【課題】表示不良が抑制され、かつ高精細の有機ＥＬ装置の作製を可能にするための有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に有機物化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層の上に中間層とレジスト層とを順次形成する工程と、フォトリソグラフィ法を用いて前記レジスト層の一部を除去する工程と、前記レジスト層が除去された領域の前記中間層及び前記有機化合物層をドライエッチングにて選択的に除去する工程と、を有しており、前記中間層が、少なくとも遮光層を含み、前記遮光層が、波長１９０ｎｍ以上３６０ｎｍ以下の光を遮光することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ層をフォトリソグラフィにより一色ずつパターニングして配列する方法では、三色目の有機ＥＬ層の下部電極表面は、先に形成される二色の有機ＥＬ層を除去するエッチング工程で、二度、エッチングガスに曝露され、電極表面の清浄度及び平滑度が低下し発光効率が低下する。
【解決手段】 基板に、複数の下部電極と、それぞれが異なる下部電極の上にあり異なる色で発光する第一、第二および第三有機層と、第一、第二または第三有機層を挟んで下部電極に対向する上部電極と、が設けられた発光装置の製造方法において、
はじめに複数の下部電極上に第一有機層を形成し、一部の下部電極上の第一有機層をエッチングにより除去して下部電極を露出させた後、露出させた下部電極上に新たな有機層を形成する工程を第二、第三有機層について繰り返す。 （もっと読む）

【課題】簡易な製造プロセスで低消費電力化を実現することが可能な有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置は、基板上に設けられた第１電極と、第１電極と電気的に絶縁して設けられた補助電極と、第１電極に対向して第１開口、補助電極の少なくとも一部に対向して第２開口をそれぞれ有する画素間絶縁膜と、画素間絶縁膜上の全域にわたって形成され、発光層を含む有機層と、有機層上に設けられた第２電極とを備える。画素間絶縁膜の第２開口は、基板面に対し鈍角をなして傾斜する順テーパ部と、基板面に対し鋭角をなして傾斜する逆テーパ部とを有する。蒸着用マスクや塗布法を用いた塗り分け工程、あるいはレーザー照射工程を経ることなく、第２開口内の逆テーパ部に対向する領域において、第２電極と補助電極との電気的接続が確保される。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソ法を用いて有機化合物層を数μｍの精度でパターニングし、高精細な有機ＥＬ表示装置を製造する際、従来技術のように発光層を塗布法で形成すると、フォトレジスト層の側面部の表面張力の影響を受けて発光層に膜厚ムラが生じるため、発光ムラや開口率が低下し、高精細化に限度があった。
【解決手段】 有機化合物層をパターニングするための層を設けた後は、有機化合物層を蒸着法により形成することで、有機化合物層をパターニングするための層の側面部の表面張力の影響を受けずに、均一な膜厚で発光層などの有機化合物層を形成する。 （もっと読む）

【課題】低コストで連続的に製造できる、有機エレクトロルミネッセンス素子の製法を提供する。
【解決手段】ロールトゥロールプロセスにより有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するのに際し、基板２上に第１電極４、有機エレクトロルミネッセンス層５、第２電極用層６をこの順で形成し、この第２電極用層に、粘着面および所定パターンの開口部９を有するシート状の剥離フィルム８を貼り付け、ついで、これを剥離することにより、上記開口部に対応する第２電極用層の部分を第２電極７として残し、その他の部分を剥離フィルムとともに剥離して、所定パターンの第２電極を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】出光側の電極が抵抗値の高い透明電極である場合に、その透明電極上に補助電極を容易且つ安定して形成することができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に第１電極２を形成する工程と、第１電極２から有機ＥＬ層６（６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ）に電荷を供給する領域Ｂを画定するための絶縁層３を所定のパターンで形成する工程と、絶縁層３上に、逆テーパー部５を両壁面又は片壁面に有する隔壁４を形成する工程と、第１電極２上に有機ＥＬ層６を形成する工程と、有機ＥＬ層６の上方向から全面に第２電極材料を乾式成膜して画素領域毎に透明な第２電極７を形成する工程と、隔壁４上の領域Ｃとその隔壁４を平面視で挟む両側又は片側に設けられた絶縁層３及び第２電極７の平面視重複領域（Ａ１及び／又はＡ２）とからなる領域Ｄに補助電極８を形成する工程と、を有する方法で有機ＥＬ素子１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタのオン電流の安定を図る。
【解決手段】ＥＬパネル１において、駆動素子として用いるスイッチトランジスタ５、駆動トランジスタ６などの薄膜トランジスタにおけるソース電極６ｉ（５ｉ）と不純物半導体膜６ｇ（５ｇ）の積層体と、ドレイン電極６ｈ（５ｈ）と不純物半導体膜６ｆ（５ｆ）の積層体が、チャネル保護膜６ｄ（５ｄ）に重ならない構造にすることで、チャネルとなる領域を覆うチャネル保護膜６ｄ（５ｄ）に作用するバックゲート効果を抑制するとともに、薄膜トランジスタ６（５）のチャネル長を短くすることができるので、薄膜トランジスタ６（５）のオン電流（Ｉｄ）を従来のものより増加させ、好適な値に安定させることを可能にした。 （もっと読む）

