【課題】バイオフィルムを効果的に除去するバイオフィルム除去剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）
[-（CH₂）_m-NH-C(NH)-NH-C(NH)-NH-]_n （１）
（式中、ｍは５〜１０、ｎは４〜２０の数を示す。）
で表わされる化合物又はその塩を含有するバイオフィルム除去剤組成物、及び該除去剤組成物をバイオフィルムに接触させる、バイオフィルムの除去方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被研磨基板を、シリカ微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで得られる被洗浄基板に対して好適に用いられ、洗浄性および耐泡立ち性が優れ、短時間の洗浄でも高度に清浄化されたＨＤ用基板を得ることを可能とするＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いた清浄度の高いＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、特定のアクリル酸系共重合化合物および／又はその塩（成分(Ａ)）と、ポリアミン（成分（Ｂ））と、水（成分(Ｃ)）と、を含有し、実質的に非イオン性界面活性剤を含有せず、前記成分(Ｃ)以外の成分の重量の総和における前記成分（Ｂ）の含有量は３０〜９５重量％であり、前記成分(Ａ)と前記成分(Ｂ)の重量比｛成分(Ａ)/成分(Ｂ)｝が０．０４〜０．８である、Ｎｉ−Ｐ含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜とその下層となる被膜とを同時に剥離することができる、レジスト剥離液を提供すること。
【解決手段】基板上に直接、又は他の層を介して形成される無機系レジスト下層膜と、前記無機系レジスト下層膜上に形成されるレジスト膜と、を有する多層レジスト積層体において、前記無機系レジスト下層膜及び前記レジスト膜を除去するために用いられる多層レジスト積層体用剥離液であって、（Ａ）４級アンモニウム水酸化物、（Ｂ）水溶性有機溶剤、及び（Ｃ）水を含む多層レジスト積層体用剥離液。 （もっと読む）

組成物、方法、およびシステムは、反応器の金属部（チタンおよび／またはチタン合金など）における金属酸化物を選択的にエッチングできる。エッチング組成物はアルカリ金属水酸化物および没食子酸を含む。この方法は酸化アルミニウムなどの金属酸化膜の堆積に用いられる反応チャンバの洗浄に有用である。 （もっと読む）

【課題】洗浄性、すすぎ性に優れた、物品の洗浄すすぎ方法を提供する。
【解決手段】汚染物質が付着した物品を、芳香族炭化水素を含有する炭化水素系溶剤に接触させる洗浄工程と、含フッ素エーテルに接触させるすすぎ工程を有する物品の洗浄すすぎ方法であって、含フッ素エーテルが式１で表される化合物であることを特徴とする物品の洗浄すすぎ方法。
Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２ ・・・式１
ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立に含フッ素アルキル基を示す。Ｒ^１およびＲ^２に含まれるフッ素原子の数はそれぞれ１以上であり、かつＲ^１およびＲ^２に含まれる炭素原子の数の合計は４〜８である。 （もっと読む）

【課題】酸を含まない水を用いて防着板やマスクの洗浄を行える技術を提供する。
【解決手段】Ｌｉイオン二次電池を製造する工程で用いられる、マスクと防着装置等の、電解質膜が厚く形成される真空部品は、真空槽から着脱自在であるように構成されている。これらの部品を洗浄する場合は、電解質膜が付着した真空部品を取り外し、付着した電解質膜に、中性の水(ｐＨ６〜８)を注水、又は散布して、真空部品から電解質膜を剥離させる。モル比Ｑの値が大きくなるに従って残渣率が小さくなる傾向があり、モル比Ｑの値が０．２６以上の値では、試験基板表面に成膜されたＬｉＰＯＮ薄膜の８０％以上が剥離しており、中性の水によってＬｉＰＯＮ薄膜を剥離できた。方法は、モル比Ｑの値が０．２６以上のＬｉＰＯＮ薄膜を剥離するのに効果的である。 （もっと読む）

