【課題】非磁性金属板にマスクのパターンを正確に焼き付ける。
【解決手段】垂直に吊り下げられた非磁性金属板（１）に対するマスク（６）のアライメントを行った後に、この非磁性金属板にマスクを密着させ、このマスク上から光を照射してマスクのパターンを非磁性金属板の感光膜に焼き付けるパターン焼付方法において、上記アライメントの際に、一方に前記マスクを配置した一対の枠体（１１、１２）を、前記非磁性金属板を挟むように対峙して設け、当該枠体の両側端部に配置された電磁石（１８）に対して磁束が下方に移動するように電流（Ｉ）を流し、前記非磁性金属板の表面に発生する渦電流（Ｕ）とその渦電流及び電磁石の磁界によって生じる引張力（Ｆ）で非磁性金属板を下方に引っ張り、この引張力が作用している間にアライメントを行い、しかる後に非磁性金属板にマスクを密着させる。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、溶剤系インクでありながら、感光層への影響を抑え、露光現像して製造した印刷版でも設定した印刷ができ、また、インクジェットプリンタの部品にも影響が少ない製版マスキング用インクジェットインクを提供することである。
【解決手段】支持体の感光層にピエゾ式インクジェットプリンタにて印刷して露光現像する製版方法に用いる製版マスキング用インクジェットインクであって、水や硬化性樹脂を含まず、顔料と有機溶剤からなり、顔料が３〜８重量％であり、有機溶剤が２−ブタノールもしくは２−メチル−２−ブタノールであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスク保持部材及びそのマスク保持部材に密着保持された遮光マスクを介して被照射物に光を照射する光照射装置において、マスク保持部材を平坦化する。
【解決手段】マスク保持部材２２における周縁部２２ａ以外の部分に固定された連結部３５には、吊下部としてのワイヤ４０が連結され、その連結部３５をワイヤ４０により吊り上げる。 （もっと読む）

【課題】光触媒層表層に生じる光強度分布のコントラストを向上させることができ、また光触媒層へ与える光強度を向上させることができる露光用マスク、該露光用マスクを用いたパターン形成装置及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】光照射装置から光を照射し、被処理物にパターンを形成する際に用いる露光用マスクであって、
前記光照射装置からの光によって触媒機能を発現する光触媒によって形成された光触媒層１０１と、
前記光触媒層に接し、前記光照射装置からの光を選択的に遮光する開口が形成された遮光層１０２と、を備えている構成とする。 （もっと読む）

【課題】
露光装置に於いて、マスクをローディングする際の、マスクの汚染、マスクの微細な位置合せを可能とし、露光精度の向上、歩留りの向上を図る。
【解決手段】
マスク３１を下面に保持するマスクステージ１７と、露光処理される基板を載置する基板ステージ１４と、該基板ステージを昇降させるステップステージ１３と、前記基板ステージに設けられ、該基板ステージの上面より上昇又は下降し、上昇状態で前記マスクを載置可能なマスクリフタ１５とを具備し、前記ステップステージにより前記基板ステージを介して前記マスクリフタを上昇させ、前記マスクを前記マスクステージに保持させる様構成した。
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【課題】コンパクト且つ簡素な露光装置により、生産性の高い露光動作を実現できる露光方法を提供する。
【解決手段】マスクＭとワークＷを面方向に沿って相対移動させる前に、マスクＭとワークＷとの接触の有無を検出し、接触している場合にはその接触範囲Ａを測定するので、測定された接触範囲Ａに基づいて、ワークＷとマスクＭのＺ軸方向の相対移動量を決定できる。従って、密着しない状態にするために、マスクＭとワークＷとの面垂直方向の最小限の移動量を決定でき、決定された移動量だけ相対移動を行うため、マスクＭとワークＷとの相対移動にかかる時間を減らすことができ、効率的な露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】マスクのピッチよりも微細なレジストパタンを形成することができ、これにより微細な等倍マスク作製に伴う困難を回避することが可能となる近接場光による露光方法及びレジストパタンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された感光性の薄膜に、露光光の波長サイズ以下の微小開口が形成されたた遮光膜を有する露光用マスクを密着させて、前記感光性の薄膜が伝搬光に対して感度を有する波長の光を照射し、露光を行う近接場光による露光方法であって、
前記露光用マスクに前記光を照射して露光するに際し、
前記微小開口が形成された遮光膜のエッジ部直下の前記感光性薄膜には露光部が、前記微小開口中央部直下の前記感光性薄膜には未露光部が、共存して形成される露光量で露光する構成とする。 （もっと読む）

【課題】変形に対する耐久性を向上させ、マスク母材に用いる材料の選択の幅を広げることが可能となるメンブレン構造を有する近接場露光用フォトマスクとその製造方法を提供する。
【解決手段】支持体１０４と、該支持体に支持され、微小開口を有する遮光膜１０１が一方の面に設けられると共に、撓み変形が可能に構成されたメンブレン部を有する近接場露光用フォトマスクにおいて、
前記メンブレン部を構成するマスク母材を、互いに逆向きの内部応力を有する層１０２、１０３を、交互に２層以上積層して構成する。 （もっと読む）

