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Fターム[3C043BA17]の内容

円筒・平面研削 (5,214) | 汎用平面研削 (896) | 工作物の供給、排除 (46)

Fターム[3C043BA17]に分類される特許

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【課題】加工室カバーを小型化できると共に、加工室カバーの外部でキャリアプレートに対するワークの着脱を行うことができる両頭研削盤を提供する。
【解決手段】両頭研削盤1において、キャリアプレート30は、キャリア軸23を中心とする90度未満の中心角αを持つ扇形の外形形状を呈すると共にワークポケット33が複数形成された一対のキャリア部31,32を有し、キャリア軸23は、当該キャリア軸23の中心線CLの延長方向から見て、加工室カバー40の内外の境界部に設置され、キャリア軸23の回転に従って、キャリア部31,32が加工室カバー40の内部に対して出入りする。 (もっと読む)


【課題】研削装置のチャックテーブルに保持されていた円形板状ワークの被保持面側が保持部材によって保持されている場合において、被保持面のうち保持部材によって保持されている部分も洗浄できるようにする。
【解決手段】洗浄部材621に、搬出手段が保持した円形板状ワークの被保持面Tを接触させ、洗浄手段を構成する回転防止部材82を上昇させ被保持面Tに接触させて洗浄部材621の回転動作によって被保持面Tのうち回転防止部材82が接触している箇所以外の部分を洗浄し、その後、回転防止部材82を下降させて、被保持面Tのうち回転防止部材82が接触していた部分を露出させ、洗浄部材621を所定角度回転させることによって円形板状ワークが当該所定角度と同じ角度回転した後、再び回転防止部材82を上昇させ被保持面Tに接触させて洗浄部材621の回転動作によって被保持面Tの未洗浄部分を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】 サファイア基板を高スループットで平坦化加工して薄肉化した反りのない異物の付着が少ない加工基板を製造することができる平坦化加工装置の提供。
【解決手段】 3軸の研削砥石ヘッド34h,34h,34hを備える研削装置30と、2基のワーク吸着ヘッド22,22を備えるラップ盤20間のサファイア基板の移送を多関節型搬送ロボット4のアーム4aを利用して行う。 (もっと読む)


【課題】搬送による位置ずれが発生した被加工物を研削室内に移動する前に取り除くことができ、自動運転の続行可能な機能を持つ加工装置を提供する。
【解決手段】ワーク位置ずれ検出装置3を備える加工装置1であり、搬送アーム31に位置ずれ検出手段40を備え、検出手段40は、ワーク外周部近傍のワークW上で検出光を投光する投光部41aと検出光がワークWで反射し受光する受光部41bとからなる位置ずれ検出センサー41と、受光量を数値で算出する演算部412と、算出値が予め設定したしきい値以上の時は動作を続行し、予め設定したしきい値を下回る時はワークWを取り除く指示のメッセージを画面に表示する判断部413とを備える。ワークWの位置ずれが発生してもワークWが研削室9b内に移動する前にワークWを取り除くことができ、加工装置1の自動運転も続行可能となるため、被加工物の生産性の向上を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】 ウエーハの粗研削及び仕上げ研削が効率良くできるとともに設置面積が小さいマニュアルタイプの研削装置を提供することである。
【解決手段】 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブルに被加工物を搬出入する搬出入位置と該チャックテーブルに保持された被加工物を研削する研削位置とに該チャックテーブルを位置付ける位置づけ手段とを備えた研削装置であって、該研削手段は、該搬出入位置と該研削位置とを結ぶ直線上に配設された第1の研削手段と第2の研削手段とを含み、該チャックテーブルに対して該第1の研削手段を接近及び離反させる第1の研削送り手段と、該チャックテーブルに対して該第2の研削手段を接近及び離反させる第2の研削送り手段と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 透明板状物の外周エッジを的確に検出できるエッジ検出装置を提供することである。
【解決手段】 第1面及び該第1面と反対側の第2面を有する透明板状物のエッジを検出するエッジ検出装置であって、透明板状物より小さい支持面を有し該支持面で透明板状物の該第1面側を支持する支持台と、該支持面より下方に配設されて該支持台で支持された透明板状物の該第1面に向かって光を照射する光源と、該光源と該支持面との間に配設されて該光源から透明板状物の外周エッジに照射される光を遮光するとともに、該支持台を囲繞する透明板状物のサイズより小さい開口を備え、該開口を通して該光源から照射された光の一部を透明板状物に照射するマスク部と、該支持面に対面して配設されて該光源からの光が照射された透明板状物の第2面側を撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像された撮像画像に基づいて透明板状物の外周エッジを検出するエッジ検出部を有する制御手段と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 円筒状インゴットの四側面剥ぎスライシング装置と四角柱状インゴットの四隅Rコーナー部と四側面の研削面取り加工装置をインライン化して複合面取り加工機に設計する際、一方の装置で面取り加工しているときに他方の装置でもインゴット面取り加工できる装置の提供。
【解決手段】 インゴットのクランプ機構を一対7,7’用い、かつ、スライシングステージ90と研削面取り加工ステージ11間を結ぶライン上にインゴットの受け渡しステージ80を新たに設け、インゴットのローディングステージ8Rとアンローディングステージ8Lをそれぞれ前記クランプ機構待機位置70と60の正面前側に設けた複合面取り加工装置1。 (もっと読む)


