【課題】 アクチュエータアレイ用の基板とミラー面用の基板を別に製造することなく、効率の良く形状可変ミラーを製造する。
【解決手段】 形状可変ミラーの製造方法において、圧電膜と、圧電膜の下に配置された第１の電極と、圧電膜の上に配置された第２の電極と、を有する圧電アクチュエータが基板上に複数配置されたアクチュエータアレイを準備する工程と、最終的に除去される犠牲層を形成する工程と、犠牲層に孔を形成し第２の電極の少なくとも一部を露出させる工程と、露出した第２の電極の上に柱部を形成するために、犠牲層に形成された孔を柱部用材料で埋没させる工程と、犠牲層及び柱部の上面を平坦化させる工程と、平坦化した犠牲層及び柱部の上面にミラー面を形成する工程と、ミラー面が形成された後，犠牲層をエッチング法により除去する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】実装が容易で、方向性結合器を使用しない消光比の高い光信号処理装置を提供する。
【解決手段】基板上に作製された、少なくとも１つの入出力導波路（１０２）と接続された第１のスラブ導波路（１０４）と、第１のスラブ導波路と接続導波路アレイ（１０６）で接続されたアレイ導波路格子であって、第２のスラブ導波路（１１２）およびアレイ導波路（１１４）を含む少なくとも１つのアレイ導波路格子（１１０）と、アレイ導波路格子から出射した光を集光するレンズ（２００，３００）と、集光された光に位相シフトを与える位相変調素子を有する位相変調器（４００）とを備えた。 （もっと読む）

可変ミラー（１）は、反射面（３）と反対面（４）を有する可変薄膜（２）と；剛体板（５）と；少なくとも１つが剛体板（５）に固定されることによって可変薄膜（２）を局所的に変形できる少なくとも１つのアクチュエータ（９）とを備える。可変ミラー（１）は更に、可変薄膜（２）の反対面（４）に接触する必ずしも均一ではない接着層（１１）と；少なくとも１つの弾性連結手段（１２）とを備える。弾性連結手段（１２）は、機械的接続手段（２１）と；機械的接続手段（２１）の上端（１３）を接着層（１１）に結合する上部結合手段（２２）と；機械的接続手段（２１）の下端（１４）を剛体板（５）に結合する下部結合手段（２３）とを備える。可変ミラーを製造する製造ツールと製造方法にも関する。
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本発明の様々な実施形態は、微小電気機械システム、及び微小電気機械システムを利用するフォトニック相互接続を対象とする。本発明の微小電気機械システムの一実施形態は、レンズ構造要素(1704)及びアクチュエータを含む。レンズ構造要素は、フレキシブルな曲面を有する実質的に透明な膜(1710)、及び膜に流体的に連通するように結合される流体を保持するリザーバ(1708、1710)を含む。アクチュエータシステムは、膜の曲率およびレンズ構造要素の焦点を変更するように流体に圧力を加えるために、リザーバに動作可能に結合される。 （もっと読む）

【課題】レーザビーム補正システムならびに関連する使用方法および製造方法が与えられる。
【解決手段】一実施例において、レーザビーム補正システムは、第１の表面および第２の表面を有するミラーを含む。圧電セラミックディスク、およびディスクの実質的に対向する側面の複数の伝導性電極を含むアクチュエータは、ミラーの第２の表面に接合される。アクチュエータは中央部分にアパーチャを含む。波面センサは、ミラーによって受取られるレーザビームの光学波面特性を測定し、かつ波面特性に対応する電子信号を与えるよう適合される。 （もっと読む）

【課題】電気回路が形成された基板上に構成された微細電気力学的素子構造に関して、犠牲層を取り除くための除去エッチングの間に、エッチャントは保護層を突き破り、素子構造がしばしば損傷を受ける。
【解決手段】保護層を電極と電気回路上に施し、この保護層に半導体材料を用いることにより、素子構造の損傷が防がれ、かつ素子の漏れ電流を防ぐ。特に、半導体材料が、Si、SiC、Ge、SiGe、SiNiおよびSiWのグループであるときに効果がある。 （もっと読む）

光記録担体を走査するための光学走査装置。光学走査装置は、放射線源系（６６１；７６１）と、調節可能な構造を有する流体メニスカス（１６；１１６，１３８；２１６；３１６）によって互いから分離される第一流体（Ａ）と第二流体（Ｂ；Ｃ）とを含む光学素子（１；１０１；２０１；３０１）と、第一種類の波面修正を導入するために流体メニスカス構造を調節するために配置される制御系（２０；１２０；２２０；３２０）とを含む。第一種類の波面修正は、放射線ビームを入射放射線ビーム経路（２；１０２；２４４；３４８）から複数の出力放射線ビーム経路（２４，２６；１４０；２４６；３５０）の１つの上に方向変更させ、各出力放射線ビーム経路は、入力放射線ビーム経路から異なる角変位（α、β、γ、δ、ε）を有する。制御系は、第二種類の波面修正を導入するために流体メニスカス構造を調節するようさらに配置され、第二種類の波面修正は、放射線ビームの波面収差を補償するよう配置され、補償される波面収差は角変位に従って調節される。
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本発明は、終端が基板に接続される変形可能なブリッジ（１）を含むマイクロシステムに関する。本発明によれば、ブリッジ（１）と完全に接続される少なくとも１つの作動電極（６）は、ブリッジの中央（Ｃ）と基板（３）と完全に接続されるカウンタ電極（７）に隣接する終端の一方との間に設けられる。電極（６）は、ブリッジ（１）のより低い面が基板（３）上に形成されるコンタクト素子（４）と接触するように変形可能なブリッジ（１）を変形させることを目的とする。作動電極（６）は、ブリッジ（１）に対して横方向に、ブリッジ上に設けられる中央領域（８）及び少なくとも１つの突出した可撓性のある横方向フランジ（９）を含む。横方向フランジ（９）は、ブリッジの中央（Ｃ）に最も近いフランジ（９）の側部に設けられるより狭い関連領域（１０）を用いて、中央領域（８）と接続される。さらに、各作動電極（６）は、対応する中央領域（８）の片側にそれぞれ設けられる１組の横方向フランジ（９）を含んでも良い。
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