光学要素（１）は、エレクトロウェッティングにより界面波を生成するために備えられている。光学要素（１）は、少なくとも１つの側壁を有する流体チャンバ（３）と光軸（１０）とを有する。更に、流体チャンバ（３）は、界面（４）により分離された第１流体（Ａ）及び第２流体（Ｂ）を有し、それらの流体（Ａ，Ｂ）は非混和性である。第１エレクトロウェッティング電極（２）及び第２エレクトロウェッティング電極（９）が備えられ、第１エレクトロウェッティング電極（２）は流体接触層（８）により第１流体（Ａ）及び第２流体（Ｂ）から分離されている。第２エレクトロウェッティング電極（９）は第１流体に作用するように備えられている。選択された定在波又はランニング波は、第１及び第２エレクトロウェッティング電極のそれぞれに選択された電圧を印加することにより形成される。

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前方に伸びる二つの歯部(30および32)と後方に伸びるカウンターウェイト部材(34)を有するフォーク(14)と、前記フォーク(14)を前記歯部(30,32)と前記カウンターウェイト部材(34)の間の位置で支持するマウント(16)と、高速スキャンを実現するために前記歯部(30,32)の間に相対的な振動を与えと共に、(高速スキャンと交差する)低速スキャンを実現するために前記フォークを駆動するためのドライブ(26,28)を有する走査装置および走査方法。
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本発明は、メニスカス（２０８）によって分離された２つの混合しない流体（２０５，２０６）を収容する流体室を含む反射型エレクトロウェッティング装置（２００）を提供する。流体室は、さらに、電極（２０３，２０４）と、２つの混合しない流体（２０５，２０６）に対する異なるウェッティング特性を有するウェッティング面（２０７）を含み、疎液力及び静電力の相互作用によってもたらされるエレクトロウェッティング力が、メニスカスに衝突する光（２１０，２１２）がメニスカスで全反射によって反射されるよう、メニスカス（２０８）を制御するために利用される。本発明は、さらに、そのような反射型エレクトロウェッティング装置のシステム及び配列を提供する。
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本発明は、画像を投射スクリーン（２６，５６，８６）上に投射するための投射ディスプレイ装置（１０，４０，６０，７０）に関する。装置は、光変調素子（１８，４８，７８）の配列を含む空間光変調器（１６，４６，６２，７６）と、変調器を照明するよう配置された光源（１２，４２，７２）とを含む。装置は、変調器の各光変調素子が、少なくとも一次元に発散する光によって照明され、その光は変調器によって空間的に変調され、投射スクリーン上に投射される。本発明に従った投射ディスプレイ装置を用いる利点は、投射ディスプレイ装置を極めてコンパクトに実現し得ることである。本発明は、さらに、そのような投射ディスプレイ装置を含むハンドヘルド装置に関する。
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互いに間隔を開けて配置され、強磁性的に互いに結合する固定子３８，４０と、磁石９であって、磁石９によって生成される磁界の対称軸が前記固定子３８，４０から実質的に等距離で、かつその間を通るように前記固定子３８，４０に対して配置される磁石９と、フレクシャ素子１１であって、フレクシャ素子１１の中心点が磁石９の磁界の対称軸を実質的に横切るように、固定子３８，４０および磁石９に対して配置されるフレクシャ素子１１とを備え、フレクシャ素子１１は固定子３８，４０または磁石９のどちらとも物理的に接触しない、光学スキャナ１００である。
光学スキャナのフレクシャ素子を振動させる方法において、２つの固定子３８，４０の間であって、フレクシャ素子１１の下に配置された磁石９を用いて、おおむね対称で、互いに同一平面をなす第１および第２磁気回路３０，３１を作るステップであって、回路の一部は磁石９をとおる共通磁路を共有し、固定子３８，４０をとおる回路３０，３１の残りの非共有磁路は互いに反対向きであるステップと、電気コイル５，６を介して回路３０，３１の一方または両方に電磁束を印加して、ある回路３０，３１をとおる磁束を強化し、他の回路３０，３１をとおる磁束を妨げ、磁石９をとおる固定子誘導の磁束ベクトルを変化させないようにするステップと、フレクシャ素子１１を振動させるために、固定子誘導の電磁束の極性を規則的な周波数で反転させるステップとを有する、方法である。
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ＭＥＭＳは、基質材を使用しないでファイバーから作られる。装置は、ファイバーが基板のエッジに取り付けられる場所にのみ作ることが出来る（例えば、カンチレバー、ブリッジ）。動きは、弱い結合を有する複数のファイバー間の結合を調整することによって制御可能である（例えば、基礎部、先端、その中間）。駆動機構は、基礎部の加重（磁気、圧電、静電気）または先端の加重（磁気）を含む。光スキャナーを形成するために、ミラーがカンチレバーの自由端に形成される。 （もっと読む）

エレクトロウェッティングセル（１５）は外側壁（９０）及び内側壁（８０）を有し、外側壁（９０）は内側壁（８０）の反対側に伸びている拡張部（８５、８６）を備えている。セル（１５）は、体積拡大のためのメンブレン（４５）を更に備え、電気メッキ層（９５）により密封されている。
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レーザ源（５２）とグレーティング・ライト・バルブ光変調器（５４）と光ステアリング・スキャナ（５８）とを有する走査プロジェクタのためのシャッタリング・システムが、スキャナ（５８）と光変調器（５４）とを相互接続するフィードバック・システムを含む。このフィードバック・システムは、スキャナ誤動作の際には光変調器（５４）を消勢して、レーザ光の方向を変更してスキャナ（５８）から遠ざけるように構成されている。
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本発明は、流体チャンバ1と複屈折部分とを具える光学系に関するものである。流体チャンバは、第１および第２の流体10、12を具え、これらの流体は異なる屈折率を有し、流体間の界面はメニスカス14を形成する。複屈折部分は、第１放射ビーム3bおよび第２放射ビーム3cの特性を変化させることができ、第１および第２の放射ビームは異なる偏光を有する。メニスカス構造の変更によって、第１放射ビームおよび第２放射ビームの特性変化が生じる。メニスカス構造の変化を、エレクトロウェッティングによって制御できる。
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