【課題】研削加工装置の搬送ロボットの電池の残量がなくなることによって搬送ロボットにおける各軸の位置の記憶が消えないようにする。
【解決手段】主電池部55aの残量がなくなった場合等に使用する予備電池部55bを電池部55に備え、主電池部55aの残量がなくなった場合でも予備電池部55bからの電力供給によって記憶部54の記憶内容を維持し、搬送ロボット5の軸部51a〜51dの位置に関する情報が記憶部54において保持されるようにする。また、記憶部54への電力の供給源が主電池部55aから予備電池部55bに切り替わった際に予備電池部55bが使用されていることをオペレータに知らせる警告部57を備え、主電池部55aの残量が少なくなった場合又はなくなった場合に主電池部55aを迅速に交換することを可能とする。 (もっと読む)


【課題】加工対象のワークを効率的に研削、研磨するための表面加工装置を提供する。
【解決手段】表面加工装置20のロードユニット30において、ワークWはトランスファチャック10に吸着させる。そして、トランスファチャックに固定されたワークWは、研削ユニット40に搬送され、研削が行なわれる。研削を終了した場合、トランスファチャック10に固定されたワークWは、研磨ユニット50に搬送される。そして、ワークWが一括処理枚数に達した場合には、バッチ処理により研磨が行なわれる。研磨を終了した場合、トランスファチャック10に固定されたワークWは、ロードユニット30に搬送される。そして、トランスファチャック10からワークWが取り外されて、それぞれ洗浄される。このトランスファチャック10には、新たなワークWを吸着させる。 (もっと読む)


【課題】回転ブラシの磨耗の程度を良好に検出して、回転ブラシとワークとの間隔を良好に自動的に調整し、表面処理作業の効率化を図る。
【解決手段】回転ブラシ10,20の回転によって空気流が発生すると、流速計100で空気流の流速Vが検出される。演算部210は、外部メモリ250の流速−ブラシ径データ254を参照し、検出した流速Vに対応するブラシ直径Dを得る。演算部210では、得られたブラシ直径Dと、ブラシ初期位置Pと、ワーク厚さWTとから、ブラシ位置調整量ΔPを演算する。このブラシ位置調整量ΔPの値に基づいて、昇降機構12,22によって回転ブラシ10,20の位置調整が行なわれる。 (もっと読む)


