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Fターム[4D002AA27]の内容

廃ガス処理 (43,622) | 被処理成分 (6,599) | リン化合物(PH3ホスフィン等) (48)

Fターム[4D002AA27]に分類される特許

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【課題】 半導体製造工程等から排出される粉化物を含む排ガスの浄化筒において、排ガスから有害成分を除去して浄化するとともに、粉化物を浄化筒内部で捕捉し、かつ短期間で圧力損失の問題を起こさない浄化筒を提供する。
【解決手段】 排ガスの導入口、浄化剤の充填部、粉化物捕捉具、及び浄化されたガスの排出口を備えた粉化物を含む排ガスの浄化筒であって、粉化物捕捉具が、外周縁が浄化筒の内壁面に密着し孔を有する円盤、及び該円盤の孔の縁部に上端部が密着するように収納した通気性の凹形状の容器を有し、該凹形状の容器のガス流路上流側の表面に粉化物捕捉材が設けられてなる粉化物を含む排ガスの浄化筒とする。 (もっと読む)


【課題】 有害成分を含む排ガスを、浄化剤と接触させることにより有害成分を除去するとともに、有害成分による浄化筒の破過を検知剤により検知する浄化筒であって、浄化筒が破過する前の検知剤の変色を一箇所の覗窓で正確に検知することが可能で、有害成分の浄化筒下流側への流出を防止できる浄化筒を提供する。
【解決手段】 浄化筒の内壁面の水平断面と同等の大きさの外形状を有し外周に沿って切欠部を有する仕切板を1枚使用し、該仕切板を浄化筒の内壁に密着して配置するとともに、有害成分の検知剤の充填部及びその覗窓を、仕切板の切欠部の近辺に一箇所設ける。または、前記のような仕切板を2枚使用し、切欠部の位置が互いに反対側となるように、有害成分の浄化剤の予備充填部の最上流部及び最下流部に配置するとともに、有害成分の検知剤の充填部を、上流側の仕切板の切欠部の近辺に設ける。 (もっと読む)


【課題】本発明は、反応炉にて成膜を開始した直後から、排気トラップによるリンの捕集効率を高くできる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本願の発明にかかる成膜装置は、リンを含む排気ガスを排出する反応炉と、ハウジングと、該ハウジングの内部に該排気ガスを導入する排気ガス導入口と、該ハウジングの内部から該排気ガスを導出する排気ガス導出口と、該ハウジング内に設けられ該排気ガス中のリンを凝固付着させる金属製の冷却コイルと、を有する排気トラップと、該冷却コイルを冷却する冷却装置と、該ハウジング内部の排気ガスを密閉するように設けられたバルブと、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】1つ以上の態様において、工業廃液、例えば、半導体及び液晶表示装置の製造プロセスで生成される廃液を処理するのに用いる熱反応器装置を提供する。
【解決手段】コントローラと、コントローラにより制御されるように用いられる反応チャンバ32と、反応チャンバへの管と、反応チャンバ内の管の第1の端部に配置されたパイロット16と、反応チャンバ外の管の第2の端部に配置され、コントローラに結合され、コントローラにパイロットが点灯したかどうかの指示を与えるように用いられるセンサと、管の開閉のために操作可能なアクチュエータとを含むシステムを有する。本発明の数多くのその他の態様が開示されている。 (もっと読む)


【課題】排ガス処理装置全体の消費電力を低減することができる排ガス処理方法及び排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】剤充填筒12の外壁面温度を測定する外壁面温度測定手段,反応除去剤の温度を測定する反応除去剤温度測定手段の少なくともいずれか一方の温度測定手段を剤充填筒のガス流れ方向の3箇所以上に設ける。剤充填筒12の外壁面を加熱する外壁面加熱手段,反応除去剤を加熱する反応除去剤加熱手段の少なくともいずれか一方の加熱手段を剤充填筒12のガス流れ方向の3箇所以上に設ける。各温度測定手段にて測定した温度に基づいて剤充填筒内の反応帯の位置を検知し、該反応帯の位置に基づいて各加熱手段を制御する。 (もっと読む)


