【課題】下部電極と上部電極との距離を可及的に小さく抑え、コア層に印加する電圧を効率良く十分に確保して消費電圧を低減させると共に、光導波路の光損失量を小さく抑える信頼性の高い光学素子を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１上に形成された電気光学材料からなる光導波路２とを備えて光偏向素子が構成されている。光導波路２は、下部クラッド層３と上部クラッド層５との間に光路が形成されるコア層４が挟持されて構成されている。下部及び上部クラッド層３，５は、導電性酸化物を材料として形成されており、コア層４に電圧を印加するための下部及び上部電極を兼ねている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも３つのスラブ光導波路部品を、より高精度かつ簡易に位置合わせして接合できるようにする。
【解決手段】少なくとも３つのスラブ光導波路部品１，２，３を備え、少なくとも３つのスラブ光導波路部品１，２，３のうち中間に位置する中間スラブ光導波路部品１が、一端側から入射される光を光検出器３０へ向けて出射させうる反射面２３Ａを有する位置合わせ用開口部２３を備え、位置合わせ用開口部２３に、一端側から光を入射させて他のスラブ光導波路部品３の位置合わせを行なえるように、一端側から入射された光を透過しうる材料が入れられている。 （もっと読む）

【課題】クラッド加熱時のヒーターの剥離や断線を抑制することができる光導波路基板を提供する。
【解決手段】光導波路基板１Ａは、光を導波するコア４と、このコア４を覆うクラッド３と、このクラッド３の表面に、コア４と略平行に延在するように設けられるヒーター６Ａとを備えている。ヒーター６Ａには、長手方向に沿って、クラッド３に接触する接触部６１と、クラッド３と空間６３を隔てて離間する離間部６２とが交互に凹凸状に設けられている。 （もっと読む）

【課題】簡単かつ確実に、複数の光導波路部品の接合面（レンズ面も含む）での反射による戻り光の影響を受けることがないようにする。
【解決手段】スラブ光導波路基板を、互いに平行に設けられる複数の入力チャネル光導波路４と、互いに光軸が平行になるように設けられる複数のコリメートレンズ５と、他の光導波路部品を実装するための複数の凹部６と、複数の凹部６の間に設けられるスラブ光導波路７と、互いに光軸が平行になるように設けられる複数の集光レンズ８と、互いに平行に設けられる複数の出力チャネル光導波路９とを備えるものとし、入力チャネル光導波路４の中心軸を、コリメートレンズ５の光軸に対して平行にオフセットさせる。 （もっと読む）

【課題】フォトニック結晶を用いて極めて簡素且つ微細な構成で透過波長の大きな変調を得る。
【解決手段】光学素子１０は、圧電材料からなる光導波路１と、光導波路１内に設けられたフォトニック結晶構造２と、光導波路１の上下面を挟持するように設けられてなり、光導波路１に電圧を印加する一対の制御電極３，４と、下部の制御電極４の両端に設けられた支持部５とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】 フォトニックバンドギャップの変化量を大きくすることが可能な光学素子を提供する。
【解決手段】 フォトニック結晶構造体（４、５）が、外部場により屈折率が変化する第１の媒質内に、外部場により屈折率が変化する第２の媒質が周期的に分布する構造を有する。このフォトニック結晶構造体に、外部場印加手段（２、９）が外部場を印加する。 （もっと読む）

【課題】 光導波路素子の下部クラッド層と導波路層間における剥離を抑え、切断の工程等でロットアウトしてしまう素子を減らすことができ、コストを削減することができる光導波路素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、下部クラッド層を形成する工程と、該下部クラッド層上に導波路層を形成する工程と、前記導波路層に光の伝搬を行う導波路部を形成する工程と、前記導波路層の上部に上部クラッド層を形成する工程と、光の入出力端面と、該入出力端面と交わる２面とが切断面となるように素子状に切断する工程と、を有する光導波路素子の製造方法であって、前記導波路層を形成後、導波路部を形成するまでの間に、前記入出力端面と交わる予定切断面と前記導波路層とが交差する領域を含む導波路層の一部又は全部の領域を除去する工程を含むことを特徴とする光導波路素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】自己形成的に分岐を有する光導波路を形成する。
【解決手段】図示しないレーザ光源からレンズ３によりレーザ光２を集光して光ファイバ１の入射端１０に導く。ＬＰ₁₁モードが出射端１１から出射されるようにし、「双峰」型の光強度のピークが、水平方向に並ぶように配置した(1.A)。ゲル状の光硬化性樹脂５を被膜したスライドグラス４は水平方向に配置された(1.B)。光ファイバ１の出射端１１からＬＰ₁₁モードのレーザ光を出射させると、１本の直線状の硬化物６１が形成されていく(1.C)。これは、時間と共に、光ファイバ１の出射端１１から距離Ｌの位置に分岐部６２が形成され、２本の円柱状の硬化物６３ａ及び６３ｂとなって成長が続いた。２本の円柱状の硬化物６３ａ及び６３ｂは直線状の分岐で、それらの成す角度は約４度であった。このように硬化物６１、６２、６３ａ及び６３ｂから成る光導波路６０を形成した(1.D)。 （もっと読む）