【課題】 被研削材の研削加工時間を短縮できるドレッサ付き複合平面研削装置の提供。
【解決手段】 左右方向に往復移動するワークテーブル31上に載置された被研削物の表面を、第一研削砥石車26aを備える砥石ヘッドと第二研削砥石車26bを備える砥石ヘッドの一対で研削加工するドレッサ付き複合平面研削装置1であって、前記研削砥石車26a,26bはワークテーブル31後端の略中央部に据え付けたロータリードレッサ40で寸法精度よくドレス成形可能である。砥石車の交換が不要であるのでワークの研削加工時間が短縮できる。 (もっと読む)


【課題】 半導体基板裏面を高スループットで研削、研磨加工し、基板を薄肉化・平坦化することができる異物の付着が少ない半導体基板を製造する平坦化加工装置の提供。
【解決手段】 半導体基板のローディング/アンローディングステージ室11a、裏面研磨ステージ室11c、エッジ研削および裏面研削加工ステージ室11b内に各々の機械要素を収納した平坦化装置1であって、同時に2枚の基板を研磨加工する裏面研磨ステージ70のスループット時間を1枚の基板を研削加工する裏面研削加工ステージ20のスループット時間の約2倍に設計した平坦化加工装置1。 (もっと読む)


【課題】研削装置を、板状物を保持した保持テーブルごと搬送する構成とした場合においても、保持テーブルを支持する支持台が有する鉛直方向の回転軸に対して直角な面を容易に精度良く得ることができるようにする。
【解決手段】ワークを保持する保持テーブル2を回転可能に支持する回転支持台8a、8b、8cと、保持テーブル2の保持面に保持されたワークに対向配置された研削工具30を有する研削機構3a、3bと、保持面にワークを保持した保持テーブル2を回転支持台8a、8b、8cに搬入搬出する搬送機構9とを有する研削装置において、回転支持台8a、8b、8cにおいて保持テーブル2の下面を下側から支持する支持面811を、研削工具30によって研削可能な被研削部材によって形成し、支持面811の研削により、支持面811を回転支持台の鉛直方向の回転軸に対して直角な面とする。 (もっと読む)


【課題】より省スペースな装置で、大型の板状物を研削・研磨できる研削装置を提供すること。
【解決手段】研削機構4は、一方向に沿って第一研磨ユニット43、粗研削ユニット41、仕上げ研削ユニット42及び第二研磨ユニット44の順に配設している。保持機構3は、第一研摩ユニット43側に配置された第一チャックテーブル311と、第二研摩ユニット44側に配置された第二チャックテーブル312とを有する。制御機構6は、保持機構3を、第一、第二チャックテーブル311、312が第一研磨ユニット43、粗研削ユニット41に対向する第一加工位置と、第一、第二チャックテーブル311、312が粗研削ユニット41、仕上げ研削ユニット42に対向する第二加工位置と、第一、第二チャックテーブル311、312が仕上げ研削ユニット42、第二研磨ユニット44に対向する第三加工位置とに順に位置付ける。 (もっと読む)


