【課題】エレクトロウェッティングを用いて、高い解像度が得られるとともに、各画素を通過する光の位相を制御可能な空間光変調器を提供する。
【解決手段】入射光を変調する空間光変調器２８は、液体を収容可能な枠状の隔壁部３３ａ及び可変電圧が印加される画素電極３８を有する複数のセル部３４と、複数のセル部３４に収容可能に保持された互いに屈折率及び誘電率が異なる第１及び第２の液体Ｌｑａ，Ｌｑｂと、複数のセル部３４で増減する液体Ｌｑａ，Ｌｑｂを貯蔵可能な貯蔵部３１と、を備え、セル部３４の画素電極３８に印加される電圧によって、隔壁部３３ａ内における液体Ｌｑａ，Ｌｑｂの厚さの比を制御する。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器にて反射された描画に寄与しない光が周辺部材に与える熱的影響を確実に排除して高い描画精度を担保する。
【解決手段】光学ユニットのヘッド部は、レーザ発振器から出射された光を空間変調させて、パターンの描画に寄与させる必要光Ｌ１と、パターンの描画に寄与させない不要光Ｌ０とを、互いに異なる方向に反射させる空間光変調器を備える。光学ユニットは、さらに、必要光Ｌ１を通過させつつ不要光Ｌ０を遮断する第２遮断板２３２と、第２遮断板２３２を冷却する冷却部を備える。第２遮断板２３２における不要光Ｌ０の入射領域を含む対象領域部分には、入射した光を乱反射させる乱反射面４２が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）

【課題】 使用されるレーザビームの波長に制約を受けることなく、被加工物に対して十分な光量を有しかつ任意の断面形状を有するレーザビームを投射することが可能なレーザビーム投射装置を提供すること。
【解決手段】 レーザ光源（１）の出射光をＤＭＤ（２）のミラーアレイに照射し、その反射回折光を集光レンズ（３）と対物レンズ（４）で被加工物（８）に結像させる。ミラーアレイを通過した光が２本に分離しないよう、ＤＭＤ（２）を適切な角度（β）に傾け、ミラーアレイを通過した光が２本に分離することなく、被加工物に効率的に伝送されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】複数の反射要素のアレイを有する空間光変調器を用いるときに、反射光の強度を大きくする。
【解決手段】空間光変調器２８は、それぞれ光が照射される複数のミラー要素３０のアレイを有し、ミラー要素３０は、回転軸ＲＣの回りに回転可能に支持されるとともに、ミラー要素３０は、回転軸ＲＣから第１の距離ａ１にあり回転軸ＲＣに平行な方向に幅ｂ１を持つ部分３１Ａａと、回転軸ＲＣから第１の距離ａ１よりも離れた第２の距離ａ２にあり回転軸ＲＣに平行な方向にその幅ｂ１よりも広い幅ｂ２を持つ部分３１Ａｂとを含む第１反射部３１Ａを有する。 （もっと読む）

【課題】望ましくない変形の発生を可能な限り妨げることにより、６自由度までの光学素子またはアセンブリの正確な操作を可能とする、光学素子操作装置を提供する。
【解決手段】少なくとも３つのアクチュエータデバイスを介して、構造体について、光学素子を６自由度まで操作する装置であって、各アクチュエータデバイス９が、少なくとも２つの力制御アクチュエータを備え、各力制御アクチュエータが、１自由度の有効な力を生成すると共に、アクチュエータデバイス９の連結点１１が、光学素子７に直接作用する。 （もっと読む）

