説明

Fターム[3C081CA28]の内容

マイクロマシン (28,028) | プロセス (6,263) | 加工方法、手段 (4,742) | 付加加工 (2,027) | 成膜 (1,166) | PVD (329) | スパッタリング (222)

Fターム[3C081CA28]に分類される特許

221 - 222 / 222


本発明は、静電気を用いた従来のマイクロミラーの欠点を克服した、2種類のディスクリート制御マイクロミラー(DCM)を提供する。第1の類型のマイクロミラーは、静電気による従来のマイクロミラーよりも変位範囲の大きい可変支持ディスクリート制御マイクロミラー(VSDCM)である。VSDCMの変位の正確性は、静電気による従来のマイクロミラーよりも好適であり、かつ動作電圧はIC構成部品に適応している。DCMの第2の類型は、セグメント電極ディスクリート制御マイクロミラー(SEDCM)であり、静電気による従来のマイクロミラーと同様の欠点を有している。しかし、SEDCMは、公知のマイクロ電子工学技術に適応される。
(もっと読む)


本開示の実施の形態は、微小電気機械デバイスパッケージを製造するためのシステムおよび方法を提供する。簡単に述べると、構造において、中でも、システムの1つの実施の形態は、基板層に形成された微小電気機械デバイスと、微小電気機械デバイスの少なくとも一部を保護する熱分解可能な犠牲構造物と、を含み、犠牲構造物は基板層に形成され、微小電気機械デバイスの活性表面を取り囲むキャビティを囲繞する。他のシステムおよび方法も提供される。
(もっと読む)


221 - 222 / 222