【課題】 仮置き手段に位置づけられた反りのあるウエーハをウエーハ搬入機構によって確実に吸引保持できるとともに、チャックテーブルで確実に吸引保持できる研削装置を提供することである。
【解決手段】 研削装置であって、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削ホイールを有する研削手段と、該チャックテーブルにウエーハを搬入するウエーハ搬入手段と、該ウエーハ搬入手段が搬入すべきウエーハを仮置きする仮置き手段と、複数のウエーハが収容されたカセットからウエーハを取り出し該仮置き手段にウエーハを搬送するウエーハ搬送手段とを具備し、該ウエーハ搬入手段は、ウエーハの外径よりも小さい外径の吸着面を有する吸引保持部と、該吸引保持部で保持されたウエーハの外周を押圧する押圧指が該吸引保持部を囲繞して円周方向に等間隔離間して3個以上配設された押圧部とを含む吸着パッドと、該吸着パッドを移動する搬送アームと、から構成されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】環状フレームに支持されたワークを位置決めするものにおいて、突き当てブロックの取付位置の調整作業の作業性を向上させると共に、高い位置決め精度を実現することができる位置決め機構および研削装置を提供すること。
【解決手段】環状フレーム72に半導体ウェーハWを支持したワークユニット71が載置される載置台25と、載置台25の目標位置決め位置を囲うように4つ配置され、目標位置決め位置を挟んでそれぞれ対向すると共に、ワークユニット71の外周面に突き当たる2組の突き当てブロックとを備え、2組の突き当てブロックは、平坦な突き当て面を有する平面突き当てブロック27と、湾曲した突き当て面を有する凸面突き当てブロック28とからなり、それぞれ対向する突き当てブロックの少なくとも一方が他方に対して進退可能であり、環状フレームが平面突き当てブロックに面接触する平坦面を有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】 スピンナテーブルと搬送手段との衝突を未然に防止可能な研削装置を提供することである。
【解決手段】 スピンナテーブルを有するスピンナ洗浄装置と、該スピンナ洗浄装置で洗浄された被研削物を搬送する搬送手段とを備えた研削装置であって、該スピンナテーブルは、選択的に装着可能な小径の第1スピンナテーブルと、大径の第2スピンナテーブルとから構成され、前記研削装置は、該第1スピンナテーブルが装着されている場合には、被研削物を下取りして搬送する第1搬送モードと、該第2スピンナテーブルが装着されている場合には、被研削物を上取りして搬送する第2搬送モードとを含む加工条件を記憶する記憶手段と、装着されているスピンナテーブルのサイズが第1スピンナテーブルか又は第2スピンナテーブルかを検出するスピンナテーブル検出手段と、を更に具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】カセットとの突き当りによる破損を防止することにより、環状フレームに貼着テープを介して支持されたワークを安全にカセット内に収納させることができるワーク収納機構および研削装置を提供すること。
【解決手段】貼着テープ83を介して環状フレーム82の開口部に半導体ウェーハWを支持したワークユニット81を支持するワークユニット支持部73と、ワークユニット支持部73を移動させて、ワークユニット81を搬出用カセット6内に収納させる移動機構71、72とを備え、ワークユニット支持部73は、ワークユニット81に水平方向の遊びを持たせた状態で、ワークユニット81の下面を支持する構成とした。 (もっと読む)


【課題】洗浄液の周囲への飛散を防止しつつ研削加工前のワークの被保持面を十分に洗浄すること。
【解決手段】本発明のある実施の形態において、研削装置1は、位置決め手段9と搬入搬出位置に位置する保持手段6aとの間のワークの搬送経路途中に配設され、ワークが保持手段6aに搬送される前にこのワークの保持手段6aによって保持される被保持面を洗浄する事前洗浄手段12を備える。また、研削装置1は、ワークの搬送経路途中の事前洗浄手段12と位置決め手段9との間に配設され、事前洗浄手段12による洗浄時に発生する位置決め手段9側への洗浄液の飛散を防止する洗浄液飛散防止手段15を備える。 (もっと読む)


【課題】砥石ローラの砥石径をできる限り小さくして、接触抵抗を小さくでき、砥石ローラの撓みを防止できる研磨設備を提供する。
【解決手段】板状の被加工物1を支持搬送するコンベヤ装置11を設け、コンベヤ装置による搬送経路10中に研磨ゾーン20を形成するとともに、研磨ゾーンに研磨装置21を配設した。研磨装置を、搬送経路の方向の複数箇所に設けた砥石ローラ22と、各砥石ローラに上方から当接するバックアップローラ35から構成した。研磨作用している砥石ローラが上方に撓もうとすることを、砥石ローラに上方から当接しているバックアップローラによって阻止でき、砥石ローラの径を小さくしながらも、常に均一な研磨を安定して行える。砥石ローラの径を小さくできることで、被加工物に対する砥石ローラの接触する円弧長さを短くでき、接触抵抗(接触圧力)を減少できて、研磨時における発熱を低く抑えることができ、研磨送り速度を速くできて研磨能率を向上できる。 (もっと読む)


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