【課題】高精度でバンク等を製造する方法などを提供する。
【解決手段】フレキソ印刷版上のバンク形成用組成物を被印刷基板上に転写し、転写されたバンク形成用組成物中の溶剤を乾燥除去して、又は転写されたバンク形成用組成物に光を照射して硬化させて、
被印刷基板上に固定化することによってバンクを製造する方法であって、
下記式（１）及び／又は式（２）で表される繰り返し単位からなり、両末端基が水酸基であり、かつ数平均分子量が３００〜５０，０００であるポリカーボネートジオールから製造されるポリマー（ａ）を含有する樹脂組成物を硬化して得られるフレキソ印刷版を用いてバンク形成用組成物を被印刷基板上に転写する、バンクの製造方法。
【化１】


【化２】
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【課題】電極電源供給ラインの損傷が防止された有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】ディスプレイ領域を持つ基板と、基板のディスプレイ領域に配された薄膜トランジスタと、基板のディスプレイ領域の外側に配された電極電源供給ラインと、薄膜トランジスタを覆い、電極電源供給ラインの一部または全部を露出させる第１端部面を持つ第１絶縁膜と、第１絶縁膜上に配され、第１絶縁膜の第１端部面を露出させる第２端部面を持ち、電極電源供給ラインと接触しない第２絶縁膜と、を備える有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】表示品位が良好であり、且つ、長寿命化が可能な表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備えた表示装置であって、
島状の画素中央部１１４Ｃと、この画素中央部１１４Ｃを囲む画素周辺部１１４Ｓとに分割された有機絶縁膜１１４と、
有機絶縁膜１１４上において画素毎に配置され、画素中央部１１４Ｃから画素周辺部１１４Ｓまで延在する第１電極６０と、
有機絶縁膜１１４の画素周辺部１１４Ｓ上において、第１電極６０の周縁を覆うように配置され、各画素を分離する隔壁７０と、
第１電極６０上に配置された有機活性層６２と、
有機活性層６２上に配置され、複数の画素に共通の第２電極６４と、
を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示品位が良好であり、且つ、長寿命化が可能な表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備えた表示装置であって、支持基板上に配置された有機絶縁膜１１４と、
有機絶縁膜１１４の少なくともアクティブエリア１０２に対応した表面を覆うように配置された無機系材料からなるバリア膜１３０と、
バリア膜１３０上において、画素毎に配置された第１電極６０と、
バリア膜１３０上において、第１電極６０の周縁を覆うように配置され、各画素を分離する隔壁７０と、
第１電極６０上に配置された有機活性層６２と、
有機活性層６２上に配置され、複数の画素に共通の第２電極６４と、
を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】要求される特性を満たした半導体装置及びその作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】絶縁表面を有する基板上に、単結晶半導体層を形成し、単結晶半導体層の一部の領域にレーザー光を照射し、単結晶半導体層のレーザー光が照射されていない領域を用いて画素部の回路を形成し、単結晶半導体層のレーザー光が照射された領域を用いて、画素部の回路を駆動する駆動回路を形成することを特徴としている。これにより、周辺回路領域と画素領域とに適した単結晶半導体層を用いた半導体装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】平坦化膜中の水分或いは外部から前記平坦化膜に浸入する水分が絶縁膜が割れた部分を介して発光部に浸入するのを防ぎ、周辺劣化を抑えることができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板の上に形成されており等間隔に複数の開口を有する絶縁膜と、前記基板の上の前記開口に形成されておりそれぞれが発光部を構成する複数の有機ＥＬ素子とを有する有機ＥＬ表示装置である。有機ＥＬ層は最外周の開口よりも内側に形成されており、前記有機ＥＬ層の外周の開口では第１電極と同一の層と、第２電極とが接していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板など耐熱温度が低い基板を用いた場合にも、実用に耐えうる単結晶半導体層を備えたＳＯＩ基板の製造方法を提供することを目的の一とする。また、そのようなＳＯＩ基板を用いた信頼性の高い半導体装置を作製することを目的の一とする。
【解決手段】半導体基板より分離され、絶縁表面を有する支持基板に接合された半導体層に電磁波を照射し、電磁波の照射された半導体層表面に研磨処理を行う。電磁波の照射により半導体層の少なくとも一部の領域を溶融させ、半導体層中の結晶欠陥を低減させることができる。さらに、研磨処理によって半導体層表面を研磨し、平坦化することができる。従って、電磁波の照射と研磨処理によって、結晶欠陥が低減され、かつ平坦性も高い半導体層を有するＳＯＩ基板を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】発光素子を有する表示画素を備える表示装置において、色度と発光強度のばらつき及び視野角依存性を抑制することができる表示装置を提供する。
【解決手段】透明アノード電極１４と厚膜透明電極１９との間には発光層１７が設けられている。また、発光層１７から厚膜透明電極１９側に発光された光を透明アノード電極１４側に反射させる反射メタル２０が設けられている。厚膜透明電極１９は、発光層１７と反射メタル２０との間に設けられ、厚膜の透明な導電性材料から構成されている。 （もっと読む）

