【課題】水晶デバイスを製造する工程において、レジスト塗布前の基板上に形成されたＡｕ／Ｃｒ耐蝕膜のＡｕ層を短時間のオゾン水により表面の改質処理を施すことで、レジストの付着性を向上させることにより、生産性を向上させる。
【解決手段】基板１の表面に形成されたＡｕ表面４のぬれ性を改善する方法であって、前記Ａｕ表面４を、オゾン濃度が１００ｐｐｍ以上の炭酸を含む５０℃以上のオゾン水３と接触させる。 （もっと読む）

【課題】 少ないアンモニアの使用量で半導体ウエハを効果的に洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】 電気伝導度が１μＳ／ｃｍ以下である純水にアンモニアを添加してその濃度を０．００５〜０．５％としたアンモニア水中において生成させた、粒径が５０μｍ以下で、レーザー光遮断方式の液中パーティクルカウンターによる計測において１０〜１５μｍに粒径のピークを有しており、そのピークの領域における個数が１０００個／ｍＬ以上である、空気および／または不活性気体を含有する微小気泡を含むアンモニア水を、半導体ウエハの表面に接触させて行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の超音波発振器に比べて部品数が低減され、それによって小型化され、またコストが安価となった超音波発振器及びそれを備えた超音波振動装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子に高周波電力を出力する超音波発振器であって、少なくとも、高周波信号を発振する主発振ユニットと、該主発振ユニットの発振する高周波信号を入力し、高周波電力として出力する出力ユニットと、該高周波電力を変圧する出力トランスと、該変圧した高周波電力の周波数を調整して超音波振動子に出力するマッチング調整回路と、交流電源から入力した電力を直流として前記出力ユニットに供給する電源ユニットとを具備し、前記出力トランスとマッチング調整回路が一体となっているものであることを特徴とする超音波発振器。 （もっと読む）

【課題】大型のモールドを製造する場合でも短時間で斑なく乾燥でき、シミの発生を抑制できるモールドの製造方法と、この製造方法に好適に用いられる乾燥装置の提供。
【解決手段】周面に微細凹凸構造を有する円筒状のモールド本体１０を乾燥させる乾燥装置１において、モールド本体１０を回転させる回転手段２０と、回転するモールド本体１０の周面に一定幅でエアを吹き掛け、モールド本体１０を乾燥させる第１のエアノズル３０と、エアの吹き掛けと同時に、エアが吹き掛かっていないモールド本体１０の周面に水を吹き掛ける水掛ノズル４０とを備えた乾燥装置１、および円筒状の基材の表面に微細凹凸構造を形成し、モールド本体１０を得る微細凹凸形成工程と、モールド本体１０を洗浄する洗浄工程と、洗浄後のモールド本体１０を前記乾燥装置１を用いて乾燥する乾燥工程とを有するモールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来から高濃度酸素溶解水の製造は種々の方法で行われてきたが、いずれも得られる濃度が不十分であったり、コスト的に実現が難しかったりした。本発明は、高濃度酸素溶解水を簡単かつ安価で製造できる方法や装置を提供する。
【解決手段】酸素含有気泡を有する２以上の水流３４を衝突させることにより前記気泡をより微細化するとともに、気泡中の酸素を前記水流中に大量に溶解させる。両水流は両水流の流速の和に等しい速度で衝突するが、その衝撃は単独の水流が静止面に衝突する際の数倍から十数倍に達し、各水流に最大限の衝撃が与えられ、水流中の気泡が破壊されて微細化し、気泡中の酸素の水流中への溶解が促進される。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムを効果的に除去することができるバイオフィルム除去剤、および、バイオフィルム除去用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
［化１］


（式中、ｎは２以上の整数である。）で表されるポリリジンからなるバイオフィルム除去剤、および、このバイオフィルム除去剤を含有するバイオフィルム除去用組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】ガスタービン翼を補修・再生する際に、ガスタービン翼母材の機械的性質の変化を低減させること。
【解決手段】ガスタービン翼１Ａの内部に設けられた内部冷却媒体通路内に強アルカリ性洗浄液、水、弱酸性洗浄液を供給し、かつ、流通させる洗浄液・洗浄水供給手段６０，６１が、支持手段２の底部に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物の洗浄に対して、優れた洗浄効果を発揮する溶剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）ノルマルプロピルブロマイドを１５重量％〜５５重量％、（ｂ）Ｎ−メチル−２−ピロリドンを４０重量％〜８０重量％、及び（ｃ）添加剤を０．５〜５重量％からなることを特徴とする、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 高密度で柱状部品を整列配列しても洗浄力が高く、一つの柱状部品で洗浄目的が部分的に異なる場合でも各々の目的に合致した洗浄を同時に行う。
【解決手段】 打錠機の臼や杵と呼ばれるような柱状部品Ｂ１，Ｂ２を多数個収納する装置本体３と、装置本体３に上方から蓋をする蓋体２を備え、前記蓋体２に回転可能に取り付けられた管７に多数個のノズルＮ１が取り付けられ、洗浄水供給手段から供給する洗浄水Ｗを管７を介して回転しながらノズルＮ１から噴射する。 （もっと読む）