【課題】簡明な構成で、異なる波長の光を任意に選択して出力可能な出力波長選択型のレーザ装置を提供する。
【解決手段】本発明は、波長変換部に複数の波長変換光学素子を有し、レーザ光出力部から出力された基本波レーザ光を波長変換して出力するレーザ装置である。そのうえで、複数の波長変換光学素子を透過して出射される複数波長の多成分光を個々の波長の光に分光するプリズム５１と、プリズム５１を回動させる回動ステージ５５と、回動ステージ５５の作動を制御するステージ制御部８０とを備え、ステージ制御部８０は、選択された波長の光が出力ポート３ｐから出力されるように回動ステージ５５の作動を制御する。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いることなく、１つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）は、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器（２５）、空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節する調節装置（５０）、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路（２７）、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系（２６ａ，２６ｂ）を有する。調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させ、照射光学系からチャックに支持された基板（１）へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率を向上する。
【解決手段】レーザ装置は、一方の主面側に入射した第１レーザ光の一部を第１反射光として反射するとともに残りの一部を第１透過光として透過し、且つ、他方の主面に入射した第２レーザ光の一部を第２透過光として透過するとともに残りの一部を第２反射光として反射するミラーと、前記第１透過光と前記第２反射光との光軸、もしくは、前記第１反射光と前記第２透過光との光軸が略一致するように、前記ミラーへ前記第１および第２レーザ光を入射させる光学系と、前記第１透過光または前記第１反射光のビームパラメータを計測する第１計測部と、前記第２反射光または前記第２透過光のビームパラメータを計測する第２計測部と、前記第１計測部の計測結果に基づいて前記第１レーザ光を調整する第１調整部と、前記第２計測部の計測結果に基づいて前記第２レーザ光を調整する第２調整部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】光源から出る多波長光のうち、所望の波長の光を容易に選択することができるようにした露光波長調節装置及びそれを利用した露光機を提供する。
【解決手段】本発明による露光波長調節装置は、光源から出射される多波長の光の入力を受け、分離屈折させて多数の波長を出力する分離屈折部；前記分離屈折部で分離屈折されて入射される多数の波長の光経路を変化させるミラー；及び前記ミラーで反射される多数の波長の光の一部を通過させる部分光通過部を含む。 （もっと読む）

【課題】大面積のミラー素子を有する空間光変調器を提供する。
【解決手段】反射面ＳＥＡを有する複数のミラー素子ＳＥｋと、複数のミラー素子ＳＥｋがそれぞれ複数の板ばねＳＥＬを用いて傾動可能に配列されたベース部材ＳＶｂと、複数のミラー素子ＳＥｋのそれぞれを、反射面ＳＥＡの裏面側で同一直線上にない３以上の複数点でベース部材ＳＶｂに接近する方向に駆動する複数の電磁石ＳＣｋとから、空間光変調器が構成されている。 （もっと読む）

【課題】稠密に配列された大面積のミラー素子を有する空間光変調器を構成する。
【解決手段】反射面ＳＥＡを有する複数のミラー素子ＳＥｋと、複数のミラー素子ＳＥｋがそれぞれの反射面ＳＥＡ内の頂点ＳＥｐを中心に傾動可能に配列されたベース部材ＳＶｂと、複数のミラー素子ＳＥｋのそれぞれを反射面ＳＥＡの裏面上で頂点ＳＥｐを含んで同一直線上にない複数の位置にて反射面ＳＥＡに対する垂直方向に駆動する複数のボイスコイルモータＳＶｋとから、空間光変調器が構成される。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、各光ビーム照射領域の各ミラーの描画中心点位置をデジタル値に変換する際に、周期的な偏りが生じないよう分散させて、均一に近い露光量で基板全面に亘って描画することができる露光装置または露光方法或いは前記露光装置または露光方法を適用し、高画質な表示用パネルを製造できる表示用パネル製造装置または表示用パネル製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器により描画データに基づいてフォトレジストが塗布された基板に光ビームを照射して描画する光ビーム照射装置と前記基板とを相対的に走査し、前記走査の位置をデジタル的に検出して行う際に、前記基板に描画する一定の描画領域内の露光量が均一に近づくように前記一定の描画領域内の前記各ミラーの描画中心点位置を分散させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液晶基板の配向膜に細かいピッチの線状の光パターンを照射して一方向に走査すると、その走査した方向に応じた一様な配向特性（プレチルト角）が配向膜に付与されるが、従来のマスクを介して光パターンを照射して露光する方式では露光の時間が長くかかり、実用化する上でネックになっていた。
【解決手段】光源から発射された露光光に偏光特性を付与して微小な可動ミラーを多数備えたマイクロミラーデバイスに入射させ、マイクロミラーデバイスの微小な可動ミラーにより形成された反射パターンで反射された露光光のパターンを投影光学系を介してステージに載置された表面に配向膜が形成された基板に投影して配向膜を露光する液晶用配向膜を露光する方法において、ステージを一方向に連続的に移動させることにより一方向に連続的に移動している基板上を露光光のパターンがステージの移動速度よりも遅い速度で移動して配向膜を露光するようにした。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の特性を長期にわたって安定させる。
【解決手段】電極、静電力により電極に引き付けられて揺動する可動部、および、可動部に支持されて可動部と共に揺動する反射鏡をそれぞれが有する単位素子を複数実装された基板と、反射鏡の間から基板に向かって差し込む光を遮断する遮光層とを備える。上記空間光変調器において、遮光層は、反射鏡および基板の間に配されてもよい。また、上記空間光変調器において、遮光層は、反射鏡および可動部の間に配されてもよい。 （もっと読む）