【課題】陽極、有機化合物層及び陰極からなる発光素子を有する発光装置において、層間絶縁膜と陽極との温度特性の違いにより生じる発光素子の劣化を防ぐ手段を提供することを課題とする。
【解決手段】絶縁体上に形成されたＴＦＴと、前記ＴＦＴ上に形成された有機樹脂からなる第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上に形成された無機絶縁材料からなる第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜上に形成された透明性導電膜からなる陽極とを有する発光装置。 （もっと読む）

【課題】大きなダークスポットが生じるのを抑制することにある。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ表示装置は、絶縁基板ＳＵＢと、前記絶縁基板ＳＵＢの一方の主面上で配列した複数の画素電極ＰＥと、前記主面を被覆すると共に前記複数の画素電極ＰＥに対応した位置に複数の第１開口が設けられた絶縁樹脂層ＰＩと、前記絶縁樹脂層ＰＩを被覆すると共に前記複数の第１開口に対応した位置に複数の第２開口が設けられた無機物層ＩＬと、前記複数の画素電極ＰＥを被覆した有機物層ＯＲＧと、前記有機物層ＯＲＧと前記絶縁樹脂層ＰＩとを被覆した対向電極ＣＥとを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光特性のバラツキを抑えることができる電気光学装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置１１は、ガラス基板と、回路素子層と、発光素子層と、陰極とを有する。発光素子層は、画素電極３２上に形成された機能層と、機能層を区画するバンク３４とを有して構成されている。バンク３４は、第１下層バンク４１と第２下層バンク４２と上層バンク４３とを有する。また、バンク３４は、アスペクト比の異なる形状の発光領域１２と、発光領域１２の短辺側に形成された円弧４４の領域とを有するトラック状に形成されている。円弧４４の領域には、第１下層バンク４１と第２下層バンク４２と上層バンク４３とが階段状に形成されている。一方、直線４５の領域には、第１下層バンク４１と上層バンク４３とが階段状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】高信頼性で欠陥の少ない発光装置を提供する。また、高信頼性で欠陥の少ない発光装置を作製する方法を提供する。また、高信頼性で欠陥の少ない発光装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】基板上に第１の電極を形成する工程と、第１の電極を覆うように、無機化合物と有機化合物とを含む第１の層を形成する工程と、第１の層における第１の電極上に位置する領域に、選択的にハロゲン原子を添加する工程と、ハロゲン原子を添加した領域上に、発光層を形成する工程と、発光層上に第２の電極を形成する工程とを有する発光装置の作製方法を提供する。この作製方法を用いることで、高信頼性で欠陥の少ない発光装置および電子機器を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】第１の電極のエッジ部分のショート不良を低減できる構成の有機ＥＬ発光素子を提供する。
【解決手段】基板の上に配置された第１の電極と第２の電極との間に、少なくとも発光層を備えた有機ＥＬ発光素子である。第１の電極は、Ｉｎ、Ｇａ、Ｚｎを少なくとも１つ以上含む酸化物からなる透明薄膜であり、前記透明薄膜は水素添加処理又はエネルギー照射処理が施された低抵抗部と、高抵抗部とが形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材上に成膜されたＳｉＮ層の表面を親水化する方法を提供する。
【解決手段】フッ化炭素等のハロゲン含有化合物を含む処理ガスｆ_Ｇをプラズマ空間２２に通し、ＳｉＮ層１２の表面に接触させるプラズマ処理工程を行なう。次いで、ＳｉＮ層１２の表面を水性の洗浄液ｆ_Ｌからなる液流で洗浄する洗浄工程を行なう。 （もっと読む）

