レジストが積層された基板を横切って光ビームのスポット格子アレイを走査することにより像が形成される高解像度かつ高データレートのスポット格子アレイ印刷システムが提供される。狭いメインローブを与えるように光ビームをアポダイジングすることにより高解像度が達成される。サイドローブがレジストのスレッシュホールドより高いエネルギーを含まないように確保し、無記憶レジストを使用し、更に、スポット格子アレイパターン及びレジストの記憶なし特性に使用される傾斜及びインターリーブ型走査パターンを使用することにより、基板に対するサイドローブの望ましからぬ記録が防止される。
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【課題】 コイルを冷却するジャケット内部及び表面の温度分布を低減することにより、レーザ干渉計の検出精度の悪化を防止することができる電機子ユニット等を提供する。
【解決手段】 電磁アクチュエータ１は、コイル１３を備える電機子ユニット１０と磁石２２，２３を備える発磁体ユニット２０とを含んで構成される。電機子ユニット１０は、コイル１３を第１ジャケット１１内に収容するとともに、沸点がほぼ常温に設定された状態の冷媒１４を気液混合状態でジャケット１１内に密閉収容し、コイル１３を冷却する。第２ジャケット１２は、第１ジャケット１１内の気体状態の冷媒１４を冷却して液化する。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、該パターン形成材料における支持体の微粒子と合成樹脂性フィルムとの屈折率の差を所定の範囲とすることにより、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 微粒子を含有する合成樹脂製フィルムを有する支持体上に感光層を有し、該微粒子と該合成樹脂製フィルムとの屈折率の差が０．３以下であるパターン形成材料における該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 広視野センサと狭視野センサを切り替えてマークを検出する位置計測装置において、広視野センサと狭視野センサの切り替え頻度を抑えることができる位置計測装置等を提供する。
【解決手段】 第１計測系５１を用いて、マスクＲ上に形成されたパターンＲＡＭを観察し、パターンＲＡＭの位置情報をマスクＲを識別するための識別情報と共に対応付けて記憶する。また、第１計測系５１よりも狭い計測視野を備えた第２計測系５２（５２Ｘ、５２Ｙ）を用いて、パターンＲＡＭを第１計測系５１よりも高倍な計測倍率で観察する。そして、所定マスクＲ上のパターンＲＡＭを第１計測系５１で計測する前に、記憶された情報の中に所定マスクＲに関する識別情報の存在が認識されるとその情報に対応する位置情報に基づいて、第２計測系５２の計測視野とパターンＲＡＭとの位置関係を決定する。
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形成した調光分布を一方向に沿って高速に移動させることが可能な二次元調光デバイスを可変成形マスクとして備えた、走査型のマスクレス露光装置を提供する。走査型のマスクレス露光装置の可変成形マスクとして、信号保持要素と調光要素とからなる調光素子が二次元に配列された調光素子アレイ（１１）と、その信号保持要素に保持される調光信号を、一方向に沿って隣接する信号保持要素に順次転送可能な制御回路機構（１２）とを有する二次元調光デバイス（ＶＭ１）を使用する。その可変成形マスク上のパターンとしての一方向に高速転送可能な調光状態分布を、投影光学系（１３）を介して移動している被露光基板（Ｗ）上に転写する。 （もっと読む）

一般に、１態様では、本発明は、第１の材料を含む層を提供すること；レジストのような処理層を必要とせずに層の表面を露出しながら層をパターン化すること；パターン化された層に前駆体を浸透させること；およびパターン化された層の中の前駆体を反応させて構造化材料を形成すること；を含む構造化材料の形成方法をその特徴とする。 （もっと読む）

