【課題】 小型でありながら光強度の変調が可能であり、かつ第２高調波への変換効率が高い光強度変調素子を提供することを目的とする。
【解決手段】 非線形光学結晶からなる基板の主面に一方向への光導波路が形成されており、その光導波路において基板の厚み方向への分極構造が光導波路方向に周期的にかつ交互に逆極性に形成されている。そして、その光導波路には、入射された赤外光の一部を第２高調波に変換する第１、第２の波長変換部がそれぞれ形成され、さらに第１、第２の波長変換部の間に光導波路を挟んで対向配置された一対の電極を有する第１の位相調整部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 ダイオード・ポンプ・ソリッド・ステート・レーザ源（２２０、２２２、２２４）から２つ以上の波長のレーザ・ビームを供給するシステム、装置、および方法を提供する。
【解決手段】 異なる波長を有するこれらのレーザ・ビームは、レーザ源（２２０、２２２、２２４）によって発生され、そのビーム経路を、光学構成によって共通光軸２８０に沿ってそろえ、少なくとも１つの目標区域を処置することができる。複数のダイオード・ポンプ・ソリッド・ステート・レーザ空胴から出力される周波数倍増レーザ・ビームを、屈曲ミラー（Ｍ２、Ｍ５、Ｍ８）に通過させ、１つ以上のコンバイナ・ミラー（Ｍ１０、Ｍ１１、Ｍ１２）を用いて、共通光軸２８０上で結合し、ビーム経路を統一することができる。１つ以上の伝達システムを用いて、選択したレーザ・ビームを目標に伝達することができる。
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【課題】一台の顕微鏡でもって、一つの標本に対し、観察する目的に応じて、多光子励起蛍光観察、第二高調波観察、コヒーレントラマン散乱光観察の全てを並行して或いは選択的に行うことができる顕微鏡を提供する。
【解決手段】第一のパルスレーザ発生手段１と、第二のパルスレーザ発生手段２と、第一のパルス光と第二のパルス光を合成して標本４に照射可能な照射手段（符号省略）と、照射光を照射された標本４からの光から、コヒーレントラマン散乱光のみを抽出する抽出手段（符号省略）と、多光子励起蛍光のみを抽出する抽出手段６と、第二高調波のみを抽出する抽出手段７と、抽出されたコヒーレントラマン散乱光を検出する検出手段８と、抽出された蛍光を検出する検出手段９（又は１０）と、抽出手段７を介して抽出された第二高調波を検出する検出手段１０（又は９）とを有する。 （もっと読む）

【課題】 有機フォトリフラクティブ材料において、材料への光照射の開始から光記録の完了に至るまでの時間(応答時間)の短縮を行う。
【解決手段】 書きこみビームを有機フォトリフラクティブ材料に照射して光記録を行うにあたり、２本の照射書きこみビームの挟み角を２０°超、１４０°以下とし、照射時の材料の貯蔵弾性率を５×１０^６〜１×１０^９Ｐａとすることを特徴とする光記録方法である。 （もっと読む）

【課題】 基本波の光軸に対する波長変換結晶の角度調整を可及的に追い込みできるようにすること。
【解決手段】 この波長変換結晶ユニット３０は、波長変換結晶１８を固定して収容する結晶ハウジング３２と、光共振器の光軸（光路）に対するこの結晶ハウジング３２の向き（特に波長変換結晶１８の角度）を波長変換結晶１８の中心部を通る互いに直交する水平線および鉛直線を回転軸線として第１および第２の方向θ_Y，θ_Xで調整するための第１および第２の角度調整機構とを有している。ここで、第１の角度調整機構は、回転支持部４６と結晶ハウジング３２との間に構築されている。第２の角度調整機構は、固定支持部６２と回転支持部４６との間に構築されている。 （もっと読む）

【課題】分布帰還型（DFB）レーザを用いる画像投影装置において、描画領域内の２次高調波の出力を安定化させることである。
【解決手段】画像投影装置1は、分布帰還型（DFB）レーザ2と、DFBレーザ2から出射された基本波3を２次高調波5へ変換する光波長変換素子4と、基本波3と２次高調波5の光量の内、少なくとも２次高調波5の光量をモニタするディテクタ14、15と、２次高調波5を一次元または二次元に走査する光偏向器7と、画像信号に応じてDFBレーザ2を変調する変調手段111と、画像信号の無い時間内で、ディテクタ14、15のモニタ結果に基づいて、基本波3の波長を調整する波長調整手段21、112を有する。モニタ結果に基づいて、基本波3の波長を調整することで、描画領域内の２次高調波5の出力を安定化させられる。 （もっと読む）

