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Fターム[4D075BB48]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 処理方法 (13,909) | 放射線の照射(赤外線を除く) (2,434) | レーザー、X線の照射 (208)

Fターム[4D075BB48]に分類される特許

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【課題】インクジェットヘッドに対するワイピングの動作良否の記録を容易に取得することができる記録装置、ワイピング装置及び描画装置並びに記録方法、ワイピング方法及び描画方法を提案する。
【解決手段】液滴吐出ヘッド34にワイピングシート92を当接しつつ相対移動させて液滴を拭き取るワイピング部90の動作良否の記録を取得する記録装置97であって、ワイピングシート92に形成される液滴跡RL,GL,BLをその拭き取り直後に乾燥させる乾燥部98を備える。 (もっと読む)


製造方法およびシステムは、少なくとも1つの塗装領域(6)と、少なくとも1つの非塗装領域(7)とを有する部分的にコーティングされた製品(5)を製造する。手段(1)は、非塗装とする各領域について、当該非塗装とする領域をカバーするカバー層と、それらの間にあって、製品の外表面から分離された分離層(9)を含む製品のデジタル表現を提供する。生成装置(2)は、デジタル表現に基づく制御により、カバーおよび分離層を含む製品を製造するように構成されている。手段(3)は、カバー層を含む製品をコーティングする。最後に、除去手段(4)は、非塗装とする領域から、カバーと、必要に応じて分離層を、コーティングとともに除去するように構成されている。 (もっと読む)


3次元物体3の各断面に相当する地点での粉末材料の層25の固化によって上記物体3を製造する装置及び方法が開示される。本装置は、作業領域5の上方で移動させることができ作業領域5内で粉末状材料47の層を塗工するのに用いられる塗工装置40を備える。塗工装置40は、2つの側壁を介して相互接続される第1の長手方向壁41a及び第2の長手方向壁41bを有するように設計される。塗工装置40には、粉末状材料47を均一化する流動化機構が設けられる。当該流動化機構は、その壁に出口を備える少なくとも1つの中空要素を備え、この出口を通してガスが中空要素から粉末状材料47に流れ込むことができる。 (もっと読む)


基体上にベース層を堆積し、次いで、化学気相浸透(CVI)を行い、初期相粒子に対する結合材の優れた付着性と基体に対する複合材料コーティングの付着性とを有する複合材料コーティングを作り出す結合相を導入するために用いられる超音波噴霧堆積(USD)を開示する。我々は、様々な態様において、この方法を用いて、超音波噴霧堆積を用いて堆積された立方晶窒化ホウ素(cBN)と、化学気相浸透を用いて施された窒化チタン(TiN)とから成るコーティングを作り出した。窒化物、炭化物、炭窒化物、ホウ化物、酸化物、硫化物及びケイ化物を包含する、他の諸方法では用いることのできない多くの種類の材料と共にこの方法を用いることができる。加えて、他の結合方法又は後堆積処理方法は、基体と、被覆用材料と、コーティングの施用に必要な条件とにもよるが、化学気相浸透の代替方法として適用され得る。コーティングは、複雑な形状寸法を有する基体を含む様々な基体に施され得る。本出願書類は、超音波噴霧堆積を行うのに用いられる、装置又は設備の設計をも記述する。
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本発明は、単一材料、又は複数種類の材料の複合材料を含有するコーティングを作り出すための方法であって、初めに静電噴霧被覆を行ってベース層を堆積し、次いで、結合工程を行うための、化学気相浸透以外の他の方法を用いる方法。更に、幾種類かの材料及び用途に対しては、満足できるコーティングを獲得するため、堆積を行う前、被覆用材料に対するある前プロセス又は前処理が必要である。本出願は、静電噴霧被覆堆積を行う前に材料の前堆積処理を加えるための方法を開示する。本出願は、コーティングの追加的な機能性又は性能特性を提供する後プロセスを行う方法を更に開示する。最後に、本出願は、本明細書に記述される諸方法を達成するためのある種の装置及び設備を開示する。
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【課題】耐ひずみ性に優れた基材の被覆方法の提供。
【解決手段】基材の被覆方法は、第一の耐ひずみ性を示すコーティングを基材上に設ける段階、及びコーティングを処理してコーティングの耐ひずみ性を、第一の耐ひずみ性よりも大きなひずみに耐える第二の耐ひずみ性に高める段階を含む。第二の耐ひずみ性は第一の耐ひずみ性より多くのひずみを許容し得る。さらに、処理段階は機械的処理、化学的処理、熱処理及びこれらの組合せの少なくともいずれかを含む。 (もっと読む)


