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Fターム[3K107EE45]の内容

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Fターム[3K107EE45]に分類される特許

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【課題】高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくい保護膜を備える有機EL装置を提供する。
【解決手段】第1のフィルムと、前記第1のフィルム上に設けられる有機EL素子と、前記有機EL素子を覆うように形成される保護膜とを有する有機EL装置であって、前記保護膜は、珪素、酸素及び炭素を含有し、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率(珪素の原子比)、酸素原子の量の比率(酸素の原子比)及び炭素原子の量の比率(炭素の原子比)と、前記膜厚方向における前記保護膜の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件(i)〜(iii)を満たす、有機EL装置に関する。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくく、簡易な工程で短時間で形成することが可能なフィルムを備える有機EL装置を提供する。
【解決手段】第1のフィルムと、有機EL素子と、前記第1のフィルムとの間に前記有機EL素子を介在させて、第1のフィルム上に配置され、前記第1のフィルムとともに前記有機EL素子を封止する第2のフィルムとを有する有機EL装置であって、前記第2のフィルムは、珪素、酸素及び炭素を含有するガスバリア層を有しており、珪素原子の量の比率(珪素の原子比)、酸素原子の量の比率(酸素の原子比)及び炭素原子の量の比率(炭素の原子比)と、前記膜厚方向における前記ガスバリア層の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件(i)〜(iii)を満たす、有機EL装置。 (もっと読む)


【課題】紫外線カット性に優れ、かつ、耐傷性(以下、ハードコート性ともいう)の優れた紫外線遮蔽性フィルムを提供することにあり、さらには、極めて高いガスバリア性能、紫外線カット性に優れ、かつ、耐傷性(以下、ハードコート性ともいう)の優れたバリア性フィルムを提供すること、およびそれらフィルムを用いた有機光電変換素子や有機EL素子のような有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】樹脂基板の少なくとも片面に有機化合物系の紫外線吸収剤と樹脂バインダーとを含む耐候層1を有し、該耐候層1の上に金属酸化物微粒子と樹脂バインダーとを含む耐候層2を有することを特徴とする紫外線遮蔽性フィルム。 (もっと読む)


【課題】 温度が60℃で湿度が90%(RH)という様な過酷な湿熱環境下でもバリア性が劣化せずに表示デバイス内部に水が浸入しないという良好なバリア性を有すると共に、端面からの酸素及び水蒸気の浸入をも防ぐことができるガスバリア性フィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第1の耐候性コート層、蒸着層、及び、第2の耐候性コート層を、この順に設けた第1のガスバリア性フィルム積層体と、該第1のガスバリア性フィルム積層体と同一の構成を有する第2のガスバリア性フィルム積層体とを、それぞれの第2の耐候性コート層がフッ素樹脂系接着剤を介して対向するように積層したことを特徴とする耐湿熱性ガスバリアフィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】電圧降下による輝度ムラを低減させ、強度が高く、有機EL層からの発熱を効率良く放散して有機EL層の劣化を防止する有機ELパネル、および上述した有機ELパネルを低コストで形成する製造方法を提供。
【解決手段】透明基板上に形成された透明電極層、上記透明電極層上にパターン状に形成された隔壁、上記隔壁間の発光領域内に形成され、かつ少なくとも発光層を有する有機EL層、ならびに上記隔壁および上記有機EL層上に形成された背面電極層を有する有機EL基板と、上記有機EL基板の上記背面電極層上に配置され、フレキシブル性を備え、かつ少なくとも金属層を有する封止基板を有し、上記有機EL基板の上記隔壁上に位置する上記背面電極層と上記封止基板の上記金属層とが接触しており、上記有機EL基板および上記封止基板の間で上記封止部によって封止された封止空間の圧力が大気圧よりも低いことを特徴とする有機ELパネル。 (もっと読む)


