【課題】本発明の目的は、電気配線パターンに起因する応力による不要なＴＥ／ＴＭ偏光間結合を抑制し、良好な光学特性を有する導波路型光回路を提供することである。
【解決手段】本発明の導波路型光回路は、導波路近傍に電気配線を備える導波路型光回路において、導波路近傍の前記電気配線を前記導波路に対して対称の配線パターンとすることを特徴とする。これにより、導波路コア付近の応力の主軸方向を水平とし、複屈折主軸を導波路に垂直な投影面（ＸＹ投影面）内において傾斜させず、不要なＴＥ／ＴＭ偏光間の結合を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】小型・集積化しても伝送速度の低下しないＭＭＩ型光デバイスを提供する。
【解決手段】矩形マルチモード導波路１と、矩形マルチモード導波路１の入力縁部の幅方向に各接続部が並ぶように並列して接続された複数のシングルモード導波路２とを備える。そして、矩形マルチモード導波路１の光路の少なくとも片側の側面に、矩形マルチモード導波路１のコア１４から所定の間隔Ｈをおいて配置される、光源波長の電磁波吸収体１１を備える。 （もっと読む）

【課題】光による導波路層に含まれる有機電気光学材料の劣化を抑制すると共に、高い駆動特性を有し、信頼性の高い導波路デバイスを提供すること。
【解決手段】基板２０１上に、第１電極（下部電極２０２）、第１クラッド層（下部クラッド層２０３）、導波路２０４、第２クラッド層（上部クラッド層２０５）、及び第２電極（上部電極２０６）が順次積層され、少なくとも第２クラッド層２０５が、共役構造を有する有機化合物を含有して構成されていることを特徴とする導波路デバイスである。 （もっと読む）

【課題】ワイヤボンディングによる光導波路の損傷が回避される光導波路素子を提供する。
【解決手段】有機非線形光学材料を含む光導波路と、光導波路の一方の面側に配される第1電極と、光導波路の他方の面側に配される第２電極と、第２電極上に積層された保護部材であって、該第２電極に近い側の第1面に設けられ且つ該第２電極に接続された第３電極、該第２電極に遠い側の第２面に設けられた第４電極、及び該第1面と該第２面とを貫通すると共に前記第３電極と前記第４電極とを電気的に導通する導通部を有する保護部材と、を備えたことを特徴とする光導波路素子。 （もっと読む）

【課題】ＭＭＩカプラを、波長依存性及び偏光依存性が低く、十分な光出力が得られ、作製トレランスが大きく、コンパクトで、多チャネル化への応用性に優れたものとする。
【解決手段】半導体素子２０を、一端に入力導波路１が接続され、他端に出力導波路２が接続された多モード干渉導波路３を備えるものとし、多モード干渉導波路を、これを構成するメサ構造３Ａの側面に接する領域に対する屈折率差が所定値以下の低屈折率差構造（ＬＩＣ）にし、入力導波路１及び出力導波路２を、これらを構成するメサ構造１Ａ，２Ａの側面に接する領域に対する屈折率差が所定値以下の低屈折率差構造部１Ｂ，２Ｂと、これらを構成するメサ構造の側面に接する領域に対する屈折率差が所定値よりも大きい高屈折率差構造部１Ｃ，２Ｃとを備えるものとし、高屈折率差構造部を、低屈折率差構造部との境界で低屈折率差構造部よりも幅が広くなるようにする。 （もっと読む）

【課題】放電や静電破壊を抑制しつつより高い電圧でポーリング処理を行うことが可能であり、より高い有機非線形光学材料の電気光学効果が引き出された光導波路素子、光導波路素子のポーリング処理方法を提供すること。および簡易な構成でＤＣドリフトの発生を抑制可能な光導波路素子を提供すること。
【解決手段】例えば、基板１０上に、下部電極１２（第１の電極）、下部クラッド層１４（第１のクラッド層）、光導波路層１６（光導波路１７）、上部クラッド層１８（第２のクラッド層）、上部電極２０（第２の電極）、及び保護層２２が順に積層されて構成させ、保護層２２に上部電極２０の少なくとも一部を露出する開口２２Ａを設ける。そして、当該開口２２Ａから露出する上部電極２０に対し電圧印加手段の端子を電気的に接続し、当該上部電極２０に電圧を印加してポーリング処理を施す。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成でＤＣドリフトの発生を抑制可能な導波路装置及び導波路素子の駆動方法を提供する。
【解決手段】導波路素子１２が、基板２７上に、下部電極１３、下部クラッド層２１、導波路層１６、上部クラッド層１８、及び複数対の上部電極からなる上部電極群２０と、が順に積層されて構成されており、この上部電極群２０が、下部電極１３に対応する複数対の上部電極からなり、電圧印加部１４は、この上部電極群２０の各対をなす上部電極に対して値が同一で且つ逆極性の電圧を所定時間印加する。 （もっと読む）