【課題】従来のコンタクト露光装置に簡単な改造を施すだけで、マスクとウエハの密着性を向上できるコンタクト露光方法及びコンタクト露光装置の実現。
【解決手段】露光パターンを形成したマスク11を保持するマスクホルダ12と、レジスト71を塗布したウエハ21が載置され、ウエハの裏面を真空吸着するか又は裏面に圧力を印加するための気体経路29,60を有するウエハステージ22と、マスクホルダとウエハステージの相対位置を調整する移動機構30と、ウエハステージの気体経路の圧力を切り換える圧力切換機構51,52と、マスクに光を照射する光源15と、を備える。 （もっと読む）

【課題】多数の被処理体に対し転写パターンを形成することができ、作業性の面及びコストの面で優れたフォトマスク及びこのフォトマスクを用いた露光装置を提供すること。
【解決手段】フォトマスク１には量子ドットが含まれ、被処理体１０と対向する面に、被処理体に転写すべきパターンに応じた形状で凸部が配置されている。露光に際して、フォトマスク１のマスク基板の上面から、例えば高圧水銀ランプ等の光源２０からｉ線（波長３６５ｎｍ）が照明光学系３０を介して照射され、フォトマスク１に形成された凸部２の近傍に近接場光がしみだし、凸部２の直下に位置する被処理体表面のレジスト層１１が露光される。なお、被処理体のレジスト層は、フォトマスクから出射する伝播光に感光しないような特性を有する材質で構成されている。また、凸部を設ける代わりに、被処理体に転写すべきパターンに応じた形状で局所的に量子ドットを含ませるようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを基板に接触させる際の、フォトマスクの横方向のずれを極力小さくする。
【解決手段】表面に感光層が形成された基板１を基板支持台１７上に保持する。パターンが描かれたフォトマスク６を、基板１を覆う位置に保持する。基板支持台１７上に基板１を保持する。基板１を覆う位置にフォトマスク６を保持し、基板１とフォトマスク６との間に、開放された周囲を有する空間２７を形成する。空間２７内の空気を外方へ導くための空気流を基板１の周囲に生じさせ、それによって空間２７内を負圧にさせる。空間２７内が負圧になることにより、フォトマスク６は基板１１上に接触する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス時に上下移動したマスクステージの姿勢が変化する場合でも、初期ステップの露光精度を高めることができるステップ式近接露光方法を提供する。
【解決手段】マスクステージ１を上下移動機構５０により上下移動させたメインテナンス後に、基板ステージ２に対するマスクＭの姿勢変化量を検出するマスク姿勢変化検出手段３０、ＫＭ１、ＫＭ２と、このマスク姿勢変化手段で検出した姿勢変化量に基づき、マスクステージ１を介してマスクＭの姿勢をステージ送り機構５，６による送り方向を基準に調整するマスク姿勢調整手段６０、１０，１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】帯状ワークの表裏両面に品質の良い露光パターンを比較的省スペースの装置構成で形成することができる両面露光装置を提供すること。
【解決手段】帯状ワークＷを間歇的に垂直方向に搬送する第１間歇搬送機構３７Ｌと、第１間歇搬送機構３７Ｌにより搬送された帯状ワークＷの表側露光面にプロキシミティ露光を行う第１露光部３Ｌと、第１露光部３Ｌにより露光された帯状ワークＷを垂直方向に間歇的に搬送する第２間歇搬送機構３７Ｒと、第２間歇搬送機構３７Ｒにより搬送された帯状ワークＷの裏側露光面にプロキシミティ露光を行う第２露光部３Ｒとを備え、第１露光部３Ｌと第２露光部３Ｒとが互いに対向して垂直に立設していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 近接場光を利用した微細パターンの露光転写を容易に行えるようにする。
【解決手段】 フォトマスク１は、露光光を透過する材料で形成されて少なくとも外周面の一部が円弧形状に形成された柱状のマスク基体２と、マスク基体２の外周面の円弧形状部分に形成された露光光の波長以下の開口幅の微細パターン３とを具備する。マスク基体２の外周面の微細パターン３が形成された円弧形状部分をこの微細パターン３を露光転写しようとする感光性樹脂層に押し当てることにより、微細パターン３と感光性樹脂層との間隔を露光光の波長以下に抑えることができ、露光光として近接場光を用いた露光転写を行うことができ、微細パターン３の露光転写を良好に行うことができる。 （もっと読む）

本発明は、基板（６００）上に配置される感光性樹脂層（６０１）にパターンを生成するリソグラフィー法に関する。前記パターン（６０７）は、基板の主面の法線（ｎ）に対して傾斜する側面（６０８）を有し、その傾斜角（θ）は、先行技術により得られるパターンの傾斜角よりもずっと大きい。本発明の方法を実行するデバイスも開示される。
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【課題】 ＣＣＤやＣＭＯＳの等のイメージセンサ部上への微小な集光レンズの形成方法において、集光効率の良い設計形状のレンズを形成することができる方法を提供する。
【解決手段】 ＣＣＤやＣＭＯＳ等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズの形成方法であって、イメージセンサの受光部上側に形成された平坦化層上にレジスト膜を塗布し、フォトマスクを介して、レジスト膜を露光し、現像し、レンズ形状にパターニングするもので、前記フォトマスクは、遮光層を持たない透過型のフォトマスクで、被露光部の表面において所望の光強度分布を得るように、各箇所における透過光の位相が所定値幅単位で制御された、表面部に階段部を有する光屈折系の媒体からなる光透過部を設けたものである。 （もっと読む）