【課題】 表面からだけでなく、端面からの酸素及び水蒸気の浸入も防ぐことができ、且つ透明性を兼ね備えたガスバリア性積層体、及び包装袋を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第1の耐候性コート層、蒸着層、及び、第2の耐候性コート層を、この順に設けた第1のガスバリア性フィルム積層体と、該第1のガスバリア性フィルム積層体と同一の構成を有する第2のガスバリア性フィルム積層体とを、それぞれの第2の耐候性コート層がフッ素樹脂系接着剤を介して対向するように積層した耐湿熱性ガスバリアフィルム積層体において、該第1の耐候性コート層、及び又は、第2の耐候性コート層が、架橋性基を有するフッ素含有共重合体と該架橋性基と反応する硬化剤とにより形成されたフッ素系樹脂からなることを特徴とする耐湿熱性ガスバリアフィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】ガラス転移点が高い樹脂基板間に素子本体を確実に封止することができる電気素子およびその製造方法ならびに超音波加工装置を提供する。
【解決手段】超音波ミシンでは、ローラを用いた樹脂基板の超音波溶着が行われる。このとき、素子本体2を取り囲むように溶着されるので、素子本体2が溶着部5によって樹脂基板間に封止される。溶着部5は、前後方向に延びる第一溶着部51と、左右方向に延びる第二溶着部52とを含む。第一溶着部51は、所定幅で左右方向に振幅する矩形波状で形成されている。第二溶着部52は、所定幅で前後方向に振幅する矩形波状で形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、表面に残存する異物が極めて少なく、かつガスバリア性フィルム表面にダメージを与えないガスバリア性フィルムの洗浄方法及びその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めてクリーンで耐久性の高い包装材料及び有機光電変換素子や有機EL素子のような有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】ガスバリア性フィルムのウエット洗浄工程の前に、少なくとも1回の紫外線を用いたドライ洗浄工程を有することを特徴とするガスバリア性フィルムの洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】塗布技術により無機バリア層を無機材料で貼合した有機電子パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】基材11上に少なくとも一層の無機バリア層12を有するバリア性フィルム20を用いて有機電子デバイス10を封止する有機電子パネル30の製造方法であって、該無機バリア層を無機接着剤層15を介して貼合し、該無機接着剤層が塗布により形成されたことを特徴とする有機電子パネルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】溶剤や水に浸漬した後のガスバリアフィルムの寸法変化を抑制する。
【解決手段】基材フィルムと、少なくとも1層の有機層と、該有機層に隣接する無機層を有するガスバリアフィルムであって、該ガスバリアフィルムのN−メチルピロリドンに、30℃で、5分浸漬後の縦方向と横方向の寸法変化率が、それぞれ、30ppm以下である、ガスバリアフィルムを用いる。 (もっと読む)


【課題】極めて高いバリア性能、折り曲げ耐性(フレキシブル性)、透明性及び平滑性に優れるバリア性フィルムを提供することであり、且つ、該バリア性フィルムを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】樹脂基材上に、少なくとも有機層及び2層以上の無機層が積層され、該無機層の少なくとも1層が最上層を形成しているバリア性フィルムであって、該2層以上の無機層は各々酸化珪素あるいは酸窒化珪素を少なくとも含有し、且つ、最上層に設けられている無機層AのESR法によるPbセンターのラジカル密度Aが、該無機層Aに隣接する下層の無機層Bのラジカル密度Bよりも小さいことを特徴とするバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子基板の電極取出部を、封止基板の任意の位置に高精度でかつ容易に形成することができる有機ELパネルの製造方法と、電極抵抗値起因による輝度ムラが抑制された有機ELパネルを提供することにある。
【解決手段】ロールツーロール方式により、長尺の有機EL素子基板と、封止基板とを貼り合わせて封止構造体を形成する有機ELパネルの製造方法において、該可撓性封止基板に、該有機EL素子基板に設けた電極位置情報に従って電極取出用開口部の形成を行った後、該有機EL素子基板と該電極取出用開口部を形成した封止基板とを貼り合わせて封止構造体を形成することを特徴とする有機ELパネルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ガスバリアフィルムをロールトゥロールで製造した場合においても、バリア性が低下しにくいガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】有機層と、無機層を有し、有機層の鉛筆硬度がHBか、それよりも硬く、前記有機層が、4官能〜8官能の(メタ)アクリレートを含む重合性組成物を硬化させてなり、重合性組成物が、リン酸(メタ)アクリレートを含むバリア性積層体。且つ、前記無機層が、アルミニウムおよび/またはケイ素の酸化物もしくは窒化物であるバリア性積層体。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性及び折り曲げ耐性に優れ、尚且つ、可撓性のある樹脂フィルムが使用可能であり、更に、工程汚染が抑制可能であるため工業的な価値が高いガスバリア性フィルムの製造方法、およびそれを用いた有機光電変換素子や有機EL素子の様な有機電子素子を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも片面に、ポリシラザン塗布層を設け、エキシマランプ照射により改質してバリア層に転化するガスバリア性フィルムにおいて、該バリア層のXPSの深さ方向で測定される元素比が、以下の式(1−1)、(2−1)、(3−1)を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルム。バリア層の深さ方向の表面側5%:式(1−1)1.0<O/Si≦2.3。バリア層の深さ方向の基材側95%:式(2−1)0.2<O/Si≦2.0。バリア層の深さ方向の全域:式(3−1)0≦N/Si≦0.8。 (もっと読む)