【課題】 通常の光合分岐回路は、光を完全に合分岐させる機能として働くため、複数に並行に並べた光導波路において、高い光気相分布率を与える光フィールドを提供するものではなかった。
【解決手段】 合分岐光導波路と、光分布整合領域とが接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】広範囲にわたる均質なポーリング処理とデバイス表面の平滑化の両立が図られた導波路デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板２０１上に、第１電極（下部電極２０２）、第１クラッド層（下部クラッド層２０３）、導波路２０４、第２クラッド層（上部クラッド層２０５）、及び第２電極（上部電極２０６）を順次積層し、さらに有機導電層２０７を形成して、下部電極２０２と有機導電層２０７との間に電場を印加し、当該電場印加領域における導波路２０４に含まれる前記有機非線型光学材料の配向を揃える、所謂ポーリング処理を施す。 （もっと読む）

【課題】マルチモード干渉導波路を用いてＮ出力される光の相対位相を固定することにより効果的に光の漏れを抑制し、高い光出力を実現する。
【解決手段】半導体レーザー１は、１×３型マルチモード干渉導波路１０２と、マルチモード干渉導波路１０２の一方の端部に設けられ、光を導波する１本の光導波路１０１と、マルチモード干渉導波路１０２の他方の端部に設けられ、レーザー光を導波させる３本の光導波路（直線導波路１０８及び曲線導波路１０７）と、を備える。１本の直線導波路１０８及び２本の曲線導波路１０７の一部が、各前方端面１０５において光の位相を整合させるように光位相整合領域１０３を構成し、後方端面１０６と前方端面１０５との間で共振器が形成されている。 （もっと読む）

【課題】光カプラ部を備え、半絶縁性半導体埋込層による埋込構造を持つ光集積素子において、埋込層の平坦性を確保しながら、光カプラ部で生じる放射光が出力側で信号光に混入する現象を抑えることができるようにする。
【解決手段】光集積素子を、半導体基板５上に形成され、複数の第１チャネル光導波路部１と、光カプラ部２と、一の第２チャネル光導波路部３とを備える光導波路構造４と、半絶縁性半導体材料からなり、上部が平坦面になり、側部が半導体基板に対して所定の角度を有する傾斜面になるように光導波路構造４を埋め込む埋込層９と、光カプラ部２からの放射光が第２チャネル光導波路部３を伝播する信号光から空間的に分離されるように、光カプラ部２の少なくとも出射側近傍に所望の領域にわたって設けられた複数のダミー構造体１０とを備えるものとし、複数のダミー構造体１０を、埋込層９によって平坦に埋め込まれるように離散的に設ける。 （もっと読む）

【課題】 制御が容易であって、出力する光の波長を変更可能な半導体発光素子及び半導体光源装置を提供する。
【解決手段】 半導体発光素子１１Ａは、出力端部４７から出力される光の波長を変更可能な半導体発光素子であって、キャリヤが注入されることで光を発生可能な半導体層５７ａを有する発光ダイオード部１３と、発光ダイオード部から出力される光から所定の波長λｒの光を選択して出力端部４７側に出力すると共に、所定の波長を変更可能な波長可変フィルタ部１５と、発光ダイオード部及び波長可変フィルタ部を設ける基板Ｓと、を備え、出力端部は、波長可変フィルタ部から出力される光の反射を抑制する低反射膜Ｒ１を有しており、波長可変フィルタ部は、光路長が互いに異なっており光学的に結合された複数のリング状導波路２９，３１と、複数のリング状導波路の少なくとも一つに信号を印加するための電極２５，２７と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 より狭いチャネル間隔及びより高速な変調速度に対するシステム需要を満たすことができるように、超広帯域の、低リップルの、フラットトップ形の、合波ＡＷＧ装置をデザインする方法が望まれる。
【解決手段】 ＡＷＧユニットと、ＡＷＧユニットに結合された２つの部分からなる導波路とを含むアレイ導波路格子型（ＡＷＧ）光合波器を提供する。ＡＷＧユニットは、アレイ導波路格子領域を有する。２つの部分からなる導波路は、双峰状のフィールドプロフィールを有する信号を生成する第１の部分を有し、第１の部分から出力される双峰状のフィールドプロフィールを有する信号の位相変化を低減する第２の部分を有する。第１の部分は、第１の入力端及び第１の出力端を有し、第２の部分は、第１の出力端に結合された第２の入力端を有する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧に対する変調効率を改善させる。
【解決手段】電気光学効果を有する基板２と、基板２に形成された１本の光導波路３と、光導波路３にクロック信号に同期した位相変調を行なうための電界を供給するための電極部５，６と、光導波路３の下流側に連結され光学長が互いに異なる２つの分岐導波路４ｂ−１，４ｂ−２を有するマッハツェンダ干渉計４と、をそなえる。 （もっと読む）

