【課題】典型的な２次元フォトニック結晶構造を有する光共振器において、Ｑ値等の性能が十分高い構造を実現する。
【解決手段】光共振器１００は、所定の穴径で一列に一定周期で並んだ結晶穴５を持つ１次元のフォトニック結晶２を利用する。フォトニック結晶部材の厚さを所定の範囲に設定する。光波回路・電子回路において層間分離膜や封止膜としての役割を果たす低屈折率のシリコン酸化膜３，４を使用して１次元フォトニック結晶共振器を埋め込み、必要十分なＱ値を確保できる。前記層間分離膜または封止膜を利用して、フォトニック結晶と光波回路または電子回路とを集積化する。 （もっと読む）

【課題】テーパ構造のＣ型開口を有する９０°に曲がっている金属導波路、導波路の製造方法、導波路を利用した光伝送モジュール及び導波路を採用したＨＡＭＲ（熱補助磁気記録）ヘッドを提供する。
【解決手段】光を伝送する開口１１３が内部に形成された導電性金属からなる金属導波路１１１において、開口は、入力端１１１ａと出力端１１１ｂとの間で光の進行方向を変えるように曲がっている構造を有し、曲がっている部分と出力端との間で出力端側に幅が次第に狭くなるテーパ構造を有し、開口を形成する金属の内面にリッジ部１１４が突出して形成されることによって、開口がＣ型の形状を有する金属導波路である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、回路規模を大きくせず回路設計製造を難しくせず、光がスラブ導波路からアレイ導波路に向けて入射するとき、または、光がアレイ導波路からスラブ導波路に向けて入射するときに、挿入損失を低減することができる技術を提供する。
【解決手段】本発明は、光伝搬の方向と略平行な方向に間隔を置いて配置された、伝搬される光を回折させる複数の位相格子ＧＰ１、及び光伝搬の方向と略平行な方向に複数の位相格子ＧＰ１と交互に配置された、複数の位相格子ＧＰ１において回折された光を干渉させる複数の干渉領域ＩＦを有するスラブ導波路１と、複数の位相格子ＧＰ１が一体の位相格子として形成する自己像の明干渉部分の位置でかつスラブ導波路１の端部に、端部が接続されるアレイ導波路２と、を備えることを特徴とする光導波路である。 （もっと読む）

【課題】斜め光導波路を有する光導波路部にＡｌ及びＡｓを含む半導体層を含む素子部がバットジョイントされた光半導体集積素子を製造する場合の歩留まりを良くする。
【解決手段】半導体基板の上方に斜め光導波路５４を形成するための第１半導体積層構造を成長させる工程と、第１半導体積層構造上にバットジョイント成長用マスク１３を形成する工程と、マスク１３をエッチングマスクとして用いて第１半導体積層構造を除去する工程と、マスク１３を用いてＡｌ及びＡｓを含む第２半導体層を含む第２半導体積層構造をバットジョイント成長させる工程とを含む光半導体集積素子の製造方法において、マスク１３を、光伝播方向に対して平行な直線及び直交する直線のみによって規定される複数の矩形部分１３Ａ〜１３Ｇが斜め光導波路５４を形成する領域に沿って接合された平面形状を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】波長監視付きフィルタの透過波長を簡単に調整する方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による波長監視付きフィルタは、２つの入力と２つの出力を有するマッハツェンダー干渉計（ＭＺＩ）と、前記２つの出力に接続された２つのアレイ導波路回折格子（ＡＷＧ）とから構成される。２つの入力のうち、ＭＺＩの消光波長と、２つのＡＷＧの透過スペクトルとが一致する方の入力から光を入力し、２つのＡＷＧから出力される光の透過スペクトルの各々について、２つのピークがほぼ等しい高さになるように、ＭＺＩの干渉条件を調整する。これにより、他方の入力から入力した場合におけるＭＺＩの透過波長を、ＡＷＧの透過波長に簡易に調整することができる。 （もっと読む）

【課題】スポットサイズを変換する光導波路を用い、より効率的に光結合ができるようにする。
【解決手段】この光導波路は、第２コア１０３を、スポットサイズ変換領域１１２の開始端（導波領域１１１の側）にかけて先細りに形成したところに特徴がある。このように、第２コア１０３が、スポットサイズ変換領域１１２の開始端にかけて先細りに形成されているので、導波領域１１１かとスポットサイズ変換領域１１２との界面で生じる、導波光の反射および損失をより小さくすることができるようになる。この結果、より効率的に光結合ができるようになる。 （もっと読む）

