【課題】グレートーンマスクを使用するプロセスに有利な技術を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、第１方向に沿った第１グレートーンパターンおよびそれと直交する第２方向に沿った第２グレートーンパターンを含むマスクＭを位置決めするマスク位置決め機構２と、基板Ｓを位置決めする基板位置決め機構４と、前記パターンの像を前記基板に形成する投影光学系３と、前記第１及び第２グレートーンパターンによって露光および現像を通して形成される第１及びだ２レジストパターンの厚さと当該露光におけるデフォーカス量との関係である第１及び第２デフォーカス特性とに基づいて、前記第１及び第２レジストパターンの厚さの差が許容範囲に収まるデフォーカス量を決定し、該デフォーカス量で前記基板に前記パターンの像が形成されるように前記基板の露光処理を制御する制御部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と基板との衝突の低減に有利なリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】ステージに保持された基板の上の複数の計測点の高さを計測する計測部と、基板を保持して前記光学系の光軸に平行な方向に第１ストロークで移動する微動ステージと、微動ステージを保持して光学系の光軸に平行な方向に第１ストロークより大きい第２ストロークで移動する調整ステージと、調整ステージが移動しないように機械的に調整ステージを固定する固定機構と、を含み、制御部は、基板に前記パターンを転写する前に、計測部で計測された複数の計測点の高さで代表される基板の仮想平面が水平になるように、且つ、仮想平面が光学系の最も基板側の面と基板との間であって第１ストロークから決まる初期位置に位置するように調整ステージを移動させ、仮想平面を初期位置に位置させた後に固定機構によって調整ステージを固定するリソグラフィ装置。 （もっと読む）

【課題】 感光性材料を高い精度で３次元形状の構造体に形成する。
【解決手段】 基材に塗布された感光性材料に光を照射する光源を有する露光ユニットと、基材が配置されるテーブルとを備え、光源から感光性材料に光が照射されるときに光源または感光性材料が塗布された基材の少なくとも一方が移動されて光源の感光性材料に対する照射位置が変化し、感光性材料の有する最大吸収感度を与える波長から所定の長さずれた波長の光を光源から感光性材料に照射して感光性材料の所望の部分を選択的に露光することで３次元形状の構造体を形成する。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】版厚を確実に制御しながら感光性樹脂凸版の連続製版を行う。
【解決手段】第１のフィルム層（カバーフィルム）２４、感光性樹脂層２５、及び第２のフィルム層（ベースフィルム）２６を含む積層体を、下部硬質板１４と上部硬質板１５とにより挟んだ状態で、感光性樹脂層の露光を行うものであり、下記（ａ）工程〜（ｄ）工程を有している感光性樹脂凸版の製造方法を提供する。
（ａ）上部硬質板及び／又は下部硬質板の温度、又は下部硬質板に積層される第１のフィルム層を介した下部硬質板の温度を、直接又は間接に計測する工程。
（ｂ）前記下部硬質板に積層した前記第１のフィルム層の上に、液状感光性樹脂を塗布する工程。
（ｃ）前記液状感光性樹脂の塗布厚みを調節する工程。
（ｄ）下部硬質板と上部硬質板との間隔を調節する工程。 （もっと読む）

【課題】コストを抑えつつ、記録媒体への彫刻を高解像度化すると共に高速化する。
【解決手段】浅彫りの場合は、レーザビームＬＡの走査線間を、レーザビームＬＢで走査して彫刻することで、滑らかな線を描くことができる。深彫り時には、レーザの出力（パワー）を上げ、レーザビームＬＡで第一深度Ｙ２まで彫刻したのち、レーザビームＬＢで第二深度Ｙ３（深彫り時における所望する深度Ｙ３）まで彫刻する。つまり、一つの露光ヘッド３０で、高解像度での浅彫り（精密彫り）と高速での深彫りとの両立が可能とされる。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム描画装置において試料表面の高さを正確に測定する。
【解決手段】電子ビームを偏向器で偏向して試料面上にパターンを描画する電子ビーム描画装置であって、試料２の高さ位置を測定するための光源６１と、試料の表面に光源より発せられた光を照射するための光学系と、受光素子からなる試料の表面より反射した光の受光位置により試料の高さ位置を検出する検出器７５と、を備え、試料に照射される光が、Ｐ波とＳ波の混合比率を制御した光で反射率を高めたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画方法において、コストアップを招くことなく解像度を向上させる。
【解決手段】画像を表す原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して描画用画像データを作成し、その作成した描画用画像データから得られた描画点データに基づいて描画点を基板上に形成して画像を描画する。 （もっと読む）

