制御することによって、シート基板ＦＢの被処理面Ｆｐを基板処理部ＰＲに対して連続的に搬送することができる。
【００５３】
制御部ＣＯＮＴは、シート基板ＦＢが基板供給部ＳＵから送り出されてから基板回収部ＣＬで巻き取られるまでの間に、基板処理部ＰＲの搬送装置３０によってシート基板ＦＢを当該基板処理部ＰＲ内で適宜搬送させつつ、処理装置１０によって表示素子の構成要素をシート基板ＦＢ上に順次形成させる。
【００５４】
この工程の中で、露光装置ＥＸによって処理を行う場合、例えば図１０に示すように、当該マスクホルダ４０にマスク部材４１を巻き付けてマスクＭを形成する。当該マスクＭは、露光装置ＥＸの保持装置ＨＤに保持させる。また、マスクホルダ４０内に照明光学系ＩＬを配置させる。
【００５５】
次に、不図示の光源から照明光学系ＩＬに露光光ＥＬＩを供給し、照明光学系ＩＬからマスクＭに対して台形状の露光光ＥＬＩを照射させる。マスクＭに照射された露光光ＥＬＩは、マスク部材４１のパターンＰに照射される。投影光学系ＰＬは、当該パターンＰの像を投影領域ＥＡ１〜ＥＡ４に対して投影する。
【００５６】
図１１に示すように、例えばシート基板ＦＢの被処理面は、複数の被処理領域（露光領域）Ｆ１〜Ｆ７に分割して処理が行われることとなる。ここでは、露光領域Ｆ１、Ｆ３、Ｆ５、Ｆ７は、投影領域ＥＡ１〜ＥＡ４に投影される像のみによって露光される部分である。露光領域Ｆ２は、投影領域ＥＡ１に投影される像の一部と投影領域ＥＡ２に投影される像の一部とによって露光される部分である。露光領域Ｆ４は、投影領域ＥＡ２に投影される像の一部と投影領域ＥＡ３に投影される像の一部とによって露光される部分である。露光領域Ｆ６は、投影領域ＥＡ３に投影される像の一部と投影領域ＥＡ４に投影される像の一部とによって露光される部分である。
【００５７】
以上のように、本実施形態によれば、円筒状に形成された固定部材４２と、円筒状に形成され、固定部材４２と同軸に該固定部材４２の周囲に設けられるとともに固定部材４２に対して回転可能に接続される回転部材４３と、回転部材４３に設けられ、シート状のマスク部材４１を取り外し可能に保持する保持部４４とを備えるマスクホルダ４０を用いるため、マスク部材４１の交換、取り付け及び取り外しを容易に行うことができる。これにより、メンテナンス性に優れたマスクホルダ４０を提供することができる。
【００５８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態では、１つのマスクホルダ４０に対して１枚のマスク部材４１を取り付ける構成としたが、これに限られることは無く、例えば１つのマスクホルダ４０に対して複数のマスク部材４１を取り付ける構成としても構わない。この場合、例えば１つのパターンが分割された単位パターンの１つ１つがそれぞれ形成されたマスク部材４１を４枚用意し、回転部材４３の開口部４３ａ〜４３ｄにそれぞれ取り付けるようにする。
【００５９】
また、上記実施形態では、１つのマスク部材４１において１つのパターンＰが分割された単位パターンＰ１〜Ｐ４が形成された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、１つのマスク部材４１において複数のパターンＰが形成された構成であっても構わない。この場合、シート基板ＦＢ上には、同一のパターンＰの像が複数投影されることになる。
【００６０】
また、上記実施形態の構成に加えて、例えばマスク部材４１に位置検出用パターンを形成し、当該位置検出用パターンを検出する検出装置及びマスクホルダ４０の位置調整装置を設けることにより、マスクホルダ４０の位置合わせを行う構成としても構わない。この場合、位置検出用パターンを検出し、検出結果に応じてマスクホルダ４０の位置を調整する。これにより、マスク部材４１に形成されるパターンＰの像の投影位置を調整することができる。
【００６１】
上述の実施形態の露光装置は、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。
【００６２】
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６３】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板（感光剤）を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。なお、ステップ２０４では、感光剤を現像することで、マスクのパターンに対応する露光パターン層（現像された感光剤の層）を形成し、この露光パターン層を介して基板を加工することが含まれる。
【符号の説明】
【００６４】
