【課題】 電磁ノイズ放射の抑制を可能としたフレキシブル光電配線モジュールを提供することである。
【解決手段】 フレキシブル光電配線モジュールあって、光配線路１２と電気配線１１を有する可撓性のフレキシブル光電配線板１０と、フレキシブル光電配線板１０の一主面上に搭載され、電気配線１１に電気的に接続され、光配線路１２に光結合された光半導体素子１３と、フレキシブル光電配線板１０の一主面と反対側の面に搭載され、電気配線１１に電気的に接続され、光半導体素子１３を駆動する駆動ＩＣ１４と、フレキシブル光電配線板１０を貫通して設けられ、光半導体素子１３と駆動ＩＣ１４を電気的に接続する貫通配線１５とを具備した。 （もっと読む）

【課題】
電気光学効果を有し、厚みが１０μｍ以下の薄板を利用し、補強基板に接着した場合でも、薄板や補強版の破損を抑制し、さらには微小なクラックによる光損失などの性能劣化も抑制した、光導波路素子を提供すること。
【解決手段】
電気光学効果を有し、厚みが１０μｍ以下の薄板１と、該薄板には光導波路２が形成されており、該薄板に接着層５を介して接着された補強基板６とを有する光導波路素子において、該補強基板６の該薄板側の表面には、凹凸構造が形成され、該補強基板は、該凹凸構造が形成された後であり、かつ該薄板に接着する前に、キュリー温度以下の高温で熱処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】材料を無駄にすることなく、希土類化合物を用いた光素子が製造できるようにする。
【解決手段】エルビウムの酸化物よりなる希土類含有層１０５をスパッタ法などの物理蒸着法により、基板を加熱することなく形成し、例えば１０００℃に加熱することで、希土類含有層１０５を溝部１０４に凝集させ、酸化エルビウムの結晶からなる希土類コア部１０６を形成する。希土類の酸化物は、加熱することで、下地に形成されている凹部に凝集する。また、この加熱により、アモルファス状態の酸化エルビウムが結晶化するので、希土類コア部１０６は、酸化エルビウムの結晶から構成されたものとなる。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉベースのフォトニクスプラットフォーム上で、フォトニックデバイス、Ｇｅ導波路一体型光検出器、およびハイブリッドＩＩＩ−Ｖ／Ｓｉレーザの共集積化のための方法を提供する。
【解決手段】パターン化したＳｉ導波路構造を含むＳｉデバイスを備えたＳｉベースのフォトニクス基板を用意する工程、誘電体層、例えば、ＳｉＯ_２層を、平坦化したＳｉベースのフォトニクス基板の上部に堆積する工程、適切なエッチング深さで溝を誘電体層にエッチング形成して、フォトニクス基板のパターン化したＳｉ導波路構造を露出させる工程、露出した導波路を選択エッチングして、Ｇｅ成長用のテンプレートを作成し、薄いＳｉ層をＧｅ成長用のシード層として残す工程、意図的なＧｅ過成長を伴って、シード層からＧｅを選択成長させる工程、Ｇｅ表面を平坦化し、１００ｎｍ〜５００ｎｍの減少した厚さを持つＧｅ層を残す工程を含む。 （もっと読む）

【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、寸法安定性の良い硬い基板によらずとも光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に、光ファイバを固定するための光ファイバ導入溝を有する光ファイバガイド用コアパターン５から構成される光ファイバガイド部材１０と、光信号伝達用コアパターン４とその上に形成された上部クラッド層６とから構成される光導波路２０とが並設され、前記光ファイバガイド用コアパターン５と前記光信号伝達用コアパターン４とが、基板の一方表面上に形成された同一の下部クラッド層３上に形成され、かつ前記光ファイバガイド部材１０の光ファイバ導入溝に固定された光ファイバと、前記光導波路の光信号伝達用コアパターン４とが、光信号を送受可能な位置に接合されてなる。 （もっと読む）

【課題】本発明の光導波路フィルムは、光導波路フィルムの歪・応力に起因する光伝播損失変動を低減化することを目的とするものである。
【解決手段】上記課題を解決するために本発明の光導波路フィルムは、光導波路を平面に配列させたアレイ状光導波路において、コア部分とその周囲を囲むクラッド部分の領域を含む光導波路構造部分より、その光導波路間の間隙が低弾性強度の構造である応力緩和層をサンドイッチした構造を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光導波路ユニットのコアと基板ユニットの光学素子との調芯作業が不要となるとともに、突起部の厚みが５０μｍ未満であっても、調芯精度を悪化させることがない光センサモジュールの製法およびそれによって得られた光センサモジュールを提供する。
【解決手段】垂直壁高さ５０μｍ未満の突起部４および溝部３ｂを有する光導波路部分Ｗ₂ と、突起部４に位置決めされる位置決め板部５ａの位置決め用部材Ｐおよび溝部３ｂに嵌合する嵌合板部５ｂを有する基板部分Ｅ₂ とを、個別に作製し、突起部４の垂直壁に位置決め用部材Ｐの角部を位置決めし、溝部３ｂに嵌合板部５ａを嵌合し一体化する。ここで、突起部４は、コア２の光送受用端面２ａに対して適正位置に形成されている。また、位置決め用部材Ｐは、光学素子８に対して適正位置に形成されている。このため、コアの光送受用端面２ａと光学素子８とは、自動的に調芯される。 （もっと読む）