【課題】 １つの光偏向素子で光の偏向方向を画像表示素子の画像形成領域の矩形状の辺と鋭角をなす方向にできるようにする。
【解決手段】 透明な一対の基板２には、キラルスメクチックＣ相からなりホメオトロピック配向をなす液晶を含む液晶層３が設けられている。一対の電極７は、透明抵抗膜４を介して、この液晶層３に対して電位勾配を与えて液晶層３を透過する光の光路を偏向する。このような光偏向素子１の有効領域８は矩形形状であり、電位勾配の方向は基板２の板面方向で有効領域８の矩形形状の辺の方向と鋭角をなしている。 （もっと読む）

本発明は、短コヒーレンス干渉分光法および共焦検鏡法、ならびに、内視鏡短コヒーレンス干渉分光法および内視鏡共焦検鏡法のための光源として特に使用され得る広帯域スペクトルを発生させるための装置に関する。本装置は、波長λ_ｐの短い光パルスを発生させるためのレーザ、特にレーザ・ダイオード、および、波長λ_ｐの付近での群速度のゼロ分散および異常分散を有する高い非線形性の微小構造光ファイバ（１）、ならびに、微小構造光ファイバ内に光パルスを結合するための手段を含む。
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本発明は専用の多色光生成装置（Ｄ）に関する。本発明による装置（Ｄ）は、少なくとも２つの異なった励起波長（λ１、λ２）で放射線を発するために使用される光ポンピング手段（ＭＰ）と、非線形相互作用レジュメで放射線によって励起された時に出力（ＳＧＬ）で多色光を発するために使用される光ガイド手段（ＧＬ）とを有する。 （もっと読む）

コヒーレント光をスクリーン上に走査させ、映像を映し出すディスプレイ装置においてはコヒーレント光源の高速な変調と階調が必要となる。 コヒーレント光源にパルス電流を加え、プラズマ効果を発生させることで基本波を出力する半導体レーザの発振波長を高速に変化させる。波長変化により、光波長変換素子から発生する高調波の出力が変化するため、これを用いて階調を行う。 （もっと読む）