【課題】マスクレス露光装置において、幅方向にも厚さ方向にも窪みのない直線性の良い描画パターンを得るためのマイクロミラーデバイス選別装置を提供する。
【解決手段】マイクロミラーデバイス選別装置において、マイクロミラーデバイス２のマイクロミラー２１に照明光を照射する照明系と、マイクロミラー２１で発生した回折光を撮像素子７９に入射させる光学系と、撮像素子７９で撮像された回折光分布画像を処理し、マイクロミラーデバイス２の良品または不良品の判定を行う処理系９とを備えた。 （もっと読む）

【課題】光の反射効率が高く、製造プロセスが簡便な空間光変調素子を提供する。
【解決手段】空間光変調素子の製造方法であって、電極が形成された電極側基板を準備するステップと、電極との間の静電力により可動する可動部、可動部の動きに連れて傾斜する反射鏡および可動部を支持する支持部を有する可動側基板を準備するステップと、可動側基板の支持部を電極側基板に貼り合わせるステップとを備える製造方法が提供される。可動側基板を準備するステップは、基板本体を準備するステップと、基板本体の一面をエッチングすることにより可動部を形成するステップと、可動部上に反射鏡を成膜するステップと、基板本体に他面をエッチングすることにより支持部を形成するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】電気機械変換器の特性を長期間にわたって安定させる。
【解決手段】電極を有する基板と、基板に対して一端を固定されて弾性変形する基板側捩じり軸部と、基板側捩じり軸部の他端に支持され、静電力により電極に引き付けられて基板に対して揺動する可動部と可動部の一面と交差する面を有して可動部と一体的に配され、可動部に対する曲げ応力に対抗する構造材とを備える。上記電気機械変換器において、捩じり軸部は、可動部と一体をなしてもよい。また、上記電気機械変換器において、捩じり軸部の他端に支持され、静電力により基板上の電極に引き付けられて基板に対して揺動する枠体と、一端を枠体に固定され、他端において可動部を支持する枠側捩じり軸部とを更に備え、可動部は、枠体に対しても揺動してもよい。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の特性を長期間にわたって安定させる。
【解決手段】基板と、基板に対して揺動する反射鏡とを備えた空間光変調器であって、反射鏡は、反射膜材料により形成された一対の反射膜材料層と、非反射膜材料により形成され、一対の反射膜材料層に挟まれた非反射膜材料層とを含む積層体を有し、一対の反射膜材料層の一方が反射鏡の反射面となる。反射膜材料はアルミニウムであり、非反射膜材料は窒化珪素であってもよい。また、反射膜材料層の一方は、反射面を被覆する気密且つ透明な保護層を更に有してもよい。 （もっと読む）

【課題】露光量を低下させることなく、パターンの描画を高精細に行う。
【解決手段】光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）は、複数のミラーを直交する二方向に配列して構成されている。空間的光変調器を、光ビームによる基板の走査方向に対して傾けて配置し、かつ、空間的光変調器の複数のミラーを、直交する二方向の内の走査方向に近い方向に、ミラーの数が異なる複数の区画に分割して使用する。駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）により、空間的光変調器の各区画のミラーを、区画毎に異なる周期で駆動し、ミラーの数が多い区画の駆動周期を、ミラーの数が少ない区画の駆動周期より短くする。ミラーの駆動周期が短い区画では、パターンの描画が高精細に行われる。露光時間と露光回数とを掛けた露光量は、区画により大きく変動しない。 （もっと読む）