【課題】 光電変換素子から伝達される熱による影響を低減させた光伝送基板および光モジュールを提供する光伝送基板を提供する。
【解決手段】 光伝送基板は、基板と、前記基板上に設けられた金属層と、前記基板上に設けられた光導波路と、上方に光電変換素子を設けて前記光導波路と光学的に結合させるための金属反射部であって、前記光導波路の光軸に対して傾斜した光反射面を有し、前記金属層と接して前記基板の上方に設けられた金属反射部と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】植物を効率的に育成可能な導光フィルム及び該導光フィルムを用いた植物育成方法を提供すること。
【解決手段】本発明の導光フィルムは、光源からの入射光を入光させる光入射部と、前記入射光を吸収して植物の成長に利用可能な波長を有する光に波長変換させる波長変換部と、前記波長変換された光を出射させる光出射部と、を有することとする。前記波長変換部が吸収する光のピーク波長をλ_１（ｎｍ）とし、波長変換された光のピーク波長をλ_２（ｎｍ）としたとき、λ_１＜λ_２の関係を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 クラッドに入射した光によるコアへの入射を低減させる光伝送基板および光モジュールを提供する。
【解決手段】 光電気配線基板は、基板と、前記基板上に設けられ、上面に第１の凹凸部を有する下部導体層と、前記下部導体層上の前記第１の凹凸部上に設けられ、下部クラッドとコアと上部クラッドとから構成される光導波路と、前記光導波路に設けられ、前記第１の凹凸部とともに前記光導波路を挟むように下面に第２の凹凸部を有する上部導体層と、前記下部クラッドおよび前記上部クラッドを貫通するように前記下部導体層から前記上部導体層まで連続して設けられた貫通電極と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】他の回路が集積されたバルク半導体基板に一体に集積可能な、光導波路及び光カップラを含む光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光導波路及びカップラ素子及びその製造方法は、バルク半導体基板、例えば、バルクシリコン基板からなる基板にトレンチを形成し、下部クラッド層をトレンチ内に形成し、コア領域を下部クラッド層上に形成して得られる。反射要素、例えば、分布ブラッグ反射器が、光カップラ及び／または光導波路の下部に形成されうる。このような光素子は、シリコンフォトニクス技術によって、チップまたは基板上に他の半導体回路、例えばＤＲＡＭメモリ回路チップ内に一体に集積されうる。 （もっと読む）

【課題】所定の角度をなす傾斜面を有する光導波路コアを備える光導波路を効率的に製造することができ、前記傾斜面に選択的に金属膜を形成させることができる光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１クラッド層１２上に形成されたコア部１３を埋設するように第２クラッド層１５を形成するクラッド層形成工程と、第２クラッド層１５に、第１クラッド層１２に対して略垂直な垂直面１７ａと、垂直面１７ａに対向し、第２クラッド層１５側から入射される光をコア部１３内に誘導等をするように、光を反射させるための傾斜面１７ｂとを有する凹部１７を形成する凹部形成工程と、凹部１７に金属層１８を形成する金属層形成工程と、垂直面１７ａに形成された金属層１８ａを選択的に除去することによって、少なくとも傾斜面１７ｂ上に金属層１８ｂを残存させる金属層除去工程とを備える光導波路の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】光導波路部分の形成を簡素化することが可能な光結合部材、及び光結合部材の製造方法を提供する。
【解決手段】基材本体１６の上面は、コア溝形成面１９として形成されている。コア溝形成面１９には、コア溝２０と一対の閉じ込め壁２１とコア樹脂滴下部２２と連結溝２３とが形成されている。コア樹脂滴下部２２及び連結溝２３は、コア溝２０における前側の溝端部２４の位置に配置形成されている。コア樹脂滴下部２２は、コア樹脂の充填開始部分として形成されている。コア樹脂滴下部２２は、コア溝２０の近傍に配置形成されている。連結溝２３は、コア樹脂滴下部２２とコア溝２０と連結するための溝として形成されており、コア樹脂滴下部２２からコア樹脂が流れ込むと、これをコア溝２０側へ流すことができるようになっている。 （もっと読む）