【課題】安定したプリント品質を得ることができる露光装置を提供する。
【解決手段】画像データに基づいて定電流駆動されることにより複数の有機ＥＬ発光素子を発光させ、出射される光ビームの光軸上に配置されたレンズアレイ７により、光ビームをカラー感光材料に結像させており、電圧測定部により、有機ＥＬ発光素子を定電流駆動させるために印加される駆動電圧を測定し、ＲＯＭ４５Ｂに記憶されている発光面積情報に基づき、測定した駆動電圧から発光領域の面積を導出し、光学位置調整部６６により、導出した発光領域の面積に基づいて経時的な当該面積の減少によるカラー感光材料上における光ビームのスポット径の縮小を補正するように光ビームの光軸方向に対する有機ＥＬ発光素子とレンズアレイの間の距離及びレンズアレイとカラー感光材料の間の距離の少なくとも一方を調整する。 （もっと読む）

基板上にパターンを書き込むシステムおよび方法が提供される。第１および第２のビームを誘導して基板上の共通領域に収束させ実質的に重ね合わせる。これは、干渉縞を形成して書込み画像を画定するために第１および第２のビームが重なり領域で互いに時間的コヒーレントおよび空間的コヒーレントであるように行うことができる。第１および第２のビームのビーム幅が調整される。これは、第１および第２のビームが共通領域に達するときに第１および第２のビームが共通領域の幅全体にわたって互いに確実に空間的コヒーレントおよび時間的コヒーレントであるためにビームのそれぞれの経路長が一致するように行うことができる。一例では、基板上にパターンを書き込む間、基板は書込み画像に対して移動される。別の例では、基板は静止のままである。
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【課題】光装置を小型化すると共に、被露光体の周りに配置される他の装置の配置の自由度を向上させる。
【解決手段】ＬＥＤヘッド１００の幅方向の両側端部と、感光体ドラム１２の軸心Ｇとを結んだ直線の角度（扇形の角度）は角度α１である。そして、この角度α１が小さいほど、感光体ドラム１２の周囲への各種装置（本実施形態では、帯電装置１４、現像装置１６、転写装置１８、クリーニング装置２０、除電装置２２）の配置が容易となる。つまり、設計の自由度が増える。第二基板１７０は、第一基板１５０と略平行に間隔を持って配置されている。よって、角度α１が小さくても、第二基板１７０を第一基板１５０より幅広にすることできる。また、コネクタ１７４等の厚みのある部品を第二基板１７０に実装しても、角度α１に影響を与えない。 （もっと読む）