放射線硬化性被覆配合物(24)でスリーブ体(13)の周囲表面を被覆するための被覆装置であって、前記被覆装置は、被覆軸(10)と共軸の垂直位置に前記スリーブ体(13)を支持するための垂直支持柱体(1)と、前記垂直支持柱体(1)に沿ってスライド可能なキャリジ(5,29)、及び前記キャリジ(5,29)上で装着可能でかつそれと移動可能である環状被覆カラー(21)を含む被覆ステージ(11)とを含み、前記環状被覆カラー(21)は、前記被覆配合物(24)を含有するためのものであり、かつ前記垂直支持柱体(1)に沿って前記キャリジ(5,29)のスライド可能な運動時に前記スリーブ体(13)の前記周囲表面上に前記被覆配合物(24)の層を被覆するためのものであり、前記環状被覆カラー(21)は前記被覆軸(10)と共軸に位置され、被覆装置は、前記周囲表面上に前記被覆配合物(24)の層を少なくとも部分的に硬化するために放射線を与えるための、前記環状被覆ステージ(11)と移動可能である照射ステージ(12,52)をさらに含む。 (もっと読む)


【課題】基板上への微細パターン形成時に、感光性樹脂が反応する部位をより微小に制御するとともに、感光性樹脂層の厚み管理をより簡易化することを可能とするパターン形成方法の実現を目的とする。
【解決手段】特に極短パルスレーザを、その焦点が基板と感光性樹脂層との界面に位置するように集光して、感光性樹脂層を反応させて微細パターンを形成する。その際に、極短パルスレーザは基板側から照射される。 (もっと読む)


【課題】液滴からなるパターンの高密度化を可能にしたパターン形成方法、回路モジュールの製造方法、液滴吐出装置、回路モジュール、及び回路モジュール製造装置を提供する。
【解決手段】金属インクを液滴Fbにして単位照射領域S1に吐出し、単位照射領域S1に着弾した液滴Fbの領域に、液滴Fbをピニングするためのピニング用レーザL1を吐出面4Gaの略接線方向に沿って照射した。次いで、液滴Fbの領域にピニング用レーザL1よりも高いエネルギーを有して液滴Fbを予備乾燥するための予備乾燥用レーザL2を吐出面4Gaの略法線方向に沿って照射した。 (もっと読む)


本開示は、コーティングを有する静電気拡散性物品を開示する。コーティングは、ナノ粒子の表面上に第四級アミン基を有する表面官能化ナノ粒子と、このナノ粒子が分散した結合剤とを含んで成る。 (もっと読む)


【課題】弾性層を形成したローラを塗布液に浸漬して引き上げることで表面層を形成する場合に、ローラの端部を除去する工程の有無や除去量に関わらず、表面に欠陥が生じることを防止できる現像ローラの製造方法を提供する。また、表面上の欠陥が画像上に現れることのない現像ローラを提供する。
【解決手段】軸芯体と、該軸芯体の外周面に設けられた弾性層と、該弾性層の周りに設けられた表面層とを有する現像ローラを、軸芯体の外周面に、付加型シリコーンゴムにより該弾性層を形成する工程と、該弾性層の外周面と、該弾性層の端面のいずれか一方と、に該表面層との易接着処理をする工程と、該易接着処理がされた弾性層の端面側から、該弾性層を表面層形成用塗工液に浸漬する工程と、該弾性層を該表面層形成用塗工液から引き上げ、該弾性層の周りに該表面層を設ける工程とを有する方法により製造する。 (もっと読む)