ＦＰＡ…基板処理装置 ＦＢ…シート基板 ＳＵ…基板供給部 ＰＲ…基板処理部 ＣＬ…基板回収部 ＣＯＮＴ…制御部 ＥＸ…露光装置 Ｍ…マスク ＩＬ…照明光学系 ＨＤ…保持装置 ＰＬ…投影光学系 ＦＳＴ…基板ステージ ＡＣＴ…回転駆動機構 Ｐ…パターン Ｐ１〜Ｐ４…単位パターン ＦＳＴ…ステージ装置 １０…処理装置 １４ａ〜１４ｄ…光射出筒 ４０…マスクホルダ ４１…マスク部材 ４２…固定部材 ４２ａ〜４２ｄ…窓部 ４２ｇ…案内部 ４２ｆ…円筒面 ４３…回転部材 ４３ａ〜４３ｄ…開口部 ４３ｆ…円筒面 ４４…保持部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状に形成された固定部と、
円筒状に形成され、前記固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに前記固定部に対して回転可能に接続される回転部と、
前記回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部と
を備えるマスクホルダ。
【請求項２】
前記回転部は、円筒面の周方向に沿って形成された開口部を有する
請求項１に記載のマスクホルダ。
【請求項３】
前記開口部は、前記回転部の中心軸方向に複数設けられ、
複数の前記開口部は、前記回転部の周方向に互いにずれるように配置されている
請求項２に記載のマスクホルダ。
【請求項４】
前記保持部は、前記マスク部材を吸着する吸着部を有する
請求項２又は請求項３に記載のマスクホルダ。
【請求項５】
前記吸着部は、前記開口部の周囲に配置されている
請求項４に記載のマスクホルダ。
【請求項６】
前記固定部は、該固定部の円筒面に沿って、前記回転部材の回転を案内する案内部を有する
請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載のマスクホルダ。
【請求項７】
前記案内部は、前記固定部の円筒面に一周に亘って形成されている
請求項６に記載のマスクホルダ。
【請求項８】
前記案内部は、前記固定部の中心軸方向に複数設けられている
請求項６又は請求項７に記載のマスクホルダ。
【請求項９】
前記固定部は、前記固定部の中心軸方向に一列に形成された複数の窓部を有する
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載のマスクホルダ。
【請求項１０】
前記回転部は、円筒面の周方向に沿って形成された開口部を有し、
前記窓部は、前記開口部に対応する位置に設けられている
請求項９に記載のマスクホルダ。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載のマスクホルダと、
前記マスクホルダの前記保持部に取り外し可能に保持され、パターンを有するシート状のマスク部材と
を備える円筒型マスク。
【請求項１２】
前記マスク部材は、前記回転部の円筒面に沿って湾曲した状態で保持される
請求項１１に記載の円筒型マスク。
【請求項１３】
前記回転部は、円筒面の周方向に沿って形成された開口部を有し、
前記保持部は、前記マスク部材の前記パターンが前記開口部に対応するように前記マスク部材を保持する
請求項１１又は請求項１２に記載の円筒型マスク。
【請求項１４】
前記開口部は、複数設けられ、
前記パターンは、分割された複数の単位パターンを有し、
各々の前記単位パターンは、複数の前記開口部に対応する領域に形成されている
請求項１３に記載の円筒型マスク。
【請求項１５】
前記開口部は、複数設けられ、
前記マスク部材は、複数の前記パターンを有し、
各々の前記パターンは、複数の前記開口部に対応する領域に形成されている
請求項１３に記載の円筒型マスク。
【請求項１６】
前記開口部は、複数設けられ、
前記マスク部材は、複数の前記開口部に対応する位置にそれぞれ設けられている
請求項１３から請求項１５のうちいずれか一項に記載の円筒型マスク。
【請求項１７】
前記マスク部材は、位置検出用パターンを有する
請求項１１から請求項１６のうちいずれか一項に記載の円筒型マスク。
【請求項１８】
マスクに形成されたパターンの像を基板に投影する露光装置であって、
請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載のマスクホルダの前記固定部を保持する保持装置と、
前記マスクホルダの前記回転部を前記固定部に対して回転させる駆動装置と、
前記マスクホルダの前記保持部が保持するマスク部材に形成されたパターンの像を前記基板に投影する投影光学系と
を備える露光装置。
【請求項１９】
前記基板として、帯状のシート基板が用いられる
請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記保持装置によって保持される前記円筒状マスクに対して内部から光を照射する光照射系を更に備える