【課題】 ｛１１１｝配向以外の結晶配向を有するコロイド結晶、膜状微粒子構造体および膜状周期構造体（インバース構造）を形成する際に、微視的に見ても、平坦な膜面構造を形成すること。
【解決手段】 表面に一定周期の凹凸形状を有する透明基板７１３，７１３ａに挟まれた空間に球形状単分散微粒子分散液を充填しコロイド結晶を形成する。分散媒を除去すると膜状微粒子構造体が得られる。該透明基板は、屈折率が同一の、平滑な表面を有する透明材質と表面に凹凸状に形成された透明材質からなる。透明基板の表面の一定周期の凹凸形状は規則配列した柱状の突起からなり、該柱状の突起は、別基板の表面に規則配列した柱状の突起を形成した後、該突起を透明基板に転写することにより形成される。微粒子間に異なる材質を充填、固化した後に、微粒子を除去することによって膜状周期構造体が得られる。 （もっと読む）

【課題】透明性を維持したままＣＴＥを低減して温度サイクル性等の信頼性が向上した、光伝送に用いられる光導波路の形成や受発光素子用封止材として好適に用いられるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、カチオン重合開始剤、水酸基を有するエポキシ化ポリブタジエン、無機フィラーを含有する。無機フィラーは、樹脂硬化物との屈折率差が０．０１以下で且つ平均粒子径０．５μｍ以下である。水酸基を有するエポキシ化ポリブタジエンはカチオン硬化系における連鎖移動効果を有し、重合速度を著しく高めることができる上に、硬化物の吸湿性や耐熱性を悪化させにくくなり、更に、透明性を維持できる。また、無機フィラーにより硬化物の透明性を阻害することなく線膨張係数を低減できる。このエポキシ樹脂は、エポキシ樹脂フィルム１、光導波路、光・電気混載配線基板の作製や、電子デバイスにおける封止材として好適に使用できる。 （もっと読む）

【課題】 簡便に作製することがで、光ファイバなど他の光学デバイスと少ない結合損失で結合可能な導波路デバイスを提供する。
【解決手段】 基板上に、少なくとも、下部クラッド層と、光導波路コアと、上部クラッド層とを有する導波路デバイスにおいて、前記光導波路のコア端面の中心、又は前記光導波路のコア端面を中心として前記下部クラッド層と前記上部クラッド層を含む端面の中心に向かう凹面となるように凹面状加工を施したことを特徴とする導波路デバイス、及び該導波路デバイスと、光ファイバとを結合してなる導波路モジュールであって、前記導波路デバイスの端面と光ファイバの端面との距離が、３〜１５μｍであり、かつ前記導波路デバイスの光導波路コアにおける実効屈折率（ｎ₁）の前記導波路デバイスと光ファイバとの間隙における屈折率（ｎ₂）に対する比（ｎ₁／ｎ₂）が１．００５以上であることを特徴とする導波路モジュールである。 （もっと読む）

【課題】ニオブ酸リチウムはドライエッチング加工が困難であり、ニオブ酸リチウム基板上に簡便にリッジ型光導波路を作製する方法は確立されていなかった。本発明では上記問題点を鑑見て、ニオブ酸リチウムを薄膜化して作製したリッジ型導波路を有する光学素子を生産性良く作製する方法を提案する。
【解決手段】基板５上に光導波路に対応する開口部７を有する第１の金属膜６を形成し、更にニオブ酸リチウム薄膜８・９をスパッタリング法で形成する。次に、第１の金属膜６上に形成された部分の薄膜９のみを溶液エッチングにより選択的に取り除き、前記電気光学効果を有する材料からなるリッジ構造４からなる光導波路を形成する。その後、光導波路上に緩衝膜と第２の金属膜を形成して光学素子６を製造する。エッチング溶液としてはフッ酸溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】 光学素子を光導波路基板に精度良くかつ簡易に実装する。
【解決手段】 ビア電極７ａ，７ｂを形成した共通基板７に入力側光偏向素子８および出力側光偏向素子９をＮｂ−ＳＴＯ基板８ａ，９ａ側で接合し、ＰＬＺＴ膜８ｂ，９ｂ側に同時に電極１２，１３を一括形成する。その後、共通基板７に接合された入力側光偏向素子８および出力側光偏向素子９を、それぞれの電極１２，１３が溝６ａ，６ｂの底に形成されている電極配線１０，１１に電気的に接続されるよう、光導波路基板６に実装する。共通基板７を用いることで、入力側光偏向素子８と出力側光偏向素子９の平面方向の位置関係が確保されるため、光導波路基板への実装時に位置合わせを行うべき軸の数を減らすことができ、精度良くかつ簡易に光スイッチモジュール１を形成することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 過剰損失が小さく再現性の良いＹ分岐回路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＹ分岐回路は、下部クラッド(10)、下部クラッド上に形成された、主コア(13)と主コアにコア接続された２本の分岐コア(14,15)とからなる回路コア(16)、および回路コアを埋め込む上部クラッド(11)を備える。主コアと２本の分岐コアとは間隔(18)を有して接続される。２本の分岐コアは、高さに対する幅の比が５０％から１５０％であって、主コア側の端部において、下部クラッド側よりも上部クラッド側が狭い隙間(17)を有する。２本の分岐コア間の隙間は、上部クラッドで回路コアを覆う行程で、上部クラッド側が狭くなるように変形される。軟化温度がコアの軟化温度より１００から２５０℃低く、コアの軟化温度より５０から２００℃高い温度で処理される。 （もっと読む）

