２つの異なる材料の層で形成された容器本体によって包囲された内部を有する容器が開示されている。内層は、選定された溶剤の中で溶解可能であるのに対して、内層によって支持されている外層は、溶剤の中で不溶性の材料で形成されている。特に内層は、温水又は冷水のいずれか一方で溶解可能であり、特に、ポリビニルアルコールで形成されてもよい。外層は、内層に接着され、不水溶性の材料で形成された壊れやすいシェルの形状である。容器本体は、内層及び外層間に介在する中間層をさらに有してもよい。容器から化学残留物を除去する方法も提供される。この方法は、内層を溶解するために、十分な量の水と容器本体の内層とを接触させることを含む。
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【課題】電解水を循環して利用する場合であっても、循環経路を清浄に維持することのできるようにする。
【解決手段】水を電気分解して活性酸素種を含む電解水を生成する電解槽４６と、前記電解槽４６によって生成された電解水を気液接触部材５３に浸潤させ、送風ファン３１により前記気液接触部材５３に空気を送り前記気液接触部材５３に接触させ当該空気を除菌する空気除菌装置１において、前記電解槽４６によって生成された電解水を貯留すると共に前記気液接触部材５３から流下する電解水を受ける水受け皿４２と、前記水受け皿４２に貯留した電解水を汲み上げて再び前記気液接触部材５３に供給する循環ポンプ４４とを有し、前記水受け皿４２に貯留する電解水を排水し前記水受け皿４２に水を貯留すると共に、当該水を前記循環ポンプ４４で前記気液接触部材５３に供給し当該気液接触部材５３を含む循環経路を洗浄する洗浄動作を、当該循環経路が清浄になるまで１又は複数回実行する構成とした。 （もっと読む）

【課題】安全に取り扱うことができ、多くの有機溶剤と混合し、油脂、ロウ、天然樹脂等の種々の汚染性有機物を溶解し、かつ、大気中で速やかに分解し、オゾン層に悪影響を与えない新規洗浄溶剤、反応溶剤、抽出溶剤、電子・電気材料用の溶剤及び剥離剤等として有用なシクロアルキルアルキルエーテル化合物を、工業的に有利に製造する方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式：Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２（式中、Ｒ^１はシクロペンチル基等を表し、Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル基等を表す。）で表されるシクロアルキルアルキルエーテル化合物（１）の少なくとも１種を含有してなる溶剤、及び（Ｂ）含水量が５重量％以下の酸性イオン交換樹脂の存在下に、脂環式オレフィンとアルコール類とを反応させることを特徴とするシクロアルキルアルキルエーテル化合物（１）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属線または間隔のクリティカルディメンションを実質上変化させることなく、所望量の金属を除去するエッチング工程が必要とされている。
【解決手段】エッチングレジストとエッチング後の金属残渣を単一工程で除去する、光学ディスプレーデバイスの製造方法が提供される。これらの方法はＬＣＤの製造に特に有用である。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物表面のパーティクル等の汚染物を効果的に除去することが可能な洗浄方法を提供するものである。
【解決手段】脱気処理した純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒を使用した溶剤系洗浄剤の取り扱いの難しさ、水系洗浄剤の洗浄力の悪さ等を解決し、消防法により規制を受けない、取り扱いが容易で、かつ洗浄性、耐腐食性、残留物のない洗浄用組成物を提供する。
【解決手段】組成物の合計重量当り、（Ａ）炭素数２〜３の飽和一価アルコール３５重量％以上６０重量％未満、（Ｂ）水３５重量％以上６０重量％未満、（Ｃ）炭素数８〜１３の飽和脂肪族炭化水素０．１重量％以上４重量％以下および（Ｄ）炭素数８〜１２の芳香族炭化水素０．１重量％以上６重量％未満を必須成分とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】乾燥後に表面汚れや洗浄残渣油の滲み出しがなく、乾燥温度が水系洗浄剤よりも低く、乾燥から部品冷却までを短時間で行うことができる、経済的で、洗浄性に優れ、安全性が高い、焼結部品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の焼結部品の洗浄方法は、（Ａ）焼結部品を炭化水素系洗浄液と接触させて洗浄する洗浄工程、（Ｂ）次いで防錆剤を濃度が１〜１０重量％となるように有機溶剤に均一に溶解して得た防錆剤溶液と接触させて焼結部品表面に防錆皮膜を形成するコーティング工程、及び（Ｃ）次いでハイドロフルオロカーボン及び／又はハイドロフルオロエーテル（ＨＦＣ／ＨＦＥ）と接触させて焼結部品に付着する炭化水素系洗浄液及び／又は有機溶媒を前記ＨＦＣ／ＨＦＥで置換するリンス工程を含む洗浄方法である。 （もっと読む）