【課題】充分に長い共振器長を確保できるとともに、作成が容易なこと。
【解決手段】基板１２の第１主面１２ａに形成されていて、光を第１主面に対して垂直に入出射する光共振器であって、第１〜第３光ユニットからなる群より選択された１種又は複数種の光ユニットＵ１を備える第１光回路ＬＣ１を備えていて、第１光回路に含まれる光ユニットの合計数が２個以上の場合には、一方の光ユニットに属するグレーティングＧと、他方の光ユニットに属するグレーティングとを平行に配置することを特徴とする光共振器。 （もっと読む）

【課題】温度が変化しても共振波長を一定に保つことが可能な光スイッチ装置を提供する。
【解決手段】交流電源５６は、光共振器の共振波長の元の共振波長からの波長シフトを検出するための交流電圧を電極４１を介して光共振器３に印加する。光検出器５１は、交流電圧が光共振器３に印加されたときの光導波路２の出力光の強度を検出する。交流アンプ５２は、光検出器５１から受けた出力光の強度を増幅する。同期検波回路５３は、交流アンプ５２によって増幅された出力光の強度を整流し、積分器５５は、整流された出力光の強度を積分し、その積分した積分値に相当する直流電圧を光共振器３に印加する。積分器５５は、光共振器３における波長シフトがなくなるまで直流電圧を繰返し印加し、波長シフトがなくなったときにキャパシタ５５２に蓄積された電荷によって生じる直流電圧を光共振器３に印加する。 （もっと読む）

【課題】波長の制御をより簡単にし、かつ、従来技術よりも、より小型な光共振器及び波長可変レーザを提供すること。
【解決手段】第１、第２及び第３光導波路１２，１４及び１６が交差点Ｐで接続されたＹ分岐光導波路１８を用いた光共振器１０であって、第１光導波路の終端部１２ａに高反射膜２４が設けられていて、第２及び第３光導波路の双方又はいずれか一方に、波長選択手段１９，２０及び２１を備えており、第２光導波路及び第３光導波路の終端部１４ａ及び１６ａの間を光結合可能に接続する光結合導波路２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ細線光導波路に好適に応用することが可能であり、構造が簡単であるとともに作成が容易である。
【解決手段】
クラッドＣＬで周囲を囲まれた、クラッドよりも屈折率が大きなコアＣＯで構成された光導波路１４を備える。光導波路は、光共振部としての無終端の周回型光導波路１６と、周回型導波路に光を入出力する両端を有する入出力用光導波路１８とを備えていて、入出力用光導波路は、光周回型光導波路に一体的に結合している。 （もっと読む）

【課題】長周期グレーティングを有する導波路コアを備えた光導波路において、導波路コアの上面に長周期グレーティングを有する光導波路に伴う複雑な製造工程、複雑な構造などの問題を解決する。
【解決手段】第一のクラッド層１５と、前記第一のクラッド層１５上に形成された第一の導波路コア２０と、前記第一の導波路コア２０を覆うように形成された第二のクラッド層３５と、を備え、前記第一の導波路コア２０は、該第一の導波路コア２０の少なくとも一つの側壁２４に形成された第一の長周期グレーティング３０を有する光導波路１０を提供する。また、第一のクラッド層１５の表面上に第一の導波路コア２０を形成する工程と、前記第一のクラッド層１５の表面に対して垂直な長周期グレーティング３０を前記第一の導波路コア２０に形成する工程と、前記第一の導波路コア２０を覆うように前記第一のクラッド層１５上に第二のクラッド層３５を形成する工程と、を有する光導波路１０を形成する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】小型で、導波光損失が小さく、簡易に設計でき、かつ、接続点にオフセットのないＳ字型曲線光導波路を提供すること。
【解決手段】本発明に係るＳ字型曲線光導波路は、始点と終点とにおける接線方向が平行なＳ字型曲線光導波路であって、当該Ｓ字型曲線光導波路を構成する曲線が、１次関数と三角関数のべき乗の多項式との和で表されるものである。当該Ｓ字型曲線光導波路の前記接線方向の長さをＬ、前記接線に垂直な方向の長さをＤとした場合、前記曲線の曲率の絶対値の最大値が、４．５Ｄ／（Ｌ^２＋Ｄ^２）以上、６Ｄ／（Ｌ^２＋Ｄ^２）以下であり、前記曲率の前記接線方向の距離に対する変化率の絶対値の最大値が、４．５π^２Ｄ／Ｌ^３以上、９π^２Ｄ／Ｌ^３以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 複数の光束を感光材中で干渉させて干渉縞を生じさせることで３次元フォトニック結晶を製造するいわゆるホログラフィックリソグラフィー法において、簡易な構成の光学系を用いて短時間で大型のフォトニック結晶を製造する手段及びそれに使用する製造装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る３次元フォトニック結晶の製造方法は、３次元周期で光の屈折率が変化する３次元フォトニック結晶の製造方法において、照射された光強度に応じて屈折率が変化する感光材３に対し、相異なる３方向から２光束干渉露光を行うことにより、所定厚みの壁状の潜像１６が複数並設されてなる潜像群１７，１８，１９を３方向に向かってそれぞれ形成し、３つの潜像群１７，１８，１９が重なり合う部分とそれ以外の部分とで屈折率に差を生じさせることにより、感光材３に３次元周期の屈折率変化を形成するものである。 （もっと読む）

