【課題】ランプを簡単に取り外して、ランプの部品をリサイクルすることができ、生産コストを低減することができる露光装置用ランプを提供する。
【解決手段】小型水銀ランプ１０は、バルブ２０と、該バルブ２０から発生した光を前方へ反射させる集光鏡２１と、バルブ２０の端部を保持するホルダー２２と、を備える。バルブ２０と集光鏡２１のランプ取付孔４８との間には、断熱材５０が配置される。 （もっと読む）

【課題】露光装置及び露光方法において、露光直前の光源を安定させることにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接露光装置及びその近接露光方法を提供することにある。
【解決手段】光源制御部１５ａは、遮光板８を閉じた状態で照射部１４の光源６に所定の電圧を印加した際に照度計５０によって検出される照度が目標照度になるように補正する補正機能１５ｂを有することで露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の形状やサイズにかかわらず、光源から基板に至る照射光路に設けられた光学部品及び空間光変調器の交換作業の作業性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】露光装置１００は光学ユニット４０ａ，４０ｂを備えている。光学ユニット４０ａ，４０ｂが備えるレーザ発振器４１ａ，４１ｂから出射された光が、照明光学系４３ａ，４３ｂを介して導入された空間光変調器４４１ａ，４４１ｂで空間変調されて基板Ｗ上に照射される。レーザ発振器４１ａ，４１ｂから照明光学系４３ａ，４３ｂに至る光路には光源からの光を通過又は遮断するシャッタ部４９ａ，４９ｂが設けられている。シャッタ部４９ａ，４９ｂの開閉制御を行うことにより、各光学ユニット４０ａ，４０ｂから照射された光がシャッタ部４９ａ，４９ｂよりも下流に設けられた光学部品を照射する時間は、各光学ユニット４０ａ，４０ｂで同一となる。 （もっと読む）

【課題】小型マスク連続露光において、遮光機構の構造を複雑にすることなく、搬送方向の長さが異なる様々な領域の遮光に対応できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、光源と、基板６を搬送する搬送装置と、光源と基板６との間に配置されるフォトマスク３と、遮光板５１〜５４とを備える。遮光板５１及び５２は、フォトマスク３とほぼ平行な同一平面を構成する位置と、軸受７３の中心軸を下端として、遮光板５１及び５２がＺ軸方向に延びる位置との間で開閉自在である。遮光板５１〜５４の射影全体が非露光領域６２に重なった状態で、遮光板５１〜５４が、開口パターン形成領域３０の上方をＹ軸正方向に基板６と等速で移動する。これによって、非露光領域６２が開口パターン形成領域３０の下方を通過する間、非露光領域６２が遮光板５１〜５４によって遮光される。 （もっと読む）

【課題】照度維持率の低下を抑制した露光装置及び露光装置の点灯方法を提供すること。
【解決手段】封入水銀量０．０８〜０．２５ｍｇ／ｍｍ^３の高圧放電ランプを備え、ワークを露光処理する露光装置であって、該高圧放電ランプは、前記ワークを露光しない非露光時に、露光時の定格電力に比べて低電力で交流駆動するように制御し、且つ、前記低電力時におけるランプ電流値及び点灯周波数を、前記定格電力時におけるランプ電流値及び点灯周波数に比べて小さくするように制御する制御部を備えることを特徴とする露光装置である。 （もっと読む）

【課題】遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１において、各遮光ユニット１４は、それぞれＸ方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂを有し、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｄは、露光用光ＥＬを通過させる貫通孔９０ａ〜９３ｂをそれぞれ備え、各貫通孔９０ａ〜９３ｂは、一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂが重ね合わせられた際に、露光用光ＥＬが各貫通孔９０ａ〜９３ｂと対向する一対の遮光部材６０ａ〜６３ｂのいずれかによって遮光されるように形成される。 （もっと読む）

【課題】露光量のばらつきがなく、かつタクト短縮が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板１０１を載せるチャック１１０と、基板１０１に所望のパターンを転写するためのマスク１０２を保持するマスクホルダ１２０と、露光光用の光源１３１，１３２と、光源１３１，１３２からの露光光を開閉するシャッタ１５０とを有する露光装置において、シャッタ１５０は、露光光を通過させる開シャッタ板と、露光光を遮光する閉シャッタ板とを有し、開シャッタ板および閉シャッタ板は同一方向に移動し、移動する方向において閉シャッタ板は、開シャッタ板よりも寸法が大きい。 （もっと読む）