【課題】
短時間の放射線照射で速やかに硬化して、各種基材に対し良好な接着性を示す放射線硬化性組成物のシリコーンゴム硬化物で封止又はコーティングされた電子部品、および電子部品の封止又はコーティング方法を提供する。
【解決手段】
(A) 複数のアクリロイル基および/またはメタクリロイル基を有するオルガノポリシロキサン、
(B) 放射線増感剤、および
(C) 式:−SiR63(R6 は独立に炭素原子数1〜8のアルキル基またはアルコキシ基である)で表されるトリオルガノシリル基を有するイソシアヌレート化合物
(更に、好ましくは(D) チタネート化合物およびチタンキレート化合物より成る群から選ばれる少なくとも一種のチタン含有有機化合物)
を含有する放射線硬化性シリコーンゴム組成物に放射線を照射して得られたシリコーンゴム硬化物で封止又はコーティングされた電子部品、および該組成物でコーティング又はポッティングした電子部品に放射線を照射して該組成物を硬化させることを特徴とする、電子部品の封止又はコーティング方法。 (もっと読む)


【課題】1064nmで吸収力の弱いプレキシガラスなどの材料にマーキングする様々な方法に代わる単純で、かつ経済的な方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、波長λの光に吸収力が弱い材料によって形成される商品に、波長λの光線を発射するレーザを用いてマーキングする方法であって、波長λで吸収力が強く、かつ吸収された光エネルギーの少なくとも一部を熱エネルギーに変換できる金属から成る支持体を用意し、上記支持体から、上記レーザと上記支持体との間に挿入された商品に熱エネルギーを伝達するのに充分な熱的接触を上記商品と上記支持体との間に実現させるために、その商品を上記支持体に直接に当てて配置し、上記支持体から上記商品への熱エネルギー伝達が、上記商品の表面に違いを与え、マーキングが生み出されるように、物理的または化学的な局部変形を生成させるのに充分な熱エネルギーを、上記支持体の表面に発生させることができるように、上記商品を通して上記支持体に局部的に照射する。 (もっと読む)


【課題】塗装や蒸着など簡易な方法により表面に立体的な図柄が形成され、裏面に図柄が透けて形成される高級感を有する樹脂成形品、および樹脂表面に高級感有る立体的な図柄を形成する表面処理方法を提供すること。
【解決手段】樹脂成形品、例えば化粧料用容器を、透明樹脂製からなる基材と、基材の裏面に、図柄部分となる箇所以外の箇所に設けた不透明な塗膜と、基材の裏面で、図柄部分となる箇所に設けた透明樹脂材と、透明樹脂材に積層した半反射性膜から構成した。樹脂成形品は、図柄部分が基材の裏面より浮かび上がって見える。つまり、暗色系の塗膜の中に反射する図柄部分が目立ち、更に基材と透明樹脂材の屈折率の差などから目の錯覚を引き起こし、半反射性膜が、基材の上側にあるように見え、容器に高級感をもたらすことができる。かつ、樹脂成形品の裏面には半反射性膜を透過して図柄部分が透けて見える。 (もっと読む)


【課題】平面表示装置用の基板と他の基板とを貼り合わせる際に両基板の間の封止の信頼性を向上する。
【解決手段】塗布システムのテープ剥離装置では、テープ剥離ヘッド43および基板移動機構によりマスキングテープ81が基板9から剥離され、これと並行して、基板9上のマスキングテープ81が剥離された領域のうちの封止領域に対して、照射部46によりレーザ光が照射される。これにより、マスキングテープ81の粘着剤から封止領域に転写された低分子成分が封止領域から除去され、あるいは、低分子成分の分子結合が切断されて活性化され、封止領域の封止材料に対する濡れ性が、マスキングテープ81の貼付前と同程度まで向上される。その結果、基板9の封止工程において基板9と封止用基板とを貼り合わせる際に、封止領域に封止材料を均一に塗布することができ、基板9と封止用基板との間の封止の信頼性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】レーザーマーキングの印字の目視による視認性に優れ、またダイシングテープに貼り付けた後およびピックアップした後でも印字の視認性が良好なチップ用保護膜形成用シートによる保護膜形成方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ裏面に保護膜を形成する方法において、少なくとも2層の保護膜形成層からなり、最外層と最外層以外の層の色が異なるチップ用保護膜形成用シートが半導体裏面に貼り合わされ、レーザー照射で最外層が部分的に削り取られ、色の異なる最外層以外の層の露出部が形成され、この露出部によりマーキングすることを特徴とするチップ用保護膜形成用シートによる保護膜形成方法。 (もっと読む)


