【課題】パーティクルの発生を低減した、透明導電性膜を形成するためのスパッタリング装置を提供すること。
【解決手段】スパッタリング装置３００は、基板を保持する基板保持部３０１と、基板保持部３０１とオフアクシスな位置に配置された対向するマグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂと、マグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂを収容するカソードボックス３０３と、マグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂの周囲に配置された防着板３１１および３１２とを備える。マグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂ上には、透明導電材料のターゲットがボンディングされる。基板保持部３０１とマグネティックカソード３０２Ａおよび３０２Ｂとの間にチムニー３０４が設けられている。本発明に係る防着板３１１および３１２は、ターゲットの透明導電材料と同程度の熱膨張係数を有する材料によりコーティングされている。 （もっと読む）

【課題】周辺垂直駆動回路の規模縮小化及び駆動線の配線本数削減化が可能な表示装置を提供する。
【解決手段】駆動部は、列状の信号線に映像信号を供給する水平駆動回路ＨＳＥＬと、行状の第１駆動線ＷＳ及び第２駆動線ＤＳを介して画素ＰＩＸを行単位で発光動作させる第１垂直駆動回路ＷＳＣＮ及び第２垂直駆動回路ＤＳＣＮとを備え、以って映像信号に応じた画像を画素アレイ部に表示する。第１垂直駆動回路ＷＳＣＮは、互いに隣り合う２行の画素ＰＩＸを同時に駆動し、第２垂直駆動回路ＤＳＣＮは、互いに隣り合う２行の画素ＰＩＸを同時に駆動し、第１垂直駆動回路ＷＳＣＮで同時駆動する画素行の対と、第２垂直駆動回路ＤＳＣＮで同時駆動する画素行の対とを互いに１行分づらすことにより、画素ＰＩＸが行単位で発光動作する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング装置及びスパッタリング装置を使用した平板表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】チャンバ内部に設置されて基板を支持する基板支持部と、基板上に蒸着されるターゲット物質を含むターゲット部と、基板のエッジを取り囲むように基板と所定間隔離隔されて配置されるマスク部と、マスク部を支持し、アース電位に接続されるシールド部と、マスク部とシールド部とを結合させ、絶縁性物質を含む絶縁部材と、スパッタリング装置の非放電時に、マスク部の短絡如何を検出できるマスク短絡検出手段と、を備えるスパッタリング装置である。 （もっと読む）

【課題】連続塗布による単純な工程で製造可能なウエブ状電極材料を開示する。
【解決手段】ウエブ状の基材と、電極層と、機能層が該順に設けられたウエブ状電極材料であって、
前記電極層は、基材の幅方向両端および長手方向にそれぞれ一定の規則性を持った余白を残して、複数個が並んで設けられており、
前記機能層は、基材の長手方向に連続塗布して設けられたものであり、かつ、各電極層の一部がそれぞれむき出しになるように設けられていることを特徴とするウエブ状電極材料。 （もっと読む）

【課題】異物によるリーク箇所を良好に修復する。
【解決手段】本発明の電気光学装置の製造方法は、第１電極５０と第２電極６０との間に電気光学物質層７０を有する電気光学装置の製造方法である。第１電極５０を形成する工程と、第２電極を形成する工程６０と、電気光学物質層７０を形成する工程と、電気光学物質層７０が形成された第１電極５０と第２電極６０との間の異物Ｐを検出する検出工程と、検出工程で検出された異物Ｐにおける少なくとも第２電極６０との接触部分を平面視した状態で環状に囲うように、第２電極６０における電気光学物質７０層と反対側からレーザー光Ｌを照射することにより、第２電極５０を貫通するとともに第１電極５０に到達しない溝部６５を形成し、溝部６５に囲まれる部分をその周辺の第２電極６０から島状に切り離すレーザーリペア工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】無機酸化物からなるキャリア輸送層の導電率や透過率が調整され、また、無機酸化物層のぬれ性を改善することで簡易なプロセスにより製造することができる信頼性の高い有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】第一電極と、前記第一電極に対向する第二電極と、前記電極間に設けられたキャリア輸送層および有機発光層を含む発光媒体層とを備えた有機ＥＬ素子において、前記キャリア輸送層は、成膜した後に酸化処理を行うことで得られた無機酸化物層であることを特徴とする有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】新たに配線を設けることなく、信号線、走査線、又は電源線等の各種の配線において、同層間のショートや異層間のショートが発生した際に、そのショート部分を簡単かつ迅速に修復できるようにし、発光素子の発光不良を改善できるようにする。
【解決手段】発光素子の１つである有機ＥＬ素子を発光させるために必要な第１配線（例えば、電源線５３）と、絶縁膜を介して第１配線と交差するように設けられ、第１配線の一部を代替するバイパスラインを形成可能な第２配線（例えば、冗長配線５６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】画素周辺部での機能層の膜厚不均一性に起因する、発光領域の狭小化、周辺部でのリーク電流の増加または機能層の剥がれ等の膜厚不均一性への対策を提供する。
【解決手段】基板と、基板の上に形成された機能層と、機能層の端部を覆う端部被覆層とを備え、機能層は、端部被覆層で覆われない機能領域を有する電子デバイスを提供する。当該機能層は、端部被覆層で覆うことにより非機能化された非機能領域をさらに有して、端部被覆層は、基板と機能層との間の接着力より大きい接着力で基板に接着する。 （もっと読む）