【課題】露光装置及び露光方法において、露光直前の光源を安定させることにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接露光装置及びその近接露光方法を提供することにある。
【解決手段】光源制御部１５aは、遮光板８を閉じた状態で照射部１４の光源６に所定の電圧を印加した際に照度計５０によって検出される照度が目標照度になるように補正する補正機能１５ｂを有することで露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。
【解決手段】平板状シャッター１０，２０は、マスク４から離れて設けられ、帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂは、マスク４に近接して設けられている。露光領域を制限する場合、平板状シャッター１０，２０及び帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂは、ＸＹ方向を所定の位置へ移動され、平板状シャッター１０，２０は、マスク４の露光領域以外の領域へ照射される光の大部分を遮断し、帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂは、マスク４の露光領域の境界付近へ照射される光を遮断する。平板状シャッター１０，２０の端部を通過して回折により広がった光は、帯状シャッター３０ａ，３０ｂ，４０ａ，４０ｂにより遮断される。 （もっと読む）

【課題】複数のランプを含む光源の寿命を延ばし、メンテナスンス回数を低減することにより、生産性を高めることが可能な露光装置およびそれを用いた露光方法並びに表示用パネル基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のランプ１３１−１，１３１−２を含む光源と、複数のランプへそれぞれ電力を供給する複数の電源１４１−１，１４１−２と、複数の電源を制御する電源制御装置１４０と、感光樹脂材料が塗布された基板１０１を載せるチャック１１０とを有する露光装置において、電源制御装置１４０は、複数のランプ１３１−１，１３１−２への供給電力が同じで一定となるように複数の電源１４１−１，１４１−２を制御する。 （もっと読む）

【課題】露光品質を低下させることなく、基板のステップ移動を早期に開始して、タクトタイムを短縮する。
【解決手段】シャッター駆動装置８０へシャッター７５を閉じる様に指令してから所定時間が経過した後、シャッター７５が閉じ終わる前に、Ｚ−チルト機構３０によりマスク２と基板１とのギャップを広げる動作を開始する。そして、マスク２と基板１とのギャップを広げる動作が終了して、照度センサー７９により測定した露光光の照度がしきい値以下になったら、基板１のＸＹ方向へのステップ移動を行う。 （もっと読む）

【課題】従来の露光装置に比べて、露光開始までの待ち時間を短くすることが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】光源１からの光を原版Ｍに照明する照明光学系２と、原版Ｍのパターンを基板Ｐに投影する投影光学系４とを有する露光装置１０であって、照明光学系２と原版Ｍとの間を通過する光を遮断可能な第１のシャッターＳＨ１と、投影光学系４と基板Ｐとの間を通過する光を遮断可能な第２のシャッターＳＨ２と、第１のシャッターＳＨ１及び第２のシャッターＳＨ２の開閉を制御する制御手段とを備え、制御手段は、前記第１のシャッターＳＨ１及び第２のシャッターＳＨ２の開閉によって、投影光学系４の温度が原版Ｍの露光光透過率に基づいて予め得られた投影光学系４の飽和温度に近づくように投影光学系４内に照射される光量を制御する。 （もっと読む）

液体感光性ポリマー印刷ブランクからフレキソレリーフ画像印刷版を作製するシステム及び方法。前記システムは、レリーフ画像印刷版の所望のゲージを設定するためのガラス設定装置、露光工程中に印刷版の紫外線露光を制御するための装置、及び／又は印刷版のマスキング露光を自動的に実施するための装置からなる群より選択されるレリーフ画像印刷版を作製する装置を含む。マイクロコントローラは、前記装置に操作可能に接続され、前記装置を制御し、前記装置に関する情報を格納するためのソフトウェアを含む。ユーザインタフェースは、マイクロコントローラ及び前記装置に操作可能に接続され、且つ格納装置にデータを入力するための手段と、製版システムの前記装置に関する情報を選択するための手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】 水銀ランプ交換などの照明系メンテナンス等で発熱体の発熱量変化に対して周辺部への影響を抑制し、メンテナンス復帰時間を短縮し、露光装置の性能変動への影響を最小限に抑える。
【解決手段】 照明光発生手段の照明光に寄与しない発熱手段、及び照明系の熱量を制御する熱量制御手段により、照明光発生手段における熱量を所定値とする、もしくは温度分布を一定とするように熱量制御手段から熱量を制御する。 （もっと読む）