【課題】 放射モード光を出力できるホログラフィックな加工を施した導波路構造を有する発光デバイスにおいて、放射モード光を照明に使えるように光拡散板でコヒーレンシを抑制した発光デバイスを提供する。
【解決手段】 導波モード光３００を外部に取り出すホログラフィックな光学構造を有する平面導波路２００と、平面導波路２００が複数形成された透明シート２１０と、平面導波路２００の片端もしくは両端に配置されて平面導波路２００に光結合する発光体２０と、透明シート２１０の少なくとも一方の表面もしくは透明シート２１０の少なくとも一方の表面に近接して形成された光学拡散機能を有するシート５００、５０１とを有している。発光体２０は、発光体２０が光結合する平面導波路２００の片端もしくは両端に配置されているか、或いは発光体と平面導波路の端面との間に発光体からの光を導波する他の平面導波路が介在するように配置されている。 （もっと読む）

ピクセル領域を特徴づける少なくとも２つのカラーチャネルにそれぞれ相当する少なくとも２つのサブピクセル位置によってそれぞれ規定される複数のピクセル領域を有するパッシブディスプレイパネルに照明光をパッシブディスプレイパネルに与えるためのバックライト集成体であって、バックライト集成体は複数の導波路を含み、それらは１つ以上の基板において形成されかつ／または埋め込まれ、各ピクセル領域が少なくとも２つの導波路によって照明されるような方法で照明光を各サブピクセル位置に与えるように配置され、前記少なくとも２つの導波路の各導波路はそれぞれのカラーチャネルによって前記ピクセル領域の１つのサブピクセル位置を照明するように配置される。 （もっと読む）

本発明によれば、多孔性シリコン、シリカ、又はアルミナ基板の孔に屈折率ｎが電圧依存性を有する材料を堆積させる方法であって、堆積される前記材料の前駆体物質を前駆体溶液として設けること、前駆体溶液の液滴の微細ミストを形成すること、及び、前記液滴を前記多孔性基板に付着させること、を含む方法が提供される。本発明は初めて、充填率が少なくとも６０％である多孔性シリコン、シリカ、及びアルミナ基板を提供するものである。１００％近い充填率が実現可能である。上部電極及び下部電極が設けられると、充填された多孔性シリコン、シリカ、及びアルミナウェーハを電圧依存性を有するフォトニックデバイスとして使用することができる。例えばランダムアクセスメモリ等のマイクロ電子デバイスの製造において使用するべく、シリコン基板表面の溝を内張りするために、同じ方法を用いることができる。
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【課題】偏波依存性を小さくした石英系光導波路部品を提供する。
【解決手段】フィルム状石英系光導波路部品は、石英系材料で形成されたコアと、該コアを収容する石英系材料で形成されたクラッド層とを備え、前記クラッド層は、平板状である。また、石英系光導波路部品は、基板と、前記フィルム状石英系光導波路部品と、前記基板と前記フィルム状石英系光導波路部品の少なくとも一部とを接着する接着層とを備える。さらに、前記接着層は、前記石英系光導波路部品の前記コアと、該コアと対向する前記基板との間に中空部分を備えてもよい。 （もっと読む）