請求項１８又は請求項１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記光照射系は、前記円筒状マスクの外部で射出された前記光を当該円筒状マスクの中心軸方向の端部から前記円筒状マスクの前記内部へ引き回して前記円筒状マスクに照射する光学系を有する
請求項２０に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記パターンは、互いに離間する複数の領域に分割されて形成されており、
前記投影光学系は、分割された前記パターンの像の一部同士が互いに接続されるように前記基板上に投影するように配置されている
請求項１８から請求項２１のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記基板を支持するステージを更に備え、
前記円筒状マスクの前記マスクホルダは、前記マスク部材を湾曲した状態で保持し、
前記ステージは、前記基板を湾曲させて支持する凹部を有し、
前記投影光学系は、前記基板のうち前記凹部に支持される部分に前記像を投影するように配置されている
請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記凹部は、投影される前記像の位置に応じた位置に形成されている
請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記ステージは、前記基板を前記凹部に吸着させる吸着部を有する
請求項２３又は請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
帯状のシート基板を搬送する基板搬送部と、
前記シート基板を処理する基板処理部と、を備え、
前記基板処理部は、請求項１８から請求項２５のうちいずれか一項に記載の露光装置を有する
基板処理装置。
【請求項２７】
請求項１８から請求項２５のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いて、感光剤が塗布された前記基板の露光を行い、該基板にパターンを転写することと、
前記露光によって露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成することと、
前記露光パターン層を介して前記基板を加工することと、
を含むデバイス製造方法。
【請求項１】
円筒状に形成された固定部と、
円筒状に形成され、前記固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに前記固定部に対して回転可能に接続される回転部と、
前記回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部と
を備えるマスクホルダ。
【請求項２】
前記回転部は、円筒面の周方向に沿って形成された開口部を有する
請求項１に記載のマスクホルダ。
【請求項３】
前記開口部は、前記回転部の中心軸方向に複数設けられ、
複数の前記開口部は、前記回転部の周方向に互いにずれるように配置されている
請求項２に記載のマスクホルダ。
【請求項４】
前記保持部は、前記マスク部材を吸着する吸着部を有する
請求項２又は請求項３に記載のマスクホルダ。
【請求項５】
前記吸着部は、前記開口部の周囲に配置されている
請求項４に記載のマスクホルダ。
【請求項６】
前記固定部は、該固定部の円筒面に沿って、前記回転部材の回転を案内する案内部を有する
請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載のマスクホルダ。
【請求項７】
前記案内部は、前記固定部の円筒面に一周に亘って形成されている
請求項６に記載のマスクホルダ。
【請求項８】
前記案内部は、前記固定部の中心軸方向に複数設けられている
請求項６又は請求項７に記載のマスクホルダ。
【請求項９】
前記固定部は、前記固定部の中心軸方向に一列に形成された複数の窓部を有する
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載のマスクホルダ。
【請求項１０】
前記回転部は、円筒面の周方向に沿って形成された開口部を有し、
前記窓部は、前記開口部に対応する位置に設けられている
請求項９に記載のマスクホルダ。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載のマスクホルダと、
前記マスクホルダの前記保持部に取り外し可能に保持され、パターンを有するシート状のマスク部材と
を備える円筒型マスク。
【請求項１２】
前記マスク部材は、前記回転部の円筒面に沿って湾曲した状態で保持される
請求項１１に記載の円筒型マスク。
【請求項１３】
前記回転部は、円筒面の周方向に沿って形成された開口部を有し、
前記保持部は、前記マスク部材の前記パターンが前記開口部に対応するように前記マスク部材を保持する
