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Fターム[4D075BB48]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 処理方法 (13,909) | 放射線の照射(赤外線を除く) (2,434) | レーザー、X線の照射 (208)

Fターム[4D075BB48]に分類される特許

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【課題】レーザ光による各種部材の損傷を抑制して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッド30の基板2側に、レーザ光Lを反射するノズル形成面31aを設け、そのノズル形成面31aの基板2側に反射防止膜33を設けた。そして、反射防止膜33の反射面33aからの反射光L1とノズル形成面31aからの反射光L2を相殺的に干渉させて、反射面33aやノズル形成面31aからのレーザ光Lの反射を抑制するようにした。 (もっと読む)


【課題】基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッド30の基板2側に反射ミラーMを設け、レーザヘッド36からのレーザ光Bを、反射ミラーMの第1反射面Maと吐出ヘッド30の第2反射面31aとの間で多重反射させて、多重反射したレーザ光Bを表面2aの照射位置PTに導くようにした。そして、反射ミラーMに対するレーザ光Bの入射角θ1を小さくして、照射位置PTに対する照射角θ2を小さくするようにした。 (もっと読む)


【課題】基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】吐出ヘッド30のX矢印方向にレーザヘッド36を設け、レーザヘッド36からのレーザ光Bを、表面2aに対する臨界角(入射角θ1)で基板反射位置PRに出射して吐出ヘッド30側に全反射させるようにした。また、ノズルプレート31の基板2側にレーザ光Bを反射する反射面31aを設け、基板反射位置PRからのレーザ光Bを反射して、表面2a上の照射位置PTに、照射角θ2(入射角θ1:臨界角)で導くようにした。 (もっと読む)


【課題】液滴の飛行曲がりや吐出口の目詰まりを回避して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】基板2の法線方向(Z矢印方向)から見て、各液滴Fbの相対移動経路Rから離間する位置に、対応する出射口Eを配設するようにした。しかも、各出射口Eを、それぞれ対応するノズルNと各照射位置PTのそれぞれとを結ぶ直線から離間するように配設した。そして、出射口Eから対応する照射位置PTを通過する光軸Aを形成し、その光軸Aが、対応する相対移動経路Rと交差するようにした。 (もっと読む)


【課題】間欠的にノズルからの接着剤の噴射の程度を検知して接着剤の噴射状態を適切に判断することができる接着剤の噴射状態検査方法および装置を提供する。
【解決手段】ノズル12から噴射された接着剤Gの噴射状態検査方法において、ノズルから間欠的に噴射された接着剤の液滴にレーザ光Lrを照射して液滴に反射されたレーザ光Rlを検知し、所定時間内に検知したレーザ光の増減の繰り返し回数Nをカウントし、カウントした繰り返し回数と予め設定した判定数Nuとを比較して検査する。 (もっと読む)


【課題】表示品位の高い液晶カラーフィルターの印刷に使用するガラス凹版において、凹版上のパターン欠損部を修正することで、無欠陥のかつ印刷性の高い版深をもつ刷版を、技術的に容易に且つ安価に提供すること。
【解決手段】(1)前記低融点ガラスペースト33を前記パターン欠損部32に充填する工程、(2)充填した前記低融点ガラスペースト33を焼成する工程、(3)前記低融点ガラスペースト33を焼成してなった低融点ガラス部34を研磨して凹版表面と均一にする工程、(4)低融点ガラス部34をレーザ加工して所望のパターンを彫る工程、上記3工程を有するガラス凹版31の修正方法。 (もっと読む)