基板上にパターンを作製する方法で、その方法は、基板上に第1のパターンをプリントする工程；及び、第2の実質的に同様なパターンで、第1及び第2のパターンの組み合わせは基板上の画成された素子の最終的なサイズにおける系統的な変動を引き起こすように第1のパターンに対してずれているものをプリントする工程を有する。
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マイクロエレクトロニクス、触媒作用、および診断法における使用のための、コーティングされたチップを使用する金属ナノ構造のナノリソグラフィ付着が開示される。AFMチップは金属前駆体でコーティングすることができ、この前駆体を基板上にパターニングする。パターニングされた前駆体は、熱を適用することよって金属状態に変換できる。高解像度および優れたアライメントを達成できる。 （もっと読む）

結像用プラットフォーム上において、１対の外層の間に挟み込まれた放射線感応層を含む微細構造マスタ型生地をその放射線感応層内に微細構造体を画定すべく結像処理することによって微細構造体が形成される。続いて、１対の外層の少なくとも１つが取り除かれる。次いで、放射線感応層内に画定された微細構造体が現像される。１対の外層の間に挟み込まれた放射線感応層は、微細構造マスタ型生地を提供するウェブとして加工される。

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本発明は、基板上に付着した粘性液体層に存在するガス・ポケットを大幅に減少させることによって、インプリンティング層におけるパターン歪みを軽減する方法を対象とする。そのため、この方法には、粘性液体に近接した位置にあるガスの輸送を変更するステップが含まれている。すなわち、パターンが記録されることになる基板に近接した大気が、付着している粘性液体に対して、溶解性が高いか、拡散性が高いか、あるいは、その両方であるガスで飽和させられる。大気の飽和に加えて、又は、その代わりに、大気圧を低下させることも可能である。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ照明方法、及びその方法を実行するのに適した投影照明系であって、約１９３ｎｍ以下の短い作動波長で良好な結像性能も可能にする投影照明系を提供する。
【解決手段】投影対物レンズの像面の領域内に配置された基板を照明するための照明方法とともに、その方法を実行するための投影照明系において、出力偏光状態を有して基板に向けられた出力放射光を発生する。少なくとも１つの偏光操作装置の補助による出力偏光状態の可変調節により、出力偏光状態を公称出力偏光状態に近づくように形成することができる。偏光操作は、偏光−光学測定データに基づいて制御ループ内で実行されることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、振動に起因する描画の誤差による基材の良品不良製品を識別することの可能な描画システム、情報処理装置、電子ビーム描画装置、基材の検査方法、その方法を実行するためのプログラム、プログラムを記録した記録媒体、描画方法、及び基材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の描画システムは、ビームにより基材に対して描画を行う描画装置（３）と、描画装置による振動ないしは外部からの振動を計測する振動計測装置（５００）と、振動計測装置にて計測された振動と、前記基材に対するドーズ量に応じた前記振動による描画位置ずれの影響度に基づいて、前記基材の描画の品質を判定するように制御する品質判定制御装置（６００）と、含む。 （もっと読む）

【課題】 マイクロドリルの捻れ溝加工を高精度で行い，かつマイクロドリルを高歩留まりで大量生産する。
【解決手段】 所定部材を加工して，マイクロドリルのドリルボディ部を形成する工程と，少なくともドリルボディ部を含む所定領域を露光液でコーティングする露光液コーティング工程と，ドリルボディ部の露光液コーティング面にレーザビームを照射しながらマイクロドリルを直進回転移動させて，捻れ溝形成領域の露光液を除去する捻れ溝形成領域露光工程と，少なくともドリルボディ部をエッチング液に浸積し，露光液が除去された領域のドリルボディ部材をエッチング除去して，捻れ溝を形成する捻れ溝形成工程と，露光液を超音波洗浄により洗浄除去する露光液洗浄工程と，を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、例えば、ＣＲＴ（陰極線管）のカーボン及び蛍光体ストライプを形成する陰極線管の製造方法に関し、露光時間を短縮させることが課題である。
【解決手段】 ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃を主成分として軟化点温度が７５０℃以下の光学ガラスで露光用レンズ４を形成し、該露光用レンズを使用して陰極線管のカーボン若しくは蛍光体ストライプを形成するようにした陰極線管の製造方法である。 （もっと読む）