【課題】 線状部分及びそれから分岐した枝部を含むパターンを描画し、所望の形状の転写パターンを残すことが可能なパターン描画方法を提供する。
【解決手段】 加工対象物の表面において、第１のレーザビームと第２のレーザビームとのビームスポットが第１の方向に相互に接して並ぶように光軸調整を行う。前記第１のレーザビームと第２のレーザビームとの入射位置が、前記第１の方向と交差する第２の方向に、始点から終点まで移動するように、前記加工対象物を移動させながら、前記第１のレーザビームは始点から終点まで連続的に入射させ、前記第２のレーザビームは断続的に入射させて、線状の軌跡から枝部が突出したパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】任意な繰り返しパターンを露光することができる露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置１では、基板Ｗを移動させて、基板Ｗの被露光部を各マスクのパターン８５の下方位置で停止させるステップ移動と、各ステップ移動において停止した基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板Ｗに各マスクＭのパターン８５を露光する露光動作とを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。
【解決手段】所定の方向に被露光体を搬送するステージと、被露光体に露光すべきマスクパターンを有するフォトマスクを前記被露光体に近接対向させて保持するマスクユニットと、フォトマスクに露光用レーサ光を照射するレーザ光源と、露光用レーザ光をフォトマスクに直角に照射する光学系と、前記レーザ光源と光学系との間に配設され、レーザ光の偏光方向を切替える偏光切替え手段と、前記フォトマスク上に配設された偏光シャッターと、該シャッターの駆動手段と、を有する近接露光装置であって、前記偏光シャッターの偏光方向が、前記レーザ光の偏光前又は偏光後の偏光方向と直交することを、特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板をより高い生産性で露光する。
【解決手段】基板を露光する露光方法において、第１露光光ＥＬ１と第２露光光ＥＬ２とからそれぞれ第３露光光ＥＬ３と第４露光光ＥＬ４とを分岐する合成光学素子２０を有する投影光学系ＰＬによって、第１及び第３露光光ＥＬ１，ＥＬ３でそれぞれ第１基板Ｐ１の第１被露光領域及び第２基板Ｐ２の第１ショット領域を露光し、投影光学系ＰＬによって、第２及び第４露光光ＥＬ２，ＥＬ４でそれぞれ第１基板Ｐ１及び第２基板Ｐ２の第１ショット領域に隣接する第２ショット領域を露光する。 （もっと読む）

【課題】ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）を用いず構成が複雑にならずに大面積露光が高速でかつ高精度に実施可能なマスクレス露光装置を提供する。
【解決手段】このマスクレス露光装置は、被露光物Ｓに露光する光を出力するための光源２１と、光路中に設けられた光スイッチング手段２３と、光源からの光を被露光物へ導く光学系１２と、により被露光物上に多数の集光スポットＳ２を投影可能な露光ヘッド２０と、露光ヘッドと被露光物とを相対移動させる移動手段と、を備え、各集光スポットのオンオフを光スイッチング手段により制御するとともに移動手段による相対移動を制御することで被露光物上に任意のパターンを露光する。 （もっと読む）

【課題】スループットが短く、安価な装置で、かつランニングコストが不要なパターン露光方法及びパターン露光装置を提供すること。
【解決手段】 複数の半導体レーザからそれぞれ出射された複数のレーザ光１ａの出射端５を、一方はポリゴンミラー２７の走査方向と同じ方向に、他方はポリゴンミラー２７の走査方向と交差する方向に配置しておく。この場合、ポリゴンミラー２７の走査方向と交差する方向に配置する出射端１５の配列ピッチを露光パターンの分解能に等しくする。この場合、レーザの波長を、４１０ｎｍ以下にするとよい。 （もっと読む）