本発明は、基材の表面を構造化する方法に関し、そこでは基材が、第1の工程で構造化され、第2の工程で、構造化の部分的なスムージングのためにゾル−ゲル法によって被覆され、特に拡散的に散乱する表面を与える。本発明はまた、このようにして構造化された基材、および、光学用途におけるその使用に関する。
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【課題】本発明は、反応活性種等の化学種を利用することにより、簡便に膜を形成することができる製膜方法、あるいはパターニング方法を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】本発明は、少なくとも1つのノズルから化学種又はその前駆体を吐出して基体上に前記化学種からなる複数の膜を配置する製膜方法を提供する。本発明は少なくとも1つのノズルから化学種又はその前駆体を吐出して前記化学種からなる複数の膜を配置するパターニング方法を提供する。また、本発明は、前記製膜方法又はパターニング方法を使用する電子装置の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】電気絶縁性基材の静電塗装方法でありながら、静電塗装前に電気絶縁性基材に対して予め導電性処理を施すことなく、静電塗装の際の火災原因となるといった問題を十分に解決することができるとともに、塗料の付着性を十分に向上させることができ、しかも塗装廃棄物の量を低減させて環境負荷の低減を図りながら電気絶縁性基材に対して効率よく確実に塗装を施すことが可能な電気絶縁性基材の静電塗装方法を提供すること。
【解決手段】表面固有抵抗値が10Ω以上の電気絶縁性基材1の被塗装面の一部を接地する工程と、該被塗装面に対して導電性塗料20を静電塗装する工程とを含むことを特徴とする電気絶縁性基材の静電塗装方法。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で欠陥部を迅速に修正することが可能なパターン修正方法を提供する。
【解決手段】このパターン修正方法では、塗布ノズル30から霧状の修正液20を噴出し、かつ電極13のオープン欠陥部13aの一方側の移動開始点A1から欠陥部13aの他方側の移動終了点B1まで塗布ノズル30を相対的に移動させながら、塗布ノズル30が欠陥部13aの一方端の描画開始点A0に到達したときにシャッタ31を開き、塗布ノズル30が欠陥部13aの他方端の描画終了点B0に到達したときにシャッタ31を閉じる。これにより、一定の線幅の堆積層32を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】 新規かつ簡便な撥水パターン構造物の製造方法、及び該撥水パターン構造物の製造方法により製造された高い撥水性を有する撥水パターン構造物の提供。
【解決手段】 撥水性化合物を含む液中で、光の照射により突起を形成可能な突起形成性層を有する突起形成材料の該突起形成性層に対しパターン状に光照射を行い、少なくとも露光領域に前記撥水性化合物が直接化学的に結合した突起形状物を形成する突起形成工程を含む撥水パターン構造物の製造方法、及び、該撥水パターン構造物の製造方法により製造された撥水パターン構造物である。 (もっと読む)


【課題】熱伝導率の大きい金属に対しても、界面との密着性が損なわれることなくミリメートルオーダの皮膜を平坦で滑らかに形成することにある。
【解決手段】金属粉末を被加工物の表面に高速噴射させて皮膜を形成するコーティング方法において、基材に遷移速度以上の飛行速度で金属粉末を噴射させて第1のコーティング層を形成し、この第1のコーティング層の表面に遷移速度未満の飛行速度で金属粉末を噴射させて第2のコーティング層を形成する。 (もっと読む)


レーザからエネルギを与えることで、コーティング材料からなるスラリーコーティングを基板のコーティング面上に融着させることによって、多様なコーティング材料からなる薄いコーティング層を多様な基板上に堆積する方法を提供する。コーティング材料および基板は、純金属、金属合金、セラミックス、セメント、ポリマーおよびこれらの材料の複合材料を含み得る。本方法は、反射マスクを用いて所定のパターンの融着したコーティング層を生じさせる。反射マスクはたとえば、金属からなる研磨された金属マスクであり、特にコーティングを融着させるのに用いられるレーザのエネルギの波長を反射するように設けられる。本方法は、融着したコーティング層を生成するための付加プロセスとして行なってもよいし、代替的に、付加および除去プロセスとして行なってもよい。
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【課題】 着弾した液滴の乾燥状態を検出して、パターンの生産性を向上した液滴吐出装置及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 液滴吐出装置のキャリッジに、乾燥強度と焼成強度のレーザ光Bを選択可能な半導体レーザLDと、液滴Fbに照射した前記レーザ光Bの戻り光Lを検出するフォトセンサ38を配設するようにした。そして、目標吐出位置Pに着弾した液滴Fbに乾燥強度のレーザ光Bを照射して、フォトセンサ38からの検出信号が、予め設定された目標乾燥光量データに相対するタイミングで、前記液滴Fbに焼成強度のレーザ光Bを照射するようにした。そして、フォトセンサ38からの検出信号が、予め設定された目標焼成光量データと相対するタイミングで、前記焼成強度のレーザ光Bの照射を停止するようにした。 (もっと読む)