【課題】高信頼性の高輝度発光素子を実現する。
【解決手段】本発明の化合物は、融点やガラス転移温度が高く、その蒸着等により成膜される薄膜は、透明で室温以上でも安定なアモルファス状態を形成し、平滑で良好な膜質を示す。従って、バインダー樹脂を用いることなく、それ自体で薄膜化することができる。本発明の有機ＥＬ素子は、上記化合物を有機化合物層、特に好ましくは正孔注入輸送層に用いるため、ムラのない均一な面発光が可能であり、高輝度が長時間に渡って安定して得られ、耐久性・信頼性に優れる。 （もっと読む）

【課題】表示品質の優れた表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる表示装置は、ＴＦＴ１０８を有する画素１０５を複数備える。そして、ゲート電極７と、ゲート電極７と異なるレイヤーに形成されたソース・ドレイン電極１４、１５と、複数の画素１０５に亘って延在し、ゲート電極７及びソース・ドレイン電極１４、１５と異なるレイヤーに形成され、ソース電極１４と電気的に接続される電源供給配線９と、電源供給配線９上に形成された平坦化膜１６と、平坦化膜１６上に形成されたアノード電極１８と、アノード電極１８上に形成され、上面視にて電源供給配線９の外側で、アノード電極１８上に開口部２４を有する分離膜１９と、開口部２４においてアノード電極１８上に形成された電界発光層２０と、電界発光層２０上に形成されたカソード電極２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置において、並走する配線の異物によるショートを防止する。
【解決手段】電源供給線１０５DSL と映像信号線１０６HSの画素回路Ｐの内側を上層配線にする。書込走査線１０４WSを下層配線にする。映像信号線１０６HSは、同層の電源供給線１０５DSL と交差する部分をオーバーラップさせる必要があるので下層配線にする。映像信号線１０６HSの上層配線を隣接する次行の画素回路Ｐの境界まで延在させ、次行の同層の電源供給線１０５DSL と交差する部分でオーバーラップさせる。異なる配線層にレイアウトされている書込走査線１０４WSと電源供給線１０５DSL は、導電性を有する異物が何れか一方の層に載っていても、書込走査線１０４WSと電源供給線１０５DSL が異物で接続される事態は起きない。 （もっと読む）

【課題】狭額縁でも高い封止性能を得られ、小型で長寿命化した発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置１０は、少なくとも発光層を含む発光素子１４と、発光素子１４を駆動するためのスイッチング素子１８と、少なくとも発光素子１４とスイッチング素子１８とを接続する積層された配線２０と、発光素子１４とスイッチング素子１８と積層された配線２０とを配設する基板１２と、基板１２上に封止部材２６を介し配設され、発光素子１４を覆う封止基板１６と、を含み、封止基板１６は、基板１２と対向する面に、凹部３７と凸部３９とを有し、凹部３７は、発光素子１４、スイッチング素子１８、及び積層された配線２０が配設される各配設面とオーバーラップするように配設され、凸部３９は、凹部３７の外周に配設され、封止部材２６は、発光素子１４の外周を取り囲み、凹部３７の少なくとも一部と、凸部３９の少なくとも一部と、に配設されている。 （もっと読む）