本発明は押印プロセスを用いてパターン層を基板上に形成するための方法に関する。本方法によれば、第1の層が基板に供され、凹部のパターンが、パターニング手段を伴った層を押印することによって、第1の層に供される。この後、第1の層が硬化される。硬化の後に、第1の層を親水性にするために、第1の層上へ第1の表面処理を実施するステップと、この後、サブエリアを疎水性にするために、第1の層の表面の選択されたサブエリア上へ第2の表面処理を実施するステップと、が続く。サブエリアは凹部間の表面部分を含み、凹部そのものは含まない。最後に、導電性のパターン材が凹部に蒸着される。
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【課題】有機ＥＬディスプレイにおいて画素を区画する絶縁性媒体あるいは有機層の急峻な端部形状による遮蔽効果によって有機層上部に形成される対向電極の断線や局部的な高抵抗箇所の発生を防ぐことによって表示不良の無い有機ＥＬディスプレイ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透光性基板と、透光性基板上に形成された複数の画素電極と、複数の画素電極を区画する１００ｎｍ以上の厚さを有する複数の絶縁性媒体層と、複数の画素電極上に形成された複数の正孔輸送層と、複数の正孔輸送層上に形成された複数の有機発光層と、複数の有機発光層上に形成された対向電極と、を備え、絶縁性媒体層の側面と正孔輸送層又は有機発光層との接触角が３０°以下である特徴とする有機ＥＬディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】表示部以外への光漏れを抑制し、表示画像の画質の低下を抑制するＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】アレイ基板と、アレイ基板と対向して配置された封止基板と、マトリクス状に配置された複数の表示画素からなる表示部と、を有するＥＬ表示装置であって、前記アレイ基板は、平坦化層と、各表示画素の周囲に配置されたリブ層と、前記複数の表示画素のそれぞれにおいて前記平坦化層上に配置された第１電極と、複数の前記第１電極に対向して配置された第２電極と、前記第１電極および前記第２電極との間に配置された発光層と、前記平坦化層と前記リブ層とを接触させないように配置された無機バリア層と、を有するＥＬ表示装置。 （もっと読む）

【課題】 表示装置内に残存する水分の拡散による有機ＥＬ素子の劣化を防止でき、これにより長期信頼性に優れた表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 支持基板２上に有機ＥＬ素子ＥＬを配列形成してなる表示領域３と、表示領域３の周囲における支持基板２上に有機ＥＬ素子ＥＬの駆動回路を設けてなる周辺領域４とを備えると共に、駆動回路が形成された支持基板２上の全域を覆う有機絶縁膜１２が設けられた表示装置１において、有機絶縁膜１２は、表示領域３を囲む位置において有機絶縁膜１２部分を除去した分離溝ａにより、内周部１２ａと外周部１２ｂとに分離されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマ表面処理に起因する不具合を防止することで、長期に亘って良好な発光特性を得る有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】基板Ｐ上に、有機材料から構成される平坦化層２４と、平坦化層２４上に設けられる画素電極４１と、画素電極４１の上端部を覆うように平坦化層２４上に設けられ、平坦化層２４を露出させる第一開口部５１が形成された無機隔壁５０Ｂと、無機バンク５０Ｂ上に形成され、第一開口部５１を介して平坦化層２４に接触する有機隔壁５０Ａと、画素電極４１上に設けられる有機発光層４０と、有機発光層４０上に設けられる陰極５４と、を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置１である。有機隔壁５０Ａが無機材料から構成される無機保護膜４４で覆われており、無機保護膜４４には有機隔壁５０Ａを露出させる第二開口部５２が形成されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ発光装置において、誘電体ミラーによる単色性の向上と、トップエミッション方式と、を両立する。
【解決手段】基板１０１上に、光反射層１０４、透明導電材料からなる第１の電極１０６、少なくとも発光層１０８を含む機能層、及び発光層１０８からの光の１部を透過し１部を反射する半透過半反射層１１０を少なくとも含む第２の電極１５０、が順に配置され、発光層１０８からの光を基板１０１の反対側に出射するトップエミッション方式の有機ＥＬ発光装置であって、機能層と光反射層１１０の間に、特定の波長の光を強化する光共振器として作用する誘電体ミラー１４０を具備する発光装置。 （もっと読む）