【課題】高いバリア性能と、UVカット性とともに、デバイス素子用フィルムとして十分な耐水性、耐熱性(透明性、膜強度)、耐傷性にも優れる多機能のガスバリア性フィルムを提供し、該ガスバリア性フィルムを用いた有機素子デバイスを提供する。
【解決手段】基材の片面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層とは反対面にUVカット性を有している層を有し、かつ該UVカット性を有している層の表面にエンボス加工が施されていることを特徴とするガスバリア性フィルム及び有機素子デバイス。 (もっと読む)


【課題】優れたガスバリア性(例えば、水蒸気バリア性)を有する電子デバイス用積層フィルムを提供する。
【解決手段】透明樹脂で構成された基材フィルム25の一方の面に、ビニル系モノマー及び/又はプレポリマーを含む重合性組成物の硬化物で構成されたアンカー層24、金属又は金属化合物を含むバリア層23、酸又はアルカリに対して耐性を有するエッチング保護層22、無機化合物で構成された透明導電層21をこの順序で順次形成する。前記ビニル系モノマー及び/又はプレポリマーは、少なくともシリコーン(メタ)アクリレートモノマー及び/又はプレポリマーを含む。この積層フィルム20は、前記基材フィルムの他方の面に防眩層26が形成されていてもよい。この積層フィルム20は、電子ペーパーのインク層に対して表示面側に配置される。 (もっと読む)


【課題】安価な表示装置およびそれを用いた電気器具を提供する。
【解決手段】同一の絶縁体上に画素部および駆動回路を含む表示装置において、駆動回路は、並列に接続されたpチャネル型TFT104〜106および直列に接続されたpチャネル型TFT107〜109を含む複数のNAND回路を有したデコーダ100と、三つのpチャネル型TFT114〜116を含む複数のバッファを有したバッファ部101とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、極めて高いバリア性能をもち、かつ経時安定性に優れたバリア性フィルムを安価に製造するための製造方法を提供すること、およびその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めて耐久性の高い有機光電変換素子や有機EL素子の様な有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】樹脂基板の少なくとも一面上に、ポリシラザン骨格を有するシリコン化合物層を設け、該シリコン化合物層を少なくとも波長200nm以下の真空紫外光を照射することにより改質して酸化ケイ素または酸窒化ケイ素からなるガスバリア性層を成膜するガスバリア性フィルムの製造方法に於いて、特定の式1を満足する条件でガスバリア性層を成膜することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 バリアフィルムおよび基板の密着部分の信頼性を向上させた有機EL素子の製造方法および有機EL素子を提供することにある。
【解決手段】 一定速度で搬送される可撓性を有する基板2の表面に第1の電極層4を形成する第1の電極形成工程と、第1の電極層4の上に有機層5を形成する有機層形成工程と、有機層5の上に第2の電極層6を形成する第2の電極形成工程と、有機層5を除去する有機層除去工程と、第1の電極層4、有機層5および第2の電極層6の一部分を覆い、前記有機層5が除去された部分の基板2と接触するバリアフィルム7を配設するバリアフィルム配設工程と、基板2およびバリアフィルム7を密着するバリアフィルム密着工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性能とデバイス素子用フィルムとして高い耐水性、耐熱性とともに、UVカット性または光散乱性にも優れる多機能ガスバリア性フィルムを提供すること。及びそれを用いた有機素子デバイスを提供すること。
【解決手段】基材の片面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層とは反対面に、該基材に隣接する層に光散乱剤またはUVカット剤を有していることを特徴とするガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


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