【課題】 異なるタイミングで着弾した液滴の形状を制御して、パターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。
【解決手段】 先行して形成した下層液状膜26L1の端部に、後続する上層液状膜26L2の端部を積層し、これら下層液状膜26L1及び上層液状膜26L2の重なる積層領域に対して、その配向膜形成液を流動可能なレーザビームBを照射するようにした。そして、ポリゴンミラー48の回転駆動によって、前記レーザビームBのビームスポットを、隆起部FDT側(上層液状膜26L2側)から、対応する凹部FDB側(下層液状膜26L1側)に走査するようにした。 (もっと読む)


【課題】 装置を大型化せずに、深さ方向に均一な膜質のパターンを形成することのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 レーザ光照射ヘッド24にシリンドリカルレンズ52を設けた。そして、液滴吐出ヘッド23から液滴30を吐出して所望の形状の膜パターン40Aを形成するとともに、その膜パターン40Aにシリンドリカルレンズ52によってその進行方向を同膜パターン40Aの外形表面上の各位置に対して法線方向に入射するように変更した。 (もっと読む)


【課題】 確実に焼成されて所望の電気的特性を有するパターンを形成することのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 焼成用レーザ光50が照射される膜パターン40Aの照射領域Aに、焼成用レーザ光50とは異なった波長であって、且つ、膜パターン40Aには吸収されるとともに、一方、配線パターン40Bには吸収されない波長の検出用電磁波W1を出射し、その反射波W2を検出するようにした。そして、検出用電磁波W1の強度の20%以下の強度の反射波W2が検出されると、焼成用レーザ光50を継続して照射領域Aに照射し、検出用電磁波W1の強度の20%より大きな強度の反射波W2が検出されると、キャリッジ21を移動させて焼成用レーザ光50を次の照射領域に照射するようにした。 (もっと読む)


【課題】 エアロゾル内における微粒子の粒径分布及び濃度を均一化する。
【解決手段】 ターゲット材料Tをレーザー照射によりアブレーションすることで微粒子sを生成し、生成した微粒子sをキャリアガスG中に分散させてエアロゾル化し、このエアロゾルAを基材Bに吹き付けることによって、微粒子sが衝突した基材表面に構造物を形成する。 (もっと読む)


【課題】金属基板層上に設けられたフッ素樹脂被膜層を傷めず、該フッ素樹脂被膜層と金属基板層との接着性を損なうことなく、該フッ素樹脂被膜層表面に表示層を設けた、トップコート層を設けなくてもよいフッ素樹脂被覆物を製造する。
【解決手段】金属基板層と、この金属基板層の少なくとも片面に形成されたフッ素樹脂被膜層と、このフッ素樹脂被膜層上の一部分を親水化しパターンを表現するように形成された親水化部分と、この親水化部分を覆う表示層とを有するフッ素樹脂被覆物を製造する。 (もっと読む)


【課題】基板上に薄膜を、インクジェット方式によって、成膜した場合、膜厚変動を抑え、材料使用効率と生産タクトの向上を図り、環境を配慮する。
【解決手段】複数のノズル9を搭載した、単一若しくは複数のインクジェット・ヘッド2が配置されたヘッド支持機構5と面方向に相対的な移動を可能とする基板搬送機構50とで構成された薄膜形成装置を用いる。基板搬送テーブル8と、基板1に噴射塗布を行う部分とを噴射塗布成膜室としての真空槽14で閉じ、真空ポンプによる減圧環境下で、インクジェット方式により成膜することで、膜厚変動の少ない薄膜を得る。所要に応じて、圧力調整予備室を設けて、減圧環境を作り、さらに排気系統に揮発性有機溶剤の回収装置を設けてもよい。特に配向膜の成膜に適している。 (もっと読む)


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