請求項１１又は請求項１２に記載の円筒型マスク。
【請求項１４】
前記開口部は、複数設けられ、
前記パターンは、分割された複数の単位パターンを有し、
各々の前記単位パターンは、複数の前記開口部に対応する領域に形成されている
請求項１３に記載の円筒型マスク。
【請求項１５】
前記開口部は、複数設けられ、
前記マスク部材は、複数の前記パターンを有し、
各々の前記パターンは、複数の前記開口部に対応する領域に形成されている
請求項１３に記載の円筒型マスク。
【請求項１６】
前記開口部は、複数設けられ、
前記マスク部材は、複数の前記開口部に対応する位置にそれぞれ設けられている
請求項１３から請求項１５のうちいずれか一項に記載の円筒型マスク。
【請求項１７】
前記マスク部材は、位置検出用パターンを有する
請求項１１から請求項１６のうちいずれか一項に記載の円筒型マスク。
【請求項１８】
マスクに形成されたパターンの像を基板に投影する露光装置であって、
請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載のマスクホルダの前記固定部を保持する保持装置と、
前記マスクホルダの前記回転部を前記固定部に対して回転させる駆動装置と、
前記マスクホルダの前記保持部が保持するマスク部材に形成されたパターンの像を前記基板に投影する投影光学系と
を備える露光装置。
【請求項１９】
前記基板として、帯状のシート基板が用いられる
請求項１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記保持装置によって保持される前記円筒状マスクに対して内部から光を照射する光照射系を更に備える
請求項１８又は請求項１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記光照射系は、前記円筒状マスクの外部で射出された前記光を当該円筒状マスクの中心軸方向の端部から前記円筒状マスクの前記内部へ引き回して前記円筒状マスクに照射する光学系を有する
請求項２０に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記パターンは、互いに離間する複数の領域に分割されて形成されており、
前記投影光学系は、分割された前記パターンの像の一部同士が互いに接続されるように前記基板上に投影するように配置されている
請求項１８から請求項２１のうちいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記基板を支持するステージを更に備え、
前記円筒状マスクの前記マスクホルダは、前記マスク部材を湾曲した状態で保持し、
前記ステージは、前記基板を湾曲させて支持する凹部を有し、
前記投影光学系は、前記基板のうち前記凹部に支持される部分に前記像を投影するように配置されている
請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記凹部は、投影される前記像の位置に応じた位置に形成されている
請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記ステージは、前記基板を前記凹部に吸着させる吸着部を有する
請求項２３又は請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
帯状のシート基板を搬送する基板搬送部と、
前記シート基板を処理する基板処理部と、を備え、
前記基板処理部は、請求項１８から請求項２５のうちいずれか一項に記載の露光装置を有する
基板処理装置。
【請求項２７】
請求項１８から請求項２５のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いて、感光剤が塗布された前記基板の露光を行い、該基板にパターンを転写することと、
前記露光によって露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成することと、
前記露光パターン層を介して前記基板を加工することと、
を含むデバイス製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１１−２０３３１１（Ｐ２０１１−２０３３１１Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−６７９６４（Ｐ２０１０−６７９６４）
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２４日（２０１０．３．２４）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
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