特徴は、ポートを通じるガスの流れを制御するよう動作可能な、流動液体を含むバルブを含む。特定の特徴は、ガスを反応させるよう動作可能なチャンバを含み、一部の特徴において、ガスは、流動液体から成る外皮内に実質的に閉じ込められる。特定の実施態様は、ポートを通じるガス流を制御する流動液体から成るバルブでチャンバ内へのガスの進入を制御する。相当な量の固形反応生成物を生むガスを反応させるよう動作可能な反応チャンバを含むシステムを含む、様々なガスアベートメントシステムが記載される。ガス流を制御するための方法が開示される。システム及び方法は、湿式スクラビングし、反応させ、選択的にガス流を更に湿式スクラビングするという順次的なステップを含む。
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【課題】可燃性ガスを大量に含んだ排ガスを除害処理したときでも逆火のおそれがなく、かつ、従来の入口スクラバに比べて排ガスの洗浄効果を高めることができる排ガス除害装置を提供する。
【解決手段】半導体製造装置から排出される、可燃性ガスを含む排ガスFを洗浄する洗浄水Wを貯留する洗浄水タンク20と、下流端22bが洗浄水タンク20に貯留された洗浄水W中に開口され、排ガスFを洗浄水タンク20の導入する排ガス導入ダクト22とを有する排ガス洗浄器12、および排ガス洗浄器12で洗浄された排ガスFを受け入れ、排ガスF中の熱分解性ガスを熱分解する熱分解炉14で排ガス除害装置10を構成することにより、上記課題を解決することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は半導体製造装置および排気トラップ装置に関し、冷却コイルに生成した未反応ガスの堆積物によって排気ガス通過経路が閉塞することを防止する半導体製造装置および排気トラップ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の排気トラップ装置は、ハウジングと、前記ハウジングの内部に排気ガスを導入する排気ガス導入口と、前記ハウジングの外部に排気ガスを導出する排気ガス導出口と、前記ハウジングの内部に設けられた冷却コイルと、前記冷却コイルに冷媒を供給する冷媒供給手段と、前記冷却コイルを加熱する加熱手段と、を備えることを特徴とするものである。 (もっと読む)


温室効果ガス隔離の方法は、(i)温室効果ガスと反応可能な第1の薬剤を運搬する溶液の提供、(ii)少なくとも第1の薬剤と温室効果ガスとの間の反応を促進することにより少なくとも第1の反応物質が生成されるという条件下での、その溶液の温室効果ガスに対する接触、(iii)格子間空間を有し、かつ、少なくとも第2の反応物質を含んで構成される、多孔質マトリックスの提供、(iv)少なくとも第1の反応物質と少なくとも第2の反応物質との間の反応を促進することにより少なくとも第1の生成物が提供されるという条件下での、少なくとも第1の反応物質を運搬する溶液の、多孔質マトリックスの格子間空間の少なくとも相当部分に対する浸透可能化、及び(v)少なくとも第1の生成物が多孔質マトリックスの少なくとも一部の格子間空間を形成及び充填することによる、温室効果ガスの隔離可能化、を含んで構成されたことが説明される。
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【課題】排ガスの処理速度の低下を抑え、吸着剤の寿命を従来よりも長くしてその本来の処理能力に近づけることができる排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】排ガス中の有毒ガス成分を除去して排ガスを無害化する排ガス処理装置50である。この装置50は、有毒ガス成分を吸着する吸着剤C1〜Cm及び吸着剤C1〜Cmを保持するメッシュ部D1〜Dmをそれぞれ備えた複数の吸着剤収容部A1〜Amと、排ガスを複数の吸着剤収容部A1〜Amにそれぞれ独立して導入する排ガス導入部20と、吸着剤収容部A1〜Amを通過した排ガスを外部に向けて排出するガス排出部30とを備えている。 (もっと読む)


【課題】TPP(トリフェニルホスフェート)を含む洗浄廃水からTPPを分離する。
【解決手段】TPPを含む洗浄廃水89は、攪拌圧送部102によって攪拌されながら油水分離器103へ圧送される。油水分離器102に圧送された洗浄廃水89は、攪拌圧送部102の攪拌によって添加剤が微細液滴に分散されているため、油水分離フィルタ107によって容易に捕捉される。TPP111は、油水分離フィルタ107に捕捉されて粗大化することにより洗浄廃水102から分離される。TPP111は、抜き出し口106aから回収され、タンク104に貯留される。TPP111が分離された洗浄廃水89は、フィルタ114bによってろ過され、洗浄水88として再利用される。 (もっと読む)


【課題】ホスフィンの無害化のために使用される除害塔内に残存するリンを短時間かつ安全に無害の化合物に変換する除害塔におけるリンの安定化方法を提供する。
【解決手段】ホスフィンを含む有毒ガスを無害化する除害剤が充填された除害塔におけるリンの安定化方法であって、ホスフィンの無害化処理後に残存するリンを安定な化合物にするため、除害塔内に硝酸銅溶液を循環させる工程を有し、循環される硝酸銅溶液に含まれる硝酸イオン濃度と、銅イオン濃度が下記の関係にある。X座標を硝酸イオン濃度(g/L)、Y座標を銅イオン濃度(g/L:ただし対数スケール)とした場合、P1(0.10,0.05),P2(73,0.05),P3(105,0.10),P4(107,1.0),P5(92,10),P6(148,50),P7(99,50),P8(20,10),P9(2.0,1.0)で囲まれる図形の範囲に含まれる(X,Y)の組み合わせ。 (もっと読む)


【課題】半導体製造工程で発生する金属水素化物含有排ガスの除害処理において、高い除害能力を示す除害剤と除害方法とを提供する。
【解決手段】金属水素化物含有排ガスの除害剤及び除害方法に関し、金属酸化物、金属水酸化物、金属炭酸塩、又は金属塩基性炭酸塩の何れか一種又は二種以上のこれら化合物の混合物を成型し、その成型体にアンモニアを吸収させたものを除害剤とし、該除害剤に金属水素化物を含む排ガスを通し除害する。 (もっと読む)


