【課題】 低反射性、経済性に優れ、かつ導電性、耐磨耗性、防汚性をバランスよく機能させることのできる低反射部材を提供する。
【解決手段】 透光性基体上に、少なくともハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を順次積層し、高屈折率層は、導電性無機超微粒子を含有する放射線硬化型樹脂組成物が含有され、硬化後の屈折率が１．６〜１．８であり、低屈折率層は、含フッ素ポリシロキサンが含有され、硬化後の屈折率が１．３６〜１．４２であり、高屈折率層に含まれる導電性無機超微粒子が、酸化錫、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛から選ばれる少なくとも一つからなり、導電性無機超微粒子の重量比率が７５％以上であることを特徴とする低反射部材。 （もっと読む）

【課題】 光学フィルタの前面に貼着された光学フィルムに傷等が発生した場合、メンテナンスの容易な表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 フィルタ基材７の前面に貼着された反射防止フィルム層１１は例えばポリウレタン系軟質樹脂の片面に非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率層を備えた薄膜１１ａ、１１ｂ、１１ｃ及び１１ｄを順次積層して形成され、これら薄膜１１ａ、１１ｂ、１１ｃ及び１１ｄは夫々の裏面に塗布された粘着性の比較的低い簡易型接着剤１２により重ね合わせるようにして貼り合わされ、夫々が剥離可能となっている。 （もっと読む）

【課題】反射防止性その他の光学性能に優れた薄手化の光学機能フィルム、およびそれに伴うカール特性の悪化、表面強度の低下を回復することであり、その塗布物を安定に供給する方法を提供すること。このようなフィルムを用いて反射防止処理等がされている偏光板、画像表示装置を提供すること。
【解決手段】膜厚が８０μｍ未満のセルロースアシレートフィルムからなる透明支持体の少なくとも一方の面に塗設層を有する光学機能フィルムにおいて、該塗設層の総膜厚が５μｍ以下であることを特徴とする光学機能フィルムにする。 （もっと読む）

【課題】
表面反射率が低く、防眩性を有し画面のぎらつきを抑え色目がニュートラルな反射防止フィルム、およびそれを組み込んだ画像表示装置を提供する。
【解決手段】
本発明の反射防止フィルムは、０．３μｍ以上の膜厚を有し屈折率が１．６２以下であるＡ層および、屈折率がＡ層より低く、かつ１．４２以下であるＢ層の少なくとも２層が、Ｂ層よりＡ層の方が基材フィルムに近い位置で積層されている反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムのヘイズが１．６〜３０．０％でありかつ波長４００〜７００ｎｍにおける表面反射スペクトルが次の３条件を全て満たすことを特徴とするものである。 （１）最低反射率が０．６％以上、２．０％以下であり、 （２）最高反射率が３．５％以下であり、 （３）最高反射率と最低反射率の差が２．５％以下である。 （もっと読む）

【課題】反射率が低く、耐傷性・防汚性に優れた反射防止フィルム、更に、該フィルムを用いた偏光版や画像表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に、含フッ素ポリマーの硬化皮膜からなる低屈折率層を最外層に有し、該フッ素ポリマーが、主鎖にポリシロキサン構造を含み、かつ、含フッ素ビニルモノマーからなる繰返し単位と、（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位と、水酸基を有する繰り返し単位と、を含んでなる共重合体であり、該 (メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位の共重合体における含有量がポリシロキサン部位以外の全繰返し単位の３０〜７０mol％、該水酸基を有する繰り返し単位の共重合体における含有量が、ポリシロキサン部位以外の全繰り返し単位の５〜４０mol％であり、かつ、該低屈折率層中に、平均粒径が該層厚の３０〜１００％の無機微粒子を含有する反射防止フィルム、及びそれを用いた偏光板並びに画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】低屈折率で高い膜強度を有し、絶縁性の優れた薄膜、反射防止基材及び半導体デバイスと、薄膜形成に用いる微粒子製造方法及び薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧近傍の圧力下、放電空間に５０体積％以上の窒素ガス、０．０１体積％以上の酸素ガス及び微粒子形成ガスを含有するガス１を供給し、放電空間に高周波電界を印加し、放電空間もしくはその近傍に基材を晒すことで、該基材上に微粒子からなる平均空隙率が１０〜５０％の空隙層を形成する工程１と、該工程１の後に、大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガスを含有するガス２を供給し、該放電空間に高周波電界を印加することにより、該ガス２を励起し、微粒子からなる空隙層を有する基材を励起したガス２に晒すことにより、該微粒子からなる空隙層上に平均空隙率が１０％以下の接着層を形成する工程２とを経て製造する。 （もっと読む）