【課題】グリコール類及びアミン類を含む洗浄用組成物を用いた液晶性ポリエステル製造装置の洗浄方法において、洗浄後の洗浄用組成物からの析出物発生を抑制して、該洗浄用組成物の再利用を可能とする洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の液晶性ポリエステル製造装置の洗浄方法は、
洗浄用組成物を準備し、これを液晶性ポリエステル製造装置内で、温度２０５〜２５０℃で蒸発・還流させるように加温する加温・洗浄工程；
蒸発が停止するまで冷却した後、洗浄後の洗浄用組成物を回収し、この洗浄用組成物のグリコール類及びアミン類の含有割合を求める回収・分析工程；
求められた含有割合により、洗浄後の洗浄用組成物にグリコール類及び／又はアミン類を添加し、洗浄用組成物を再生する再生工程；
を有する。 （もっと読む）

【課題】良好な洗浄性を有するとともにさび止め性をも兼ね備えた洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】１２０℃における蒸発速度が１０００〜９０００ｇ／ｍ^２ｈである炭化水素系液体成分Ａと、１２０℃における蒸発速度が３００ｇ／ｍ^２ｈ以下である炭化水素系液体成分Ｂとを含み、成分Ａの含有量が９９〜８５重量％及び成分Ｂの含有量が１〜１５重量％であり、好ましくは、成分Ａの１２０℃における蒸発速度に対する成分Ｂの１２０℃における蒸発速度の比が０．３０以下である洗浄剤組成物、および該洗浄剤組成物を用いて金属部品を洗浄する洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】環境安全問題に配慮しつつ、洗浄性に優れた洗浄剤組成物を提供するための洗浄剤組成物用原液、それを用いてなる洗浄剤組成物および洗浄方法をそれぞれ提供する。
【解決手段】所定量の水を後添加した状態で、白濁状態にて、被洗浄物を洗浄するための洗浄剤組成物用原液等であって、第１の有機溶剤として、ＳＰ値が６．５〜１２の炭化水素化合物または芳香族化合物と、第２の有機溶剤として、ＳＰ値が８〜１５の含窒素化合物または含イオウ化合物と、と、第３の有機溶剤として、ＳＰ値が８〜１２のエステル化合物とをそれぞれ所定量含む。 （もっと読む）

【課題】被清掃面の全域に亘って良好なクリーニング能力を得ることができる表面処理装置及を提供する。
【解決手段】芯部１１２の直径は、被清掃面２ａの半径よりも大きく設定され、ワークＷと芯部１１２とを相対移動させる移動機構８３を備え、移動機構８３は、回転可能に支持され、駆動力が付与されるシャフト８７を備え、パッドシャフト９５の中心軸Ｏ２と、シャフト８７の中心軸Ｏ１とをオフセットさせた状態で、中心軸Ｏ１回りにパッドシャフト９５を公転させるとともに、公転に連動してパッドシャフト９５を中心軸Ｏ２回りに回動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】洗浄剤組成物が均一で、安全性が高く、狭いギャップにおける各種汚れの洗浄性、繰り返し洗浄性及びすすぎ性に優れ、洗浄時とすすぎ時において耐泡立ち性の良い硬質表面用洗浄剤組成物及び当該洗浄剤組成物を用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｅ）：（Ａ）グリセリルエーテルを０．２５〜１５．０重量％、（Ｂ）ＨＬＢが１２．０〜１８．０である、非イオン界面活性剤を１．０〜６０．０重量％、（Ｃ）炭化水素を１．０〜１０．０重量％、（Ｄ）グリコールエーテルを１．０〜２０．０重量％、及び（Ｅ）水を含有してなり、かつ該成分（Ｂ）の非イオン界面活性剤が次の式：Ｒ−Ｘ−（ＥＯ）_m（ＰＯ）_n−Ｈで示され、かつ、該成分（Ｂ）と該成分（Ａ）との重量比（成分（Ｂ）／成分（Ａ））が４／１〜８／１である、硬質表面用洗浄剤組成物、並びに当該硬質表面用洗浄剤組成物を用いた硬質表面の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】硬質表面の微生物を効率よく洗浄殺菌し、微生物に起因する危害を低減する方法を提供する。
【解決手段】成分（Ａ）
（Ａ）一般式（１）
ＲＯ−（ＥＯ）ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜１４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＥＯはエチレンオキシ基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。）
で表される化合物を硬質表面上の微生物に接触させ（工程１）、次いで、成分（Ｂ）塩素系酸化剤及びカチオン系殺菌剤からなる群から選ばれる少なくとも1種を該微生物に接触させる（工程２）、硬質表面の洗浄殺菌方法。 （もっと読む）