【課題】より少ない手間、時間で塗装面の突状欠陥部の除去、平坦化が可能な塗装面突状欠陥除去方法及び装置を提供する。
【解決手段】塗装面上の突状欠陥部の3次元形状を計測する第1ステップ201と、このステップ201で計測された突状欠陥部の3次元形状に基づいてその突状欠陥部のみを除去するために最適なレーザ光強度分布を決定する第2ステップ202と、このステップ202で決定されたレーザ光強度分布に従ったレーザ光を突状欠陥部に照射する第3ステップ203とによって、塗装面の突状欠陥部の除去を行うこととした。従来は、レーザ装置からのレーザ光を突状欠陥部に照射するためにその照射量や強度の過不足による欠陥部除去量の過不足が生じ、仕上げ工程が必須となった。本発明では、突状欠陥部の3次元形状に応じた最適なレーザ光強度分布に従ったレーザ光を突状欠陥部に照射することで欠陥部除去量の過不足の発生を抑制し、仕上げ工程を不要とした。 (もっと読む)


【課題】商品、製品の製造管理、流通管理情報等の表示方法の提供。
【解決手段】
少なくとも印刷インキ、もしくは塗工液から形成された透明層/レーザ照射により発色する層の構成を含む積層体を使用することを特徴とする。
【構成】
少なくとも印刷インキもしくは塗工液から形成された透明層/レーザ照射により発色する層の構成を含む積層体においてレーザ照射により製品名、製造者名、製造年月日、ロット番号、規格、賞味期限、会社ロゴマーク、産地表示、肥培管理表示、遺伝子組み替え表示、添加物表示、アレルギーに関する表示、栄養表示、成分表示、バーコード、RSSコード、2次元コードから選ばれる1種以上を印字するレーザ印字方法。 (もっと読む)


【課題】液滴の乾燥効率を向上させて、液滴からなるパターンの形成不良を低減させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールを提供する。
【解決手段】キャリッジ20に搭載された反射ミラー27が、半導体レーザLDの出射するレーザ光を反射し、略反走査方向に沿う第一照射光Le1として液状膜FLの第一照射位置P1に照射する。そして、キャリッジ20に搭載された凹面ミラー29が、第一照射位置P1からの反射散乱光Lrを反射し、略走査方向に沿う第二照射光Le2として再び液状膜FLの第二照射位置P2を照射する。 (もっと読む)


【課題】従来のようなプライマ塗装を施す必要がなく、樹脂ガラス用高分子基板とハードコート層との付着性が十分に高く、しかも樹脂ガラス用高分子基板の紫外線による劣化が十分に防止できる高度な耐候性を発揮できるとともに優れた耐擦傷性を発揮することが可能な樹脂ガラス用積層体、並びに、その樹脂ガラス用積層体を効率よく且つ確実に製造することが可能な樹脂ガラス用積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂ガラス用高分子基板と、前記樹脂ガラス用高分子基板上にアルミニウム、ケイ素、チタン、アルミニウム化合物、ケイ素化合物及びチタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の微粒子を付着してなる無機層と、前記無機層を介して前記樹脂ガラス用高分子基板に積層されたアルコキシシラン含有ハードコート層とを備えることを特徴とする樹脂ガラス用積層体。 (もっと読む)


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