残留物よりも下にポリマーコーティングを有する基板処理構成部品の表面から、残留物を除去する。一変形例においては、構成部品表面を有機溶媒と接触させて、ポリマーコーティングに損傷を与えることなく、またはポリマーコーティングを除去することなく残留物を除去する。残留物はプロセス残留物でも可能であり、または接着剤残留物でも可能である。この洗浄プロセスは、改装プロセスの一部として行うことができる。別の変更形態においては、構成部品表面にわたってレーザを走査させることによって、残留物をアブレーションする。さらに別の変形例においては、ことによって、構成部品の表面にわたってプラズマ切断機を走査させることによって、残留物を蒸発させる。 （もっと読む）

【課題】 精密研磨工程後の薬液での洗浄によって研磨剤を基板表面から除去することができ、かつ洗浄後の基板表面が近年のＥＵＶリソグラフィー技術等で要求されるような極めて高い表面の平滑性を有する基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス又はガラスセラミックスからなる基板の表面を研磨し、表面粗さＲＭＳを１．０ｎｍ以下とした後、硫酸、硝酸、塩酸から選ばれる酸を少なくとも１種以上含む溶液を用いて前記基板の表面を洗浄し、洗浄前後の前記基板の表面粗さＲＭＳの変化量の絶対値が０．５ｎｍ以下である洗浄工程を含み、かつ前記溶液は、２００ｇの溶液で希土類酸化物０．００１ｇを３０分以内に溶解する溶液である基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 基板に付着した有機物を良好に除去できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 除去ユニット１０は、主として、マイクロバブル水１１ａを基板Ｗに向けて吐出する複数の吐出ノズル１１と、マイクロバブル発生部２１と、を備えており、基板Ｗに付着した有機物を除去する。洗浄ユニット６０は、主として、複数の上側ノズル６１と、複数の下側ノズル６２と、貯留槽８０と、を備えており、除去ユニット１０での有機物除去処理が施された基板Ｗに対して純水によるリンス処理を施す。 （もっと読む）

【課題】 酸化膜にダメージを与えることなく、砒素がドープされたレジストが除去可能であり、酸化剤を含有しないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】 硫酸及びポリリン酸を含む組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】少ない洗浄液で効率よく被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】垂直な姿勢で保持されたガラス基板Ｇの表面を洗浄ヘッド２０で走査して洗浄する場合において、洗浄ヘッド２０の先端部に洗浄液保持枠５０を取り付け、噴射口２２から噴射される洗浄液を噴射口２２とガラス基板Ｇとの間で保持する。これにより、少ない量の洗浄液を噴射した場合であっても、常に噴射口２２とガラス基板Ｇとの間に洗浄液が満たされるので、超音波による洗浄効果を有効に作用させることができる。 （もっと読む）

【課題】 酸化膜にダメージを与えることなく、砒素がドープされたレジストを除去可能であり、酸化剤を含有しないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】 基板工程において砒素がドープされたレジストを除去する際にエチレンジアミンを含む組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】有体物の表面のうち、浄化を意図する一部表面について、液状の洗浄剤による洗浄が十分にかつ迅速に達成される一方、洗浄を意図しない他部表面については、この他部表面に液状の洗浄剤が悪影響を及ぼさないようにし、もって、有体物の見栄えを全体的に向上させるようにする。
【解決手段】宗教用有体物の表面浄化方法は、有体物１の表面のうち、金箔もしくは漆を施すことにより形成された一部表面１４，１５を液状の洗浄剤により洗浄する、というものである。洗浄に先立って、まず、表面のうち、一部表面１４，１５以外の他部表面１８，２１を遮液性の被覆体２４で覆い、この被覆体２４の端縁部を一部表面１４，１５の端縁部２５に対し離脱可能に液封するよう接合する。次に、一部表面１４，１５の端縁部２５を除くこの一部表面１４，１５を上記洗浄剤により洗浄する。次に、一部表面１４，１５の端縁部２５から被覆体２４を離脱させる。 （もっと読む）