【課題】より小型化された光分岐回路を低コストで提供すること。
【解決手段】光分岐回路５００は、基板５１５の上の入力用光導波路５０１と、入力用光導波路５０１を、第１の光導波路５０１Ａおよび第２の光導波路５０１Ｂに分岐する前段の光分岐素子５０２と、第１の光導波路５０１Ａを端面５１５Ａにおいて折り返す屈折率分布型レンズ５０３および反射板５０４と、第２の光導波路５０１Ｂを端面５１５Ａにおいて折り返す屈折率分布型レンズ５０５および反射板５０６と、折り返された第１の光導波路を８本の出力用光導波路５１３に分岐する複数の光分岐素子５０７、５０８、５０９、５１０、５１１および５１２とを備える。入力用光導波路５０１および８本の出力用光導波路５１３は、端面５１５Ａに対向する端面５１５Ｂに集約されて、複数の光ファイバ５２０と結合されている。 （もっと読む）

【課題】 光フィルタの配置の厳密さを緩和すると共に、入出力ポートと反射部材とを平行に配置したときの短尺化を可能にする光反射器及び光システムを提供する。
【解決手段】 本発明による光反射器は、基板の上に形成され、光が入射及び出射する入出射端面(16)と、所定の波長の光を反射する反射部材(12)が設置される反射端面(18)を有する単一のマルチモード光導波路(2)と、入出射端面(16)内においてマルチモード光導波路(2)に接続された第１の光入出力手段(4,6)及び第２の光入出力手段(8,10)を有する。第１の光入出力手段(4)の第１の軸線(4d)及び第１の光入出力手段(8)の第２の軸線(8d)の入出射端面(16)における接線(4e,8e)は、互いに平行か、又は、反射端面(18)を越えてから交差する。 （もっと読む）

【課題】 双安定素子、特に半導体双安定レーザーには、（１）安定した動作条件が得られにくい、（２）小型化が難しい、という課題があった。
【解決手段】 基板上に、多モード干渉光導波路と、前記多モード干渉光導波路の前後に、前記多モード干渉光導波路より幅の細い第一の光導波路と、前記多モード干渉光導波路より幅の細い第二の光導波路と、前記多モード干渉光導波路より幅の細い第三の光導波路とが接続され、前記第一の光導波路が、１次モード許容導波路であることを特徴とし、前記第二の光導波路において、０次モードと１次モードとが定在波として存在できることを特徴とする双安定素子。 （もっと読む）

【課題】全長を短く保ったまま、許容できる幅誤差を大きくすることができるマルチモード干渉光カプラ。
【解決手段】第１入出力光導波路１１０、１２０と、相隣接する少なくとも２つの第２入出力光導波路１４０、１５０と、第１入出力光導波路１１０、１２０と第２入出力光導波路１４０、１５０との間に設けられマルチモード導波光を伝搬するマルチモード光導波路１３０と、を有するマルチモード干渉光カプラ１００を提供する。このマルチモード干渉光カプラ１００が有するマルチモード光導波路１３０は、第１入出力光導波路１１０、１２０が接続される第１マルチモード光導波路部１３１と、第２入出力光導波路１４０、１５０が接続され、マルチモード導波光の伝搬方向に垂直な方向の幅が第１マルチモード光導波路部１３１より狭い第２マルチモード光導波路部１３２と、から構成される。 （もっと読む）

【課題】出力パルス幅バラツキを低減した、マルチモード干渉を利用した波長多重光源を提供する。
【解決手段】波長の異なるＮ個（Ｎ≧２）の入力光３が入力するＮ個の入力端１６及び入力光３１〜３６をそれぞれ出力するＮ個の出力端１７を有する入力ユニット４と、出力端１７のそれぞれに接続され入力光３１〜３６を個別に誘導する入力導波路２１〜２６と、幅Ｗを有する入力縁部に入力導波路２１〜２６がそれぞれ幅方向に接続され、入力光３１〜３６が入力されて入力縁部の反対側の出力縁部の所定の１箇所に結合されるマルチモード導波路１と、マルチモード導波路１のその所定の１箇所に接続された出力導波路５とを備える。入力光３１〜３６がマルチモード導波路１に入力する各入力位置を、波長の大きさが隣り合う２つの入力光３１〜３６について、入力縁部の中心位置７から各入力位置までの距離ｘが同じ位置または波長の長い光の方が遠い位置に配置する。 （もっと読む）

【課題】優れた難燃性を有するフィルム状光導波路を、簡易な製造手段で効率的に製造することのできる方法を提供する。
【解決手段】本発明のフィルム状光導波路の製造方法は、基材２の表面に形成された第１の被覆層３の上面に、下部クラッド層７、コア部分１２及び上部クラッド層１７からなる複数の光導波路本体１８を、光導波路本体１８の相互間に空隙８を有するように適当な間隔で並列して形成する工程と、第１の被覆層３及び複数の光導波路本体１８の上面に、液状物を塗布し、乾燥及び／又は加熱して、空隙８にて第１の被覆層３との積層部分１９を有する第２の被覆層２１を形成する工程とを含む。 （もっと読む）