【課題】リン成分の捕集能力を高めたリン捕集装置及びそれを備えた半導体製造装置を提供する。
【解決手段】リン捕集装置内に流入するリン成分を含有するガスTGを、リン成分の融点以下に冷却することにより、ガスTG中の気相リン成分を液化あるいは固化させると共に、その液化あるいは固化リン成分を凝縮させて捕集するリン捕集装置本体2の上流に、前記ガスTG中に気相リン成分を液化あるいは固化させるための核となる核物質Cを添加するための核物質添加器3を設けた。 (もっと読む)


【課題】高純度の五フッ化リンを、単純でかつ経済的な手順で大規模な精製装置または高圧装置を必要とせずに提供することが可能であり、しかも、特別な排ガス処理を必要とする大量の副生ガスを発生させることなく製造可能な五フッ化リンの製造方法を提供すること。
【解決手段】フッ化水素と六フッ化リン酸塩(MPF)とを容器内に導入し、式1の反応に従って、五フッ化リンを生成させることを特徴とする五フッ化リンの製造方法。
MPF+u HF→PF+MF・r(HF) (式1)
但し、MはLi,Na,K,Rb,Cs,NH,Agの何れか一種以上
0≦r≦u
式中HFは化学量論以上使用 (もっと読む)


【課題】半導体の製造において生成された有害ガスおよび微粒子を含む排ガスを軽減する排ガス軽減方法およびシステムを提供すること。
【解決手段】まず、複数の顆粒体を提供し、顆粒体を反応温度に加熱する。次いで、有害ガスが分解して熱分解ガスを形成し、微粒子が顆粒体によって停滞されてろ過されるように、排ガスを導入して顆粒体と接触させる。顆粒体および微粒子を除去し、次いで顆粒を微粒子から分離する。一方、微粒子から分離された顆粒体と接触するように熱分解ガスを導入し、それにより顆粒体をリサイクルおよび再使用し、顆粒は、反応温度に加熱され、再び排ガスと接触するように導入される。最後に、分解ガスを除去するために、分解ガスをウォータースクラバープロセスに導入する。 (もっと読む)


【課題】廃棄物中に含まれる重金属類を処理するために用いられている廃棄物処理剤は、酸性物質を多く含む廃棄物を処理したり、高温下で処理すると、分解して有毒なガスを発生したり、処理剤が不安定となったりして十分な処理効果が得られにくい等の問題があった。本発明は、酸性物質を多量に含む廃棄物に添加しても安定で、重金属に対する高い処理能力を発揮するとともに、塩化水素等の有害な酸性物質も効果的に処理することができる酸性廃棄物処理剤を提供する。
【解決手段】本発明の酸性廃棄物処理剤は、含窒素複素環化合物の窒素にジチオ酸基が結合した金属捕集剤の水溶液によって、酸化カルシウムを消化して得られることを特徴とする。本発明処理剤は、酸化カルシウム100重量部当たり、金属捕集剤を0.1〜150重量部の割合で反応させたものが好ましい。 (もっと読む)


【課題】フィルム製造部で気体となった溶剤から添加剤を効果的かつ効率的に除去する。
【解決手段】フィルム製造部27の乾燥室27の空気を第2溶剤回収部19の添加剤回収装置41に高温のまま送る。添加剤回収装置41では、添加剤13を選択的に吸収する吸収液が、空気が滞留する滞留室で噴霧され、空気と吸収液とが接触する。吸収液は、添加剤を吸収して液体の状態で滞留室の外部で精製され、再び噴霧に使用されるとともに、添加剤は回収されてドープ14に再利用される。添加剤13が除かれた空気は溶剤12を吸着して脱着する吸着ユニット47に送られ、ここで溶剤12が空気から分けられて凝縮器48で液体となり回収される。 (もっと読む)


【課題】多額の初期投資及び大規模な追加設備を必要とせずに有害微量元素の含有率が高い安価な石炭種を使用するために集塵装置の集塵効率を向上する方法を提供する。
【解決手段】排ガス中の有害微量元素を捕捉する方法は、石炭を燃焼させる微粉炭燃焼部16と、微粉炭燃焼部16の下流に設けられ石炭灰のうちフライアッシュを集塵する集塵装置182と、を備えた微粉炭燃焼施設1において、石炭灰を微粉炭燃焼部16に供給する石炭供給工程S10から集塵装置182によってフライアッシュが集塵される排水・排ガス処理工程までの間の系内に移送する。 (もっと読む)


【課題】多額の初期投資及び大規模な追加設備を必要とせずに有害微量元素の含有率が高い安価な石炭種を使用するために集塵装置の集塵効率を向上する方法を提供する。
【解決手段】集塵装置182の集塵効率を向上する方法は、石炭を燃焼させる微粉炭燃焼部16と、微粉炭燃焼部16の下流に設けられ石炭灰のうちフライアッシュを集塵する集塵装置182と、を備えた微粉炭燃焼施設1において、石炭に、微粉炭燃焼施設1とは異なる他の微粉炭燃焼施設100において燃料である石炭を燃焼させたときに生じる石炭灰を添加する。 (もっと読む)


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