本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される層である導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる導電性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されていて充填用材料とは別のものでもそうでなくてもよい導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０⁵Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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【課題】簡素な構造で放熱性に優れ、かつ短絡による発光不良を生じにくい有機ＥＬ装置および該有機ＥＬ装置を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】支持基板１０と封止基板３０と有機エレクトロルミネッセンス素子２０とを備える有機エレクトロルミネッセンス装置１Ａであって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が、前記支持基板上に搭載されていると共に前記支持基板と前記封止基板の間に囲繞されており、前記支持基板または前記封止基板のいずれか一方は、２Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導度を有する材料で形成され、かつ、前記熱伝導度を有する材料で形成された前記支持基板および／または前記封止基板の一面であって前記装置の外装を構成する面の表面粗さ（Ｒａ値）が１０ｎｍ以上、１ｍｍ以下であり、前記熱伝導度を有する材料で形成された基板と前記有機エレクトロルミネッセンス素子との間に絶縁層４０が介在する、有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる絶縁性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されている導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０５Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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【課題】補助配線と上下に重なり合う駆動用配線（例えば、信号線、電源線等）のショートの発生を抑制し、アクティブマトリックス型表示装置の歩留りの向上を図る。
【解決手段】発光素子の１つである有機ＥＬ素子２０のアノード電極（下部電極）と同一層に設けられ、カソード電極（上部電極）の電気抵抗を調整するための補助配線５４と、絶縁膜を介して補助配線５４の下層に設けられ、有機ＥＬ素子２０を駆動するための信号線５１等とを備え、補助配線５４と信号線５１等とが上下に重なり合う位置では、信号線５１が迂回して配線されている。 （もっと読む）

【課題】狭額縁でも高い封止性能を得られ、小型で長寿命化した発光装置が提供する。
【解決手段】発光装置１０は、少なくとも発光層を含む発光素子１４と、発光素子１４を駆動するためのスイッチング素子１８と、少なくとも発光素子１４とスイッチング素子１８とを接続する積層された配線２０と、発光素子１４とスイッチング素子１８と積層された配線２０とを配設する基板１２と、基板１２上に複数の封止部材を介し配設され、発光素子１４を覆う封止基板１６と、を含み、複数の封止部材は、第１及び第２の封止部材２６，２８を含み、第１の封止部材２６は、発光素子１４の外周を取り囲み、発光素子１４、スイッチング素子１８、及び積層された配線２０が配設される各配設面の少なくとも一部の配設面とオーバーラップするように配設され、第２の封止部材２８は、第１の封止部材２６の外周を取り囲んでいる。 （もっと読む）

【課題】所定の素子分離膜のテーパ形状を有する有機ＥＬデバイスの製造装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、基板と、駆動回路及び配線と、平坦化層と、下部電極と、素子分離膜と、有機層と、上部電極を有し、前記素子分離膜はドライエッチングによって形成されてなる有機ＥＬデバイスの製造装置において、前記素子分離膜のテーパ形状を検出する手段と、前記検出された信号に基づいて前記素子分離膜をドライエッチングする手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】例えば、有機ＥＬ装置における陽極及び陰極間に生じる短絡不良を低減する。
【解決手段】基板（１０）上の画像表示領域（１１０）を構成する複数の画素領域（７０ｇ）の夫々に形成された陽極（９ａ）の一部が陽極（９ａ）上に向かって突出した部分である凸部（２０１）が露出するように陽極（９ａ）上にレジスト膜（２１０）を形成する。特に、レジスト膜（２１０）の膜厚を凸部（２０１）の高さより小さくすることによって、レジスト膜（２１０）を形成しただけでレジスト膜（２１０）から凸部（２０１）が露出することなり、レジスト膜（２１０）上からエッチング処理を施すことによって、レジスト膜（２１０）から露出した凸部（２０１）がエッチングされ、凸部（２０１）を簡単に除去可能である。 （もっと読む）

【課題】 陰極の電子注入障壁を低く維持したまま、陰極を厚膜化して電気抵抗を下げ、低電圧駆動を可能にしても、リーク修復性に優れ、且つ機械的な信頼性に優れた有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】 陽極５と、有機発光層を含む有機ＥＬ層６と、陰極９とが順次積層された有機ＥＬディスプレイにおいて、陽極５がデータラインを形成し、陰極９がデータラインに直交するスキャンラインを形成しており、陰極９が、有機ＥＬ層６に一方の面が接する第１金属層７と、この第１金属層の反対面側に存在する第２金属層８との２層以上で構成され、第２金属層８が、第１金属層７の融点よりも低い融点を有する合金で構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）