【課題】液晶汚れとポリイミド等の削りかす（端子上異物）の両方を同時に洗浄でき、かつ、液安定性の良好な洗浄剤組成物、及び当該洗浄剤組成物を用いた液晶パネルの洗浄方法の提供。
【解決手段】液晶パネルの洗浄に用いる洗浄剤組成物において、有機アルカリ（Ａ）と、炭化水素（Ｂ）と、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル及びスルホコハク酸型アニオン界面活性剤からなる群から選ばれる界面活性剤（Ｃ）とを含有し、かつ、ｐＨが８．５以上であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の微粒子を捕捉する際に使用する洗浄表面を備えた部材が開示される。
【解決手段】微粒子は、パターン状に配置された複数の突起によって捕捉される。センサを用いて、パターン内の汚染物微粒子を検出できる。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカ等の研磨材に由来する微粒子汚れを高い清浄度で除去できる、ハードディスク基板用の洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法の提供。
【解決手段】ハードディスク基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物において、アルカリ金属の水酸化物（Ａ）と、遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）と、キレート剤（Ｃ）と、過酸化物（Ｄ）とを含有し、かつ、前記キレート剤（Ｃ）の割合は、前記遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）に対して０．５モル当量以上であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】使用後の医療器具について洗浄・濯ぎを行って乾燥して再生させる際に、乾燥前処理に用いる処理剤として、極めて低濃度の水希釈液により、乾燥時間を大幅に短縮でき、従来のような乳化型の潤滑防錆剤を用いることなく優れた防錆効果及び潤滑効果を付与でき、器具表面のウォータースポットやシミ等の生成を防止でき、高い安全性を確保しながら処理コストを著しく低減できるものを提供する。
【解決手段】有機防錆剤と、界面活性剤と、界面活性剤に対する可溶化剤とを有効成分として含有する水性溶液からなる。 （もっと読む）

【課題】アンモニア蒸留塔内部に設置されているトレイ、バブルキャップ等に付着したタールピッチ等を短期間で効率的に、かつ安価に除去することが可能なアンモニア蒸留塔の洗浄方法を提案する。
【解決手段】コークス炉から発生するガスの冷却に用いた安水中に含まれるアンモニアを除去するアンモニア蒸留塔内部に洗浄液を循環させて付着物を除去する洗浄方法において、上記洗浄液として、コールタールを蒸留することによって得られる吸収油あるいは上記吸収油と安水との混合液を用いる。 （もっと読む）

【課題】自動車部品用等のパーツボックスの洗浄において、洗浄性、油水分離性、仕上がり性、貯蔵安定性、低泡性に優れたコンテナ用洗浄剤組成物および洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ剤を０．５〜１８質量％、（Ｂ）両性界面活性剤を０．２〜２０質量％、（Ｃ）水を残質量％含み、且つ（Ａ）成分と（Ｂ）成分との重量比が、（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝１０／１〜１／４０の範囲であることを特徴とするパーツボックス用洗浄剤組成物を用いる。更に、（Ｄ）高分子ポリマーを０．４〜９質量％含有することを特徴とする、パーツボックス用洗浄剤組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】
半導体基板やガラス基板の洗浄液やエッチング液として、アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウムおよび水酸化ナトリウムなどの水溶液が用いられるが、アルカリ成分中の金属不純物が処理中に基板表面に吸着してしまうため、次工程として吸着した金属不純物を除去する工程が必要となる。また洗浄液の場合には、微粒子の除去には効果があるが、金属不純物は洗浄出来ないために酸洗浄を行う必要があり、工程が複雑となる。本発明では、アルカリ性水溶液で金属不純物の吸着がない、さらには洗浄能力を持つ基板処理用水溶液組成物を提供する。
【解決手段】
アルカリ成分と、特定のキレート剤とを組み合わせた基板処理用アルカリ性水溶液により、金属不純物の基板への吸着を防止し、さらには基板に付着した金属を洗浄除去する。必要に応じて、金属防食剤および界面活性剤を加えて、金属材料の腐食を抑え、あるいは基板への親和性および微粒子除去能力を高めることも可能である。 （もっと読む）