【課題】有機被膜の剥離性が低下することを抑止して、効率的に基体上の有機被膜を除去する方法を提供する。
【解決手段】基体に付着した有機被膜を、有機溶剤からなり、かつ、オゾン処理による再生処理を施した剥離液と接触させて除去するに際して、該剥離液中のカルボン酸成分及びそのエステル成分の合計を３０質量％以下に維持しつつ有機被膜を剥離液と接触させる。
剥離液として、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の炭酸アルキレンを用いる。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたは銀を含む金属層の形成された基板に対して腐食を発生せず、かつ効果的にフォトレジスト膜を除去することが可能なフォトレジスト用剥離液を提供すること。
【解決手段】（Ａ）界面活性剤を１質量％以上３０質量％以下、（Ｂ）防食剤を０．０５質量％以上１０質量％以下、（Ｃ）水を５質量％以上６０質量％以下、および（Ｄ）水溶性有機溶剤を３０質量％以上９５質量％以下含有するフォトレジスト用剥離液である。 （もっと読む）

【課題】 建物等の構造物に付着しているアスベスト除去する場合、その除去作業により曝露されたアスベストを吸い込む危険性や周囲に与える悪影響を全て回避できるアスベスト除去の施行方法を提唱すること。
【解決手段】 建築物のアスベスト施工面に付着しているアスベスト層を除去するにあたり、アスベスト層に対しコンニャク芋，粉，粒，すり身，小塊，ぺーストまたはエキス等のコンニャク芋加工品と水などとの混合物であるコンニャク混合液を浸透させて、前記アスベスト層を半固溶体の状態にするコンニャク混合液付与行程と、その半固溶体の状態とされた前記アスベスト層を前記アスベスト施工面から剥離するアスベスト層剥離行程からなる。 （もっと読む）

【課題】有機物の分解作用、微生物の殺菌作用及び膜状物の剥離作用に優れた風呂釜洗浄剤を用いて、安全かつ簡易に、そして効果的に風呂釜内の洗浄を行う風呂釜洗浄方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも風呂水出入穴が水没する水位まで風呂水を浴槽内に張った状態で、風呂水出入穴の浴槽内部側の周囲を所定の容積に区画するように風呂釜洗浄用具を浴槽の壁面に当接する洗浄用具設置工程と、風呂釜洗浄用具で区画された風呂水に、発泡性過炭酸ナトリウムを含有する風呂釜洗浄剤Ａを投入して風呂釜を洗浄する洗浄工程Ａとを含む風呂釜洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】第１及び第２の薬液タンクを有する薬液処理装置を用いた薬液処理工程において、第１の薬液タンクと第２の薬液タンクとを切替える際に、流路中に残留する旧薬液が新薬液に混入して、薬液濃度の変化や薬液の劣化を生じさせるのを未然に防止すること。
【解決手段】本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部(12,13)に循環流路(10)を介して第１及び第２の薬液タンク(2,3)を連通し、制御部(22)で第１又は第２の薬液タンク(2,3)を切替えて薬液処理部(12,13)に薬液を供給するように構成した薬液処理装置(1)において、制御部(22)は、第１の薬液タンク(2)から第２の薬液タンク(3)に切替えるときに、第２の薬液タンク(3)から供給される薬液を循環流路(10)を介して第１の薬液タンク(2)に送る薬液切替流路(D)を一時的に形成することにした。 （もっと読む）

本発明は、ジーメンス法からのポリシリコンを、細断工具およびスクリーン装置を含む装置により細断し、分級し、こうして得られたポリシリコン断片を清浄化浴により清浄化することにより、高純度の分級されたポリシリコン断片を製造する方法であって、
細断工具およびスクリーン装置が、引続き意図的に清浄化浴によって除去されるような異質粒子でポリシリコン断片だけを汚染する材料からなる、ポリシリコンと接触する表面を例外なく有することを特徴とする、高純度の分級されたポリシリコン断片を製造する方法に関する。
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