【課題】簡便に厚さを制御し得る光導波路の構造を提供することによって、特定部分の剛性や柔軟性に優れ、光損失の少ない光導波路、及び光電気複合配線板を提供する。
【解決手段】第１のクラッド層２、コアパターン６、及び第２のクラッド層７が順に積層された光導波路であって、光導波路の中間部における第２のクラッド層の厚さが、光導波路の少なくとも一方の端部における第２のクラッド層の厚さより厚いことを特徴とする光導波路、及び該光導波路を電気配線板に積層した光電気複合配線板である。 （もっと読む）

【課題】光導波路のコア層またはクラッド層の膜厚を任意に制御できる光導波路形成用樹脂フィルム、およびこれを用いた光導波路、その製造方法並びに光電気複合配線板を提供する。
【解決手段】同一フィルム内に厚さが異なる部分を有する光導波路形成用樹脂フィルム、該光導波路形成用樹脂フィルムを用いて作製してなる光導波路、及び光導波路の製造方法、並びに該光導波路を、電気配線板に複合化した光電気複合配線板である。 （もっと読む）

【課題】屈曲耐久性に優れ、光損失の少ないフレキシブル光導波路を提供する。
【解決手段】下部クラッド層２、コア層６、上部クラッド層７が順に積層されてなるフレキシブル光導波路であって、コア層６が中間部より端部が厚く、かつ厚い部分から薄い部分にかけて傾斜を有し、上部クラッド層７がコア層６の傾斜面上で傾斜を有し、コア層６の傾斜角度が、上部クラッド層７の傾斜角度よりも大きいことを特徴とするフレキシブル光導波路、並びに前記フレキシブル光導波路を、フレキシブル電気配線板と複合化した光電気複合配線板である。 （もっと読む）

【課題】耐屈曲耐久性に優れ、かつ光伝搬特性に優れた光導波路及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下部クラッド層２、コア部３、及び上部クラッド層４からなる光導波路１において、上部クラッド層４の幅が、少なくとも屈曲部においては下部クラッド層２の幅よりも小さく、端部においては下部クラッド層２の幅と同じか小さく、下部クラッド層２は、屈曲部の幅が端部の幅と同じか小さくする。屈曲部における上部クラッド層４の幅は、下部クラッド層２の幅に対して２０〜６０％である。 （もっと読む）

【課題】応力が加わった場合においても破損等のおそれがなく、溝の側面の形状が高精度で制御された光素子用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光素子用基板の製造方法は、ＬＮ基板１１の表面１１ａにマスク１４を形成し、次いで、サンドブラスト法により、マスク１４を用いてＬＮ基板１１の表面１１ａに、底面１２ａと側面１２ｂとの角部が０．５μｍ以上の曲率半径の凹面１３となった溝を形成し、次いで、フッ硝酸等を用いてマスク１４を除去する。 （もっと読む）

【課題】コアと導電線との位置精度が高い高分子光導波路を提供する。
【解決手段】高分子光導波路１０は、光が伝搬するコア１４ａ，１４ｂ，１４ｃと、前記コアを包囲し、かつ、該コアよりも屈折率が小さいクラッド１２，１６，３０と、前記クラッドのうち、少なくとも片面のクラッド上に設けられた導電線２０ａ，２０ｂとを有する。導電線は、前記クラッド上に予め設けられた導電層２０を分離する第１の溝２２によって形成され、前記コアの側面の一部は、前記第１の溝の一部に形成された第２の溝２４ａ，２４ｂによって形成されている。 （もっと読む）

【課題】接着層を用いることなく、基材と被着体との間に光の伝搬経路を形成するとともに、基材と被着体とを強固に接合し、光導波路として機能する接合体を容易に得ることができる光導波路の製造方法、および、薄型化が可能でかつ信頼性の高い光導波路を提供すること。
【解決手段】第１の基板２上にプラズマ重合法により接合膜３を成膜する工程と、接合膜３のうち、一部に線状に設定したコア部領域（第１の領域）３１０にプラズマ処理を施す工程と、接合膜３を介して第１の基板２と第２の基板４とを接合し、光導波路１を得る工程とを有する光導波路の製造方法であって、プラズマ処理によりコア部領域３１０の屈折率が上昇するため、コア部領域３１０とその周囲の領域（クラッド部領域３２０）との間で屈折率差が生じ、コア部領域３１０がコア部３１になる一方、クラッド部領域３２０が側方クラッド部３２となる。 （もっと読む）