【課題】高解像度有機薄膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】高解像度有機薄膜パターンの形成方法に係り、（ａ）基板上に第１有機層を形成する段階と、（ｂ）第１有機層に選択的に光エネルギーを照射し、第１有機層を選択的に除去し、第１有機層の残っている部分に犠牲層を形成する段階と、（ｃ）基板及び犠牲層上の全面に、第２有機層を形成する段階と、（ｄ）ソルベントを使用し、犠牲層を除去し、犠牲層上に形成された第２有機層をリフトオフすることによって、残っている第２有機層に第２有機層パターンを形成する段階と、を含む有機薄膜パターンの形成方法である。 （もっと読む）

本発明により、有機発光ダイオード装置の製造の方法であって、担体基板を備えるステップと、第１の電極物質層を前記担体基板に堆積させるステップと、前記堆積された第１の電極物質層内に電気的に分離された領域を形成するステップと、前記第１の電極物質層に有機光電子活性物質層を堆積させるステップと、前記有機光電子活性物質層に第２の電極物質層を堆積させるステップと、を有する方法が提案される。該方法は、前記有機光電子活性物質層を堆積させるステップ及び前記第２の電極物質層を堆積させるステップにおいて、前記担体基板は、前記有機光電子活性物質層及び前記第２の電極物質層により前記担体基板の機能領域全体をマスクレスに被覆され、少なくとも前記第２の電極物質層は、少なくとも選択された領域においてアブレーションされ非導電性に下塗りされ、前記第２の電極物質層内に非導電性領域を形成することを特徴とする。
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【課題】高効率である有機ＥＬディスプレイまたは有機ＥＬ照明装置を提供する。
【解決手段】基板と、画素駆動用回路部と、前記基板上にマトリックス状に配列された画素部とを具備してなる有機エレクトロルミネッセンスディスプレイであって、前記画素部が、前記基板に近い位置に設けられた第１の電極と前記基板から遠い位置に設けられた第２の電極とで挟持された少なくとも１層以上の有機層とを含む発光部を具備してなり、前記第２の電極が、金属電極層を具備してなり、前記金属電極層が貫通する複数の開口部を有しており、前記金属電極層の金属部位の任意の２点間は切れ目無く連続しており、前記開口部径が１０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲であり、前記金属電極層の膜厚が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲にあり、前記開口部の配列周期の分布を動径分布曲線で表した場合、その半値幅が５〜３００ｎｍの範囲にあることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイを提供する。 （もっと読む）

【課題】シール性を高められるようにする。
【解決手段】透明基板２の一方の面に複数の下部電極３を形成し、透明基板２の一方の面側であってその中央部に自己剥離型粘着被覆材１２を貼着し、下部電極３及び自己剥離型粘着被覆材１２の上に有機ＥＬ層１３及び上部電極１４を順に形成し、自己剥離型粘着被覆材１２に紫外線を照射することで自己剥離型粘着被覆材１２の剥離を行い、有機ＥＬ層１３及び上部電極１４のうち自己剥離型粘着被覆材１２に積層された部分を自己剥離型粘着被覆材１２とともに透明基板２から取り除き、自己剥離型粘着被覆材１２があった箇所にシール１７を形成し、シール１７の上からカバー１９を被せ、自己剥離型粘着被覆材１２があった箇所において透明基板２を穿孔する。 （もっと読む）