【課題】 低屈折率層の外観形状が鱗状になることを有効に防止した光学積層体の提供。
【解決手段】 光透過性基材と、該光透過性基材の上に、防眩層と低屈折率層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、前記低屈折率層が、低屈折率剤と、粘度が１．０ｍＰａ・ｓ以上である有機溶剤とを含んでなる組成物により形成されてなるものにより達成される。 （もっと読む）

【課題】耐スクラッチ性、反射防止性、防汚性を同時に満足させるような優れたコーティング材料、およびそれを用いた光学物品を提供する。
【解決手段】（Ｉ）下記一般式（１）〜（３）で表されるシラン化合物から選ばれる２種類以上からなる共重合体と、（II）反応性基を有したポリマーと、（III）反応性基を有した無機微粒子を含むコーティング材料。
Ｒ^１Ｓｉ（Ｒ^２）_ａＸ_３−ａ （１）
（Ｒ^１は炭素数３〜１０のフッ素を有する有機基を表す。Ｒ^２は炭素数１〜５の炭化水素基を表す。Ｘは加水分解性基であり、ａは０または１である。）
Ｒ^３Ｓｉ（Ｒ^４）_ｂＹ_３−ｂ （２）
（Ｒ^３、Ｒ^４は各々アルキル基、アルケニル基、アリール基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メタクリルオキシ基、シアノ基を有する炭化水素基、水素原子から選ばれ、同じでも異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基であり、ｂは０または１である。）
Ｓｉ（ＯＲ^５）_４ （３）
（Ｒ^５は炭素数１〜３のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】可視光領域の光に対してすぐれた反射防止特性を有し、シリカ層形成時の加熱条件が緩和され、また、得られた反射防止膜が密着性、耐摩耗性、耐擦傷性に優れる反射防止膜付き基材の製造法を提供する。
【解決手段】 透光性を有する基材上に酸化チタン、インジウム錫オキサイド、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム及び酸化セリウムからなる郡から選ばれる少なくとも１種の化合物からなる第一層を形成する工程、第一層の上にペルヒドロポリシラザンを塗布し、焼成してシリカ層を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止膜付き基材の製造法。
ペルヒドロポリシラザンにマグネシウムのフッ化物または酸化物を併用することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低反射性でありながら、耐擦傷性、防汚性に優れた低屈折率層を形成できる塗布組成物を提供すること。また、該低屈折率層形成用塗布組成物を用い、外光の映り込みを防止し、耐擦傷性および防汚性が改善された反射防止フィルムを提供すること。更には該反射防止フィルムを用いた偏光板および液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】主鎖中にポリシロキサンセグメントを有し、フッ素含量が３０質量％以上であり、複数のエチレン性不飽和基を含有するフッ素含有オレフィン系重合体と、平均粒径が５〜２００ｎｍであり、且つ屈折率が１．１７〜１．４０である中空シリカ微粒子とを含有することを特徴とする低屈折率層形成塗布組成物。 （もっと読む）

【課題】反射率が低く、水滴の付着跡が残りにくいと共に、塵埃除去性、耐擦傷性、オゾン耐性に優れる反射防止フィルムを提供すること。更には、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供すること。
【解決手段】微細空孔を含む層を少なくとも１層有する反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムの表面を水に１５分間接触させた後に拭き取った部分の、Ｄ６５標準光源下で測定したＣＩＥ１９７６Ｌ^*ａ^*ｂ^*色空間における色度変化△Ｅが０．４５以下であり、且つ微細空孔を含む層と同一層あるいは異なる層である帯電防止層を有することを特徴とする、反射防止フィルム、並びにこのような反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板、及びこのような反射防止フィルム又は偏光板を有する画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】反射防止性が高く、耐擦傷性及び防汚耐久性に優れた反射防止層を形成できる硬化性樹脂組成物、および該硬化性樹脂組成物から得られる硬化膜を提供する。また、該硬化膜を用いた反射防止フィルムを提供し、該反射防止フィルムを用いた偏光板、画像表示装置を提供する。
【解決手段】質量平均分子量が３００〜１００００であるオルガノシランの加水分解物および縮合反応物の少なくともいずれか１種（Ａ）、ポリスチレン換算による質量平均分子量が５０００以上であって、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する含フッ素化合物（Ｂ）、及び平均粒径５ｎｍ〜１００ｎｍの無機微粒子（Ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物から形成される反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】 中空シリカ粒子を有機溶媒中に良好に分散する。
【解決手段】 中空シリカ粒子が有機溶媒中に分散している中空シリカ粒子分散物において、中空シリカ粒子の表面のシリカに炭化水素主鎖を有するポリマーを共有結合させる。 （もっと読む）