基板により支持されるディスプレイシステムのための装置及び方法。該装置は半導体基板を含み、該基板は、各導波管構造が１つの誘導チャネルと、入力から出力へ放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域とを含む複数の統合された導波管構造と、制御に反応し、該出力での該放射線信号の振幅を自立して制御するために該導波管構造に結合されるインフルエンサシステムとを支える。操作方法は、ａ）各導波管構造が１つの誘導チャネルと、入力から出力に放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域を含む、基板内で支えられ、プレゼンテーションマトリックスの中に配列される複数の導波管構造のそれぞれを通して放射線信号を伝播することと、ｂ）該対応する導波管構造の該出力でそれぞれの該放射線信号の振幅を自立して制御することと、ｃ）一連の振幅が制御された放射線信号からディスプレイシステムを集合的に定義するために該複数の導波管構造のために該放射線信号振幅制御を調整することとを含む。
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放射線バッフルシステム付きの基板により支えられているトランスポートシステムのための装置及び方法。該トランスポートは半導体基板を含み、該基板は、１つの誘導チャネルと、入力から出力へ放射線信号を伝播するために１つまたは複数の境界領域とを含む統合された導波管構造と、制御に反応して、影響を及ぼすゾーン内で放射線信号の振幅に影響を及ぼす属性を自立して制御するために該導波管構造に結合されるインフルエンサシステムと、該放射線信号の該振幅に影響を及ぼす属性に周期的に影響を及ぼすための該影響を及ぼすゾーンの中に該放射線信号を周期的に返すための再帰システムとを支える。操作方法は、ａ）基板内で支えられている、１つの誘導チャネルと、入力から出力へ該放射線信号を伝播するための１つまたは複数の境界領域とを含む導波管構造を通して放射線信号を伝播することと、ｂ）該放射線信号の振幅に影響を及ぼす属性に周期的に影響を及ぼすための影響を及ぼすゾーンを通して該放射線信号を再帰することとを含む。
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トランスポートのための装置及び方法。該トランスポートは、１つの誘導領域と、該誘導領域内で伝達された放射線の封じ込めを強化するための１つまたは複数の境界領域とを含み、入力領域と出力を含む導波管と、該導波管のインフルエンサ反応属性を強化するために該導波管内に配置される複数の成分と、該導波管の該インフルエンサ反応属性を増強するために、該誘導領域に結合される励磁システムとを含む。
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フルカラーイメージを表示するのに適したレーザ投影機器（ＬＰＤ）が開示される。このＬＰＤは、改変されたラスタ走査を使って、イメージを制御可能なように生成するために、イメージデータを用いて、１つ以上のレーザによって生成されるレーザビームを変調する様々な技術を含む。本発明の一つの側面で提供されるレーザビームを変調する方法は、レーザビームを音響光学結晶に送達すること、および、レーザビームからの光学エネルギの少なくとも一部を少なくとも１つの副ビームに転換して、音響光学結晶の中に音響波を生成することを包含する。
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所望されるアウトプット波形を提供する高エネルギー光ビーム生成器である。その生成器は、インプットビームを生成するための、モードロックレーザ（４０）のようなマスター発振器（１０）、周波数成分にインプットビームを分解するための第１の分散要素（１４）、周波数成分を個別に変調するための位相振幅変調器のセット（１６）、周波数成分を個別に増幅するためのパワー増幅器のセット（１８）、および単一のアウトプットビーム（２２）に、増幅され、変調された周波数成分を再結合するための第２の分散要素（２０）を含む。位相コントロールエレクトロニクス（６０）は、意図されるアプリケーション、および、インプットビームとアウトプットビームの感知された特性に基き、アウトプットビーム（２２）の所望される波形を提供するために変調器（１６）をコントロールする。
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所望の照射光パターンを生成する光学システムおよび方法を提示する。当該システムは、空間的に離間した複数の光ビームの形態をとる構造光を生成するよう構成され、かつ動作可能な光源システムと、ビーム形成装置とを具備する。このビーム形成装置は、（ｉ）空間的に離間した光ビームのアレイを単一の光ビームに合成することによる照射光の強度の大幅な増加、および（ｉｉ）光ビームの強度プロファイルに作用することによる略長方形の均一強度プロファイルの照射光の供給、の少なくとも一つを実行するよう構成され、動作可能な回折光学ユニットとして構成される。
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向上された視力のための修正を与えるレンズシステムと光学装置とが開示されている。このレンズシステムは、少なくとも１つ高いオーダの収差の修正を与える電気活性層を有している。高次の修正は、とりわけ使用者の凝視距離、瞳孔のサイズ又は瞬きに続く涙のフィルムの変化のような、レンズシステムの使用者の必要に基づいて動的に変化する。これらのそして他のレンズシステムを用い高次の収差の修正を与える光学装置も説明されている。高次の収差の修正を有するレンズ領域を通して見る使用者の視線をガイドする光学的ガイドも説明されている。
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レーザ(l26)及びAOM(10)は、レーザのパルスからパルスへのエネルギー安定性を損なうことなく、可変の非照射間隔で加工レーザ出力(40)を生じるように、ほぼ等間隔及びほぼ一定同様の高繰り返しレートでパルスさせる。加工レーザ出力(40)が要求されるときには、RFパルス(38)は、レーザ出力パルス(24)と時間一致でAOM(10)に供給され、ターゲットへレーザパルスを伝送する。加工レーザ出力(40)が要求されないときには、レーザパルスを遮断するように、RFパルス(38)は、レーザ出力パルス(24)と時間不一致でAOM(10)に供給される。即ち、AOM(10)における平均熱負荷は、加工レーザ出力(40)がランダムに、如何に要求されるかに関わらず、ほぼ一定となる。AOM(10)については、供給したRFパルス(38)のパワーを制御することにより、加工レーザ出力(40)のエネルギーを制御するように用いることもできる。RFパワーが変更されるときには、RFパルス(38)の持続時間(44)は、一定の平均RFパワーを維持するように変更される。
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