本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される層である導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる導電性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されていて充填用材料とは別のものでもそうでなくてもよい導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０⁵Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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本発明は、主要面（１１）上に複合電極（２）を支持している基材（１）であって、当該複合電極が、金属及び／又は金属酸化物をベースとする導電性材料のストランドで構成される導電性ネットワーク（２１）を含むとともに、５５０ｎｍで少なくとも６０％の光透過率を有し、ネットワークのストランド間の間隙にはいわゆる絶縁性充填材料が充填されている基材に関する。複合電極はまた、導電性ネットワークを被覆しかつストランドに電気的に接続されている導電性コーティング（２２）をも含み、このコーティングは４０ｎｍ以上の厚み及び１０５Ω・ｃｍより低くしかもネットワークの抵抗率よりも高い抵抗率ｐｉを有する。このコーティングは電極の平滑な外表面を形成する。複合電極はまた、１０Ω／□以下の表面抵抗をも含む。本発明は、複合電極の製造及び前記電極を含む有機エレクトロルミネッセントデバイス（１００）にも関する。
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【課題】複数の機能層を高いアライメント精度で形成することができるとともに、それらの機能層にダメージを与えずに形成することができる機能素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に機能層が成膜された機能素子を製造する方法であって、前記基板として透明基板１０を用い、該透明基板の前記機能層を成膜する面の裏側にマスク１６を成膜する工程と、前記マスクを介して露光を行うフォトリソグラフィにより、前記機能層成膜面上に機能層２０ａを成膜する工程と、前記マスクの一部を除去して該マスクのパターンを少なくとも１回変更する工程と、前記パターンを変更したマスク２２を介して露光を行うフォトリソグラフィにより、前記機能層成膜面上に別の機能層を成膜する工程と、を含むことを特徴とする機能素子２８の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来のリフトオフ法の有する種々の問題を解決した薄膜パターンの形成方法、該方法を利用した、安価で信頼性の高い有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法を提供する
【解決手段】表面にレジストパターンが形成された基板上に絶縁薄膜を形成する工程、
及び、レジスト上に形成された薄膜をリフトオフすることによって絶縁薄膜パターンを形成する工程を有し、基板上に形成されたレジストの頂部がオーバーハング部を有し、前記絶縁薄膜パターンを形成する工程において、前記レジストのオーバーハング部の先端が基板に近づくように変形することを特徴とする薄膜パターンの形成方法、該薄膜形成方法を用いた有機ＥＬディスプレイの製造方法及び絶縁薄膜の端部のテーパー領域の幅が狭い有機ＥＬディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを化学的に剥離しないリフトオフ法を提供する。
【解決手段】周囲環境から水分の浸透による有機ＥＬ素子の劣化を防止するためのパターンニングされたパッシベーション膜の製造方法であって、上記有機ＥＬ素子にパターニングされたリフトオフ用フィルムを形成する工程と、その後のパッシベーション膜を形成する工程と、上記リフトオフ用フィルムをその上に存在する上記パッシベーション膜の一部とともに剥離する工程と、を含んでなるパターニングされたパッシベーション膜の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを化学的に剥離するリフトオフ法ではパッシベーション膜が上部を覆うので、剥離液などのエッチング液が浸透しないので、リフトオフできないという課題がある。
【解決手段】周囲環境から水分の浸透による有機ＥＬ素子の劣化を防止するためのパターニングされたパッシベーション膜の製造方法であって、上記有機ＥＬ素子にパターニングされたリフトオフ用膜を形成する工程と、上記リフトオフ用膜を形成後、用いる予定のレーザ光に対して透明なパッシベーション膜を形成する工程と、上記パッシベーション膜を通して上記リフトオフ用膜に上記レーザ光を照射して、該リフトオフ膜とその上に存在する上記パッシベーション膜の一部を剥離する工程と、を含んでなるパターニングされたパッシベーション膜の製造方法を提供する。 （もっと読む）

基板２００上に機能材料をパターン形成する方法は、（ａ）基板の少なくとも１つの主要面に機能材料の層２２５を付着させる段階と、（ｂ）機能材料の層に、機能材料２２５が不溶である溶媒中に可溶な保護材料の層２３０を付着させる段階と、（ｃ）基板上の明確に画定された領域における保護材料の層２３０および機能材料の層２２５の両領域を除去する段階と、（ｄ）残っている露出した保護材料２３０を、前記溶媒中に溶解させることによって基板２００から除去する段階とを含む。

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