【課題】耐圧仕様でない通常の反応容器にも適用可能であり、より穏やかな条件でアクリル共重合体由来の架橋体やゲルをきれいに洗浄できる方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性アクリル共重合体を合成したステンレス鋼製反応容器中の熱可塑性アクリル共重合体由来の付着物を除去するための洗浄方法であって、１質量％以上１５質量％未満のアルカリ金属水酸化物と、３質量％以上５０質量％以下の炭素数２または３の１価アルコール１種以上とを含有する洗浄水溶液を用いて洗浄することを特徴とする反応容器の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラス基板から成る半導体フォトマスクやナノインプリントテクノロジーにおいて、使用されているレジスト膜と、レジスト膜の上に形成されている保護膜を同時に除去することができ、不要となった膜成分を容易に回収でき、剥離させるための溶剤を長く使用することができると共に、レジスト膜又は保護膜の除去能力及び膜の除去にかかるタクトタイムを改善できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板表面にレジスト膜が被覆された合成石英ガラス基板を、テルペン類が溶解している溶剤に浸漬して、上記レジスト膜を剥離し、次いで当該基板を水リンスする。 （もっと読む）

【課題】湿潤および浸透効果に優れるため、配向膜基板上に存在する汚染物質に対する洗浄効果に優れた洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、アルカリ化合物を含まない洗浄液組成物であって、組成物の総重量に対して、Ｃ１〜Ｃ５の低級アルコール０．１重量％〜１５重量％、水溶性グリコールエーテル化合物０．１重量％〜１５重量％、有機リン酸０．０１重量％〜１０重量％、アゾール系化合物０．００１重量％〜１０重量％、および残量の水を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、煩雑な水切り溶剤の組成管理を必要とせず、かつ水切り性に優れた水切り乾燥方法、および水切り乾燥システムの提供を目的とする。
【解決手段】特定の条件を満たすハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルからなる群から選ばれる１種以上のフッ素系溶剤（Ａ）を含む沸騰状態の水切り溶剤に、水またはアルコール水が付着した物品を浸漬させて該物品に付着した水分を蒸発させ、該物品を乾燥させる水切り乾燥工程を有する水切り乾燥方法。また、該水切り乾燥方法に使用する水切り乾燥システム。 （もっと読む）

【課題】水の沸騰効率や水及び蒸気の流れ等を前述したような従来法よりもさらに回復できるようにすることが近年強く望まれている。
【解決手段】原子力発電設備の蒸気発生器の伝熱管１１１の外面や管支持板１１２の穴部１１２ａに生成したスケール１０１の処理方法であって、有機酸を０．５〜３．５重量％含有すると共にｐＨ２〜３．５となる処理液を２０〜４０℃でスケール１０１に２〜３０日間接触させることにより、スケール１０１を脆化させると共に、ポーラスな状態にする。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】液晶汚れに対する洗浄力が高く、かつ、均一な液状組成物である液晶除去用洗浄剤組成物、及び液晶パネルの洗浄方法の提供。
【解決手段】式（１）で表される芳香族化合物と、水と、式（２）［Ｒ^３はアルキル基、アルケニル基、フェニル基又はベンジル基。ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｑはＡＯの平均繰返し数を示す１〜５０の数。］で表される化合物、炭素数７〜２２のアルキル基又はアルケニル基を有するノニオン界面活性剤及び炭素数１〜３の1価アルコールから選択される少なくとも一種と、アミン化合物、アミンオキサイド及び第四級アンモニウム化合物から選択される少なくとも一種とを含有する洗浄剤組成物。
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【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤及び、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤と化１の化学式（Ｉ）で表されるアザアダマンタン型ニトロキシルラジカルを含むことを特徴とする分離膜用洗浄剤。
【化１】


（但し、Ｒ_１およびＲ_２は、水素原子または炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基を示す。）
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【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性ポリマー0.01〜20質量％、（Ｂ）キレート剤：0.01〜30質量％、（Ｃ）水：40〜99.9質量％を含む水溶性洗浄剤組成物であって、前記アニオン性ポリマー（Ａ）は、（Ａ−１）炭素数２〜８のエチレン系不飽和モノマーの少なくとも１種と、（Ａ−２）スルホ基（ＳＯ_３Ｈ）を含むエチレン系不飽和モノマー及びカルボキシル基（ＣＯＯＨ）を含むエチレン系不飽和モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種のアニオン性不飽和モノマーとの共重合体である、水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い洗浄性と高い保存安定性とが両立された硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うガラス表面の洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（成分Ａ）と、非イオン性界面活性剤（成分Ｂ）と、キレート剤（成分Ｃ）と、水（成分Ｄ）と、一般式（１）および一般式（２）から選ばれる少なくとも１種のカルボン酸化合物(成分Ｅ)と、一般式（３）で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１種のアニオン性界面活性剤(成分Ｆ)とを含有してなり、含有量比〔成分Ｅ（重量％）／成分Ｂ（重量％）〕が１／１．５〜１５／１であり、含有量比〔成分Ｆ（重量％）／成分Ｂ（重量％）〕が１０／１〜１／５であり、２５℃でのｐＨが１２以上である、硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉ−Ｐメッキしたアルミ基板に由来するニッケルイオン、ステンレス製の洗浄設備等に由来する鉄イオンの再析出に対して優れた溶解性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで一旦吸着した後、基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつパーティクルの再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を分子内に有するキレート剤（Ａ１）、ホスホン基もしくはリン酸基を分子内に有するキレート剤（Ａ２）および脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）