【課題】 反射率が低くぎらつきが押さえられ、耐擦傷性に優れた光学フイルムを提供すること。また、該反射防止フイルムを用いた偏光板やディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】 支持体上に１層以上の層が設けられた光学フィルムであって、最表面は無機微粒子とバインダーを含有する膜厚２００ｎｍ以下の薄膜層で、薄膜層の膜厚の１／２〜９／１０の粒径の無機微粒子（ａ）を少なくとも１種含有し、無機微粒子（ａ）の１／２以上が粒子の中心が薄膜層の支持体側５０％に存在し、該５０％膜厚中の平均粒子充填率（Ａ）に対する、支持体と逆側５０％膜厚中の平均粒子充填率（Ｂ）の比率Ｒ１が３〜１００％であることを特徴とする光学フイルム。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜の低屈折率層の特性を悪化させることなく、高速で均一な面状の低屈折率層を形成可能な塗布組成物の提供および該塗布組成物を用いた光学機能層、反射防止フィルム。
【解決手段】熱又は活性性エネルギー線放射により重合可能でかつ、ポリスチレン換算により重量平均分子量が１０万以上の化合物を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成、塗布組成物、および該塗布組成物から形成した光学機能層、反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】 サブミクロンピッチの非常に細かなパターンを有する反射防止構造体を、Ｘ線リソグラフィを用いて容易に製造するための反射防止構造体を有する部材の製造方法を提供する
【解決手段】 Ｘ線マスク１をＸ線の照射方向を法線とする面Ｌに対してθだけ傾けて配置する。この状態のＸ線マスク１を介して部材２の表面にＸ線を露光する。これにより、部材２の表面には、Ｘ線マスク１のマスクパターンｐよりも小さいピッチであるｐｃｏｓθのピッチを有する露光パターンが形成される。次いで、露光された部材２を現像する。これにより、部材２の表面には、Ｘ線マスク１のマスクパターンよりも微細なピッチを有する反射防止構造体が形成される。 （もっと読む）

【課題】乾燥ムラや風ムラの改善と界面活性剤特にフッ素系界面活性剤転写の低減を両立した界面活性剤（好ましくはフルオロ脂肪族基含有共重合体）を含む塗布組成物を提供する。
【解決手段】フルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位Ａ及び、少なくとも１種のモノマーに相当する繰り返し単位Ｂを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する塗布組成物において、該繰り返し単位Ｂのみを重合して得られる重合体のガラス転移点が３００Ｋ以上である塗布組成物。 （もっと読む）

【課題】 １の塗膜から２以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供する。
【解決手段】 基材３０と、その上に導電層２０及び多層構造４０，５０を有する積層体の製造方法であって、ピロール、チオフェン、フラン、セレノフェン、３，４−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の単量体を気相重合することにより導電層２０を形成し、数平均粒子径１ｎｍ以上４０ｎｍ未満の金属酸化物粒子、数平均粒子径４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、速揮発溶剤及び遅揮発溶剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層４０，５０を形成することを特徴とする積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 反射防止効果に優れた反射防止構造体を、Ｘ線リソグラフィを用いて容易に製造できる反射防止構造体を有する部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線マスク１と部材２とを、Ｘ線マスク１の異なる領域を通過したＸ線同士が回折により干渉を生じる距離Ｄだけ離して配置し、Ｘ線マスク１を介して、少なくとも構造体形成面が感光性材料からなる部材２に向けてＸ線を露光する。次いで、露光された部材２を現像する。これにより、干渉と現像の際の化学的な作用との影響によって、光学機器において必要とされる波長の全域にわたって反射防止効果に優れた反射防止構造体を形成できる。 （もっと読む）

【課題】 １の塗膜から２以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供する。
【解決手段】 基材３０と、その上に導電層２０及び多層構造４０，５０を有する積層体の製造方法であって、ピロール、チオフェン、フラン、セレノフェン、３，４−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の単量体を気相重合することにより導電層２０を形成し、（Ａ）重合性不飽和基を有する有機化合物（Ａｂ）を結合させてなる金属酸化物粒子、（Ｂ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、（Ｃ）速揮発溶剤及び（Ｄ）遅揮発溶剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層４０，５０を形成することを特徴とする積層体の製造方法。 （もっと読む）