【課題】 加熱空気の熱膨張による弊害を防ぐことができる光導波路モジュールを提供する。
【解決手段】 光を導波するコア２３を保持するクラッド２２が基板２１の表面に形成され、前記クラッド２２の基板２１と反対側の面２２ｂには前記コア２３で導波される光の伝播を制御するためのヒーター２４が設けられた光導波路板２と、この光導波路板２のクラッド２２側に接合される封止ブロック３Ａと、前記光導波路板２の両端面２ａに接合される光ファイバアレイ４とを備えた光導波路モジュール１であって、前記コア２３が延在する方向の前記封止ブロック３Ａの両端部を、前記コア２３が延在する方向の前記光導波路板２の両端部に一致させるとともに、当該封止ブロック３Ａに、前記ヒーター２４の周辺の空間を外部に開放する溝部３１を設けた。 （もっと読む）

【課題】 高分子系光導波路材料の耐熱性、透明性を維持したまま屈折率と熱光学係数を制御することのできる光学材料を提供すること。
【解決手段】 本発明の高分子−無機ハイブリッド光学材料は、金属酸化物が、高分子マトリクス中に分散されてなる。本発明の高分子−無機ハイブリッド光学材料は、透明性を維持しつつ、屈折率及び熱光学係数を制御することのできるものであり、光学素子、光学デバイス、光導波路等を製造するための材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】光導波路、特に光導波路クロスオーバに関する技術を提供する。
【解決手段】垂直方向のような面外の導波路を使用して光損失又はクロストークが非常に小さいか又は基本的にない状態であらゆる数の導波路に架橋する改良型低損失導波路クロスオーバ。改良型導波路クロスオーバを有する導波路システム内を伝送される光信号は、横断導波路を包含する平面とは異なる第２の平面内に置かれた第２の導波路（ブリッジなど）を使用することにより、信号強度の損失が大幅に少ない状態で１つ又は複数の横断導波路をクロスオーバすることができる。入力導波路からの光信号は、方向性結合を通じてブリッジ導波路に及び任意的にブリッジ導波路から出力導波路に効率的に結合される。改良型導波路クロスオーバを組み立てる方法も説明される。
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電流を流すことによって白熱させることが可能な光源のフォトニック結晶又はエミッタ10のような、ナノ構造コンポーネントを作る工程において、陽極酸化された多孔質アルミナからなる少なくとも一つの層1が、コンポーネント10の少なくとも一部を構成するために電気防食用要素として使用される。
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【課題】体積分率が通常よりも低いインバースオパール構造（ほぼ球状の空隙からなる周期構造）を有する周期性構造物を作製し、また、構成する物質間の屈折率差を大きくする。
【解決手段】ほぼ球状の形状が連結することにより形成される周期構造２、もしくはその反転構造によりなる周期性構造物２において、ほぼ球状の形状から成る箇所の、その反転箇所に対する体積分率が74％より大きいものとする。また、そのような周期性構造物２において、ほぼ球状の形状は空隙からなるか、あるいは、球状の形状はシリカ微粒子からなる。一方、球状の形状以外の反転箇所はポリマーからなるか、あるいは、半導体もしくは金属からなる。それ以外の物質であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 ＥＯ効果の効率が高く、駆動電圧を低減することができる垂直積層型導波路デバイス及びそのポーリング方法、駆動方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、底部電極と、底部クラッド層と、底部コア層と、下部クラッド層と、中間電極と、上部クラッド層と、上部コア層と、最上部クラッド層と、上部電極とがこの順に積層してなり、前記底部クラッド層、前記下部クラッド層、前記上部クラッド層、及び前記最上部クラッド層の屈折率がいずれも前記底部コア層及び前記上部コア層の屈折率以下であり、前記下部クラッド層及び前記上部クラッド層の厚みが、前記底部コア層と前記上部コア層とが接触しないように設定されていることを特徴とする垂直積層型導波路デバイスである。 （もっと読む）