【課題】金属層に付着した有機物を、金属層の腐食を抑制しつつ、効率よく分解・除去することができる有機物除去方法を提供すること。
【解決手段】本発明の有機物除去方法は、金属層２に付着した有機物３を分解・除去するものである。この有機物除去方法では、有機物３を分解・除去する際に、金属層２を実質的に溶解しないｐＨおよび／または酸化還元電位に処理液を調整する。また、この際に、処理液は、金属層２に接触した際に、金属層の表面に処理液に対して不溶性の金属化合物が形成されるように、そのｐＨおよび／または酸化還元電位が調整されているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムやその合金に対し極短時間で高いエッチング力を示し、比較的低いｐＨ領域でも高いエッチング力を維持し、アルミニウムイオンの許容量が高く、かつ発生するスラッジの量を低く抑えることができる洗浄剤の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ金属の水酸化物、炭酸塩及びケイ酸塩から選ばれるアルカリ剤０．１〜４００ｇ／Ｌと、
（Ｂ）特定の分子量を有する、マレイン酸のホモポリマーもしくはコポリマー又はそのアルカリ金属塩から選ばれるマレイン酸系ポリマー０．１〜１００ｇ／Ｌと、
（Ｃ）ヒドロキシカルボン酸及びそのアルカリ金属塩から選ばれるキレート剤０．１〜１００ｇ／Ｌと、
（Ｄ）洗浄用界面活性剤０．１〜５０ｇ／Ｌとを
水に配合してなり、ｐＨ９〜１４であるアルミニウム又はその合金用洗浄剤。 （もっと読む）

エッチングチャンバ、レジスト剥離チャンバ等の、半導体基板が処理されるプラズマ処理チャンバ用の構成要素の石英表面のウェット洗浄方法は、石英表面を、少なくとも一つの有機溶媒、塩基溶液及び複数の異なる酸溶液と接触させて、石英表面から有機汚染物質及び金属汚染物質を除去する工程を含む。石英表面は、好ましくは、少なくとも２回酸溶液の一つと接触させられる。 （もっと読む）

本発明は、微生物増殖が起こりやすい物質を、微生物増殖を抑制するために効果的な量の非腐植コケに接触させる工程を含み、コケはイボミズゴケ、スファグナム・クリスタツム、およびそれらの混合物からなる群から選択される、微生物増殖を抑制する方法を提供する。本発明は、内部空洞および内部空洞を出入りするための１つまたは複数の開口部を有する担体を備え、コケは内部空洞に封入され、担体はその内部空洞内にコケを完全に封入している、水中で使用するための装置を提供する。
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本発明は有機物汚れで汚染された物品用の清浄液に関し、次のものから構成される：
−（Ａ）重量で５０％以上、好ましくは重量で６０％以上、より好ましくは重量で７０％以上および最も好ましくは重量で８０％以上の少なくとも１つのラクトン；
−（Ｂ）８から１５の範囲のＨＬＢを持つ少なくとも１つの界面活性化合物。 （もっと読む）

【課題】 洗浄作業を停止することなく洗浄液の交換が行える多槽式洗浄装置と洗浄方法を提供する。
【解決手段】 多槽式洗浄装置は洗浄槽１に２つの循環槽２，３が併設され、循環槽２にはオイル分離機２１とヒータ２２が付設され、洗浄槽１と循環槽２とは２本の洗浄液の戻り管路２３及び供給管路２４で接続されている。戻り管路２３は洗浄槽１の浸漬部１２に接続されるとともに開閉弁２３ａを備え、供給管路２４は中間にポンプ２５を備え、このポンプ２５と循環槽２との間を個別の供給管路２４ａ、ポンプ２５と洗浄槽１との間を共通の供給管路２４ｂとし、個別の供給管路２４ａには開閉弁２４ｃを設け、共通の供給管路２４ｂについては更に分岐し、一方をスプレーブース１１のスプレーノズルに、他方を浸漬部１２に連結している。 （もっと読む）

エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、１，３−ジヒドロキシ−２−プロパノン又は１価若しくは２価のカルボン酸と水酸基を有する１級又は２級の有機アミンとの反応物、必要により有機アミン、並びに、水溶性有機溶剤及び／又は水、を含有するフォトレジスト剥離用組成物であって、フォトレジストを高性能で除去でき、しかも金属配線材料の腐食を防止でき、なおかつ、剥離後の水リンス時に不純物が析出して基板などに再付着することがないフォトレジスト剥離用組成物を提供する。 （もっと読む）

投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置は、前記基板を支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と、前記基板の裏面のうち少なくとも一部の領域との少なくとも一方に付着した前記液体を除去する液体除去機構とを備える。 （もっと読む）

２種以上の揮発成分、特に、ＨＦＣ３６５ｍｆｃと、分子内におけるフッ素原子数の水素原子数に対する比が２以上の非塩素系フッ素化合物と、１種以上の高沸点の不揮発性成分からなる非共沸性多成分系組成物であって、洗浄性、乾燥性、安全性、環境保全性に優れ、かつ、長時間の使用わたって成分組成変動を容易に制御できる洗浄剤組成物として好適にもちいることができる組成物。 （もっと読む）