【課題】ポリゴンミラーによって光源からの光ビームを主走査方向に偏向し、副走査方向に搬送されるカラー記録材料を２次元的に走査露光してカラー画像を描画してゆく露光装置において、前記ポリゴンミラーの面倒れ、該ポリゴンミラーの回転軸からの傾き、前記回転軸の歪み、或いは重心のずれなどによって周期的に発生する色ムラを無くす。
【解決手段】ポリゴンミラーを８面とし、図３（ｂ）で示すように、第３面に面倒れが生じ、主走査位置が搬送方向Ｆの下流側にずれると、面で露光されるラインＬ３，Ｌ１１，・・・と、下流側の第１面で露光されるラインＬ１，Ｌ９，・・・との間の濃度が濃くなり、上流側の第５面で露光されるラインＬ５，Ｌ１３，・・・との間の濃度が薄くなる。これに対応して、基準ピッチＷ１に対して、ずれ量Ｗ２に対応した割合だけ、搬送速度を遅くして、図３（ａ）で示すように、その第３面のラインを正規の主走査位置に戻す。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、複数のパターン形成体を製造した場合であっても、目的とする一定の線幅に特性変化パターンを形成可能なパターン形成体の製造方法の提供することを主目的としている。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、真空紫外光により表面の特性が変化するパターニング用基板に、少なくとも透明基材と遮光部とを有するフォトマスクを介して前記真空紫外光を照射することにより、前記パターニング用基板表面の特性が変化した特性変化パターンを有するパターン形成体を形成するパターン形成工程を有し、前記パターン形成工程を複数回行って複数の前記パターン形成体を製造するパターン形成体の製造方法であって、
前記パターン形成工程を行う際、前記透明基材と前記パターニング用基板との間隙を０．１μｍ〜２００μｍの範囲内とすることを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ光の焦点位置の誤差を小さくした露光装置の焦点位置制御方法及び露光装置を得る。
【解決手段】 感光材料の感光部の光の透過率の違いに基づいて予めピント補正値を設定し、該ピント補正値に基づいて、Ｚステージをピント補正値分、移動させることで、感光部の光の透過率の違いによるレーザ光の焦点位置の誤差を小さくし、各露光ヘッドの光ビームの焦点位置の精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 曲面上にサブミクロンの周期的な微細構造を容易に形成する製造方法を提供する。また、その製造方法に用いられる露光方法を提供する。
【解決手段】 周期Ｐの格子パターンを有するマスクを準備する準備工程と、マスクを介して、スペクトル幅がΔλである光を部材に照射する照射工程とを備え、照射工程において、マスクと部材との距離ｄをｄ≧２Ｐ²／Δλとすることにより、部材表面上に周期がＰ／２となる強度分布を形成する。これにより、曲面上にサブミクロンの周期的な微細構造を容易に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂材料からなる、微細溝パターンの断面形状を、希望とする断面形状に得るための方法を提供する。
【解決手段】光照射によって分解または硬化する、ポジ型、ネガ型の感光性樹脂を用い、基板上にこれら感光性樹脂からなる溝パターンを露光、現像によって形成し、そのパターンをマイクロ化学チップの流路やＤＮＡ解析用チップ、ケミカルエッチング用レジスト、ドライエッチング用レジストなどに用いる、感光性樹脂パターンの形成法において、露光方式にプロキシミティ露光を用い、フォトマスク３と感光性樹脂８を塗布した基板９との間の距離７の選択、または基板とフォトマスクの距離を時間的に変えることによって露光現像し、感光性樹脂溝パターンの断面の形状を希望する値に制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 表面の凹凸が比較的大きい基板に対して、焦点ずれが小さく、高精度なパターン形成を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。
【解決手段】 本発明のパターン転写方法は、露光装置ＥＸＰを用いた光照射によってマスクＭ１に形成されたパターンを基板Ｐに転写する方法であって、露光装置ＥＸＰの焦点深度と基板Ｐの表面高さ形状とに基づいて、パターンに対して複数のブロック領域（Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４，…）を設定する工程と、パターンにおける複数のブロック領域（Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４，…）の各々ごとに、焦点位置を変化させながら光照射を行う工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】うねりや厚みの変動が大きい感光材料を用いた場合でもフォーカスレンジオーバーによるエラー発生を防止し、生産性を確保することができる露光方法および露光装置を提供する。
【解決手段】各露光ヘッド１６６の焦点調節範囲の中心位置をそれぞれＰ1〜Ｐ4としたとき、Ｐ1〜Ｐ4の平均となる焦点位置をＤ0とする。ステージ１５２上の感光材料１５０表面、すなわち被露光面５６の変動範囲Ｄ５６の中心位置、すなわち被露光面５６の基準面である図中Ｄ５６０を前記Ｄ0に一致させるようにステージ１５２をＺ方向すなわち光軸方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】 画像露光において高精細スクリーンを用いる光重合性感光層を有する平版印刷版を長期間にわたって処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理できる、平版印刷版の処理方法及び自動現像装置を提供する。
【解決手段】 支持体上に光重合性感光層を有する感光性平版印刷版をレーザー露光した後、現像処理する平版印刷版の処理方法であって、ＡＭスクリーンとしては２５０線以上であり、ＦＭスクリーンとしては網点を構成する最小画素のサイズが５０μｍ以下である高精細スクリーンを画像露光に用い、露光後の平版印刷版の露光面を回転部材のうち少なくとも１つが他の回転部材に対して反対方向に回転し、揺動手段を設けることで、未露光部の光重合性感光層を除去する。 （もっと読む）

【課題】安定した中間調を記録可能とするインナードラム露光装置を提供する。
【解決手段】記録材料を円弧状に保持する支持体と、円偏光した光ビームを出射する光源と、光ビームを画像情報に応じて変調する変調手段と、回転駆動され、かつ全反射鏡面を備え、記録材料に対し、変調光ビームを全反射鏡面で偏向走査する走査手段とを有し、走査手段が、さらに、全反射鏡面に対して所定の距離を隔てて設けられる偏光ビームスプリッター面をその表面に備える光学部材を有し、この偏光ビームスプリッター面と全反射鏡面とにより形成される平行な２つのビームによってそれぞれ記録材料上に形成される２つのビームスポットを、これらの一部どうしが互いに重なるように副走査方向に並列配置されたビームスポットにすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）