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Fターム[4E351BB31]の内容

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Fターム[4E351BB31]に分類される特許

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【課題】誘電損失が低く、高強度、高熱伝導率で、誘電率および熱膨張係数の調整が容易にできるガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】ガラスおよび/またはそれが結晶化したマトリックス中に特定の結晶面方向に配向したセラミックフィラーを分散し、該フィラーの配向方向と垂直な面と平行な面で測定されるX線回折ピークを比較して、前記フィラーに基づく(hk0)面および(00l)面(ただし、h≧0、k≧0で、h、kの一方が1以上の整数、lは1以上の整数)のピークのうち、2つの測定面でのピーク強度の変化が最も大きい特定結晶面のピーク強度I(hk0)、I(00l)から、p=I(00l)/(I(hk0)+I(00l))で求められる2つの測定面でのp1、p2の比(p1/p2、但しp1>p2)が2以上、かつ一方の測定面から0.1mm研磨した研磨面でのp’値との比(p’/p)が0.8以上のガラスセラミックスを配線基板1の絶縁基板2とする。 (もっと読む)


【課題】 高精度、高機能で薄型化され、パッケージの小型化、低価格を図るようにする。
【解決手段】 耐熱特性や高周波特性を有する有機基材により成形したコア基材5の第1の主面5a上にパターン配線層6を形成するとともに最上層に平坦化処理を施して高周波素子層形成面3を形成してなるベース基板部2と、高周波素子層形成面3上に、薄膜技術或いは厚膜技術によって形成され、誘電絶縁層30を介してベース基板部2側から電源或いは信号の供給を受ける抵抗体27、キャパシタ26からなる受動素子を層内に構成した高周波素子層部4とからなる。 (もっと読む)


【目的】 1000℃以下で焼成可能なガラスセラミックからなる基板に、密着強度、ハンダ耐熱性、基板との焼成マッチングに優れ、導体損失を低減した表層導体を同時焼成にて形成したセラミック配線基板を提供する。
【構成】 ガラスセラミックからなる未焼成のセラミックグリーンシート上に、銀および白金からなる導電成分と、モリブデン、タングステン、二酸化マンガン、二酸化ケイ素、酸化銅からなるフィラー成分とを含む導電ペーストを用いて表層配線を形成した後、1000℃以下の温度にて前記の未焼成のセラミックグリーンシートと前記銀/白金表層配線とを同時焼成したセラミック配線基板。 (もっと読む)


【課題】電源層とグラウンド層間で発生する電源電圧及び不要放射ノイズを広い周波数範囲にわたって簡単な構造で容易に抑制することができる配線基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板2の表面に半導体素子4を搭載する搭載面を有し、且つ絶縁基板2の裏面または内部にCu、W、Moのうち少なくとも1種を主成分とする導体材料によって形成された電源層5とグランウド層6とが形成されてなる配線基板1であって、電源層5とグラウンド層6のうち少なくとも一方の層の周縁にその内部領域5a、6aよりも高いシート抵抗を有するシート抵抗が0.1Ω/sq〜1000Ω/sqであり、内部領域5a、6aよりも高抵抗の導体材料によって形成するか、または孔8、溝9を形成してなる高抵抗領域5b、6bを設ける。 (もっと読む)


【課題】銅を含む低抵抗且つ良熱伝導導体からなる大孔径並びに狭間隔のサーマルビアを絶縁基板との同時焼成により形成可能な安価な配線基板を作製する。
【解決手段】酸化アルミニウムを主成分としMnをMn2 3 換算で2.0〜10.0重量%の割合で含有する相対密度95%以上のセラミックスからなる絶縁基板1と、絶縁基板1の表面に搭載される発熱性素子から発生した熱を放熱するために絶縁基板1表面から裏面に貫通するように形成された複数のサーマルビア2を具備する配線基板において、サーマルビア2を銅10〜60体積%、タングステン及び/もしくはモリブデンを40〜90体積%の割合で含有してなる良熱伝導体によって形成し、且つサーマルビアの最大径を200μm以上、隣接するサーマルビア間の間隔を50〜300μmとする。 (もっと読む)


【課題】セラミック系の配線基板において、配線回路層の微細配線化、低抵抗化を達成でき、かつ配線回路層の絶縁基板への接着強度が高い配線基板とそれを歩留り良く作製することのできる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミック系絶縁基板2の少なくとも表面に、Cu、Ag、Al、Au、Ni、Pt及びPdから選ばれる少なくとも1種からなる金属含有量が99重量%以上の金属箔などからなる高純度金属導体からなる配線回路層3を絶縁基板2表面と同一平面となるように埋設してなるとともに、配線回路層3の配線方向に直交する断面が逆台形形状からなり、その逆台形形状における下底6と横辺7とがなす形成角αを45〜80°とし、特に、表面配線回路層3aの絶縁基板2への埋設側の平均表面粗さを200nm以上、絶縁基板2の40〜400℃における平均熱膨張係数を6ppm/℃以上とする。 (もっと読む)


【課題】窒化アルミニウム基板にAl又はAl合金の回路及び放熱板が形成された、高信頼性回路基板を、安価かつ安定に提供すること。
【解決手段】窒化アルミニウム基板の一方の面に回路、他方の面に放熱板が形成されてなる回路基板において、上記窒化アルミニウム基板が、熱伝導率130W/mK以上で、その表面のCuKαによるX線ピーク強度比が、3≦Y23・Al23/AlN≦18、2Y23・Al23/AlN≦3のものであり、上記回路及び放熱板の材質が、Al及び/又はAl合金であり、しかも上記窒化アルミニウム基板と上記回路及び放熱板との接合が、Al、Si及びMgを含む金属粉末ペーストの熱処理によって行われているものであることを特徴とする回路基板。 (もっと読む)


【課題】 基板上に取り付けられたシールドケースの内部と外部の信号線を接続するのに、作業量及び部品コストを低減する構造のプリント基板を提供する。
【解決手段】 プリント基板16を多層構造にし、シールドケース1が取り付けられると共に当該シールドケース1の内部及び外部に信号パターン17、23が形成された最上層(1/4層)に、シールドケースの内部及び外部に形成された信号パターンにそれぞれ接続されるコンデンサ18,19を設けると共に、下層に、スルーホール24,25を介して最上層に設けられたコンデンサと接続されてフィルタ回路を構成するプリントコイル20,21を形成し、フィルタ回路を介してシールドケースの内部及び外部に形成された信号パターン17,23を接続する。 (もっと読む)


【課題】銅を含む低抵抗、且つ良熱伝導体からなるサーマルビアを絶縁基板との同時焼成により形成可能な安価な配線基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウムを主成分とし、所望によりMnO2 を2〜10重量%の割合で含有する相対密度95%以上のセラミックスからなる絶縁基板1と、絶縁基板1の表面に搭載される発熱性素子4から発生した熱を放熱するために絶縁基板1表面から裏面に貫通するように形成された直径が0.1〜0.3mmのサーマルビア2を具備し、サーマルビア2を銅10〜70体積%、タングステンおよび/またはモリブデンを30〜90体積%の割合で含有してなる良熱伝導体によって絶縁基板1と同時焼成して形成する。 (もっと読む)


【課題】 低温焼結セラミックグリーンシートとの同時焼成後に隆起、亀裂、セラミック割れ等が発生しにくい導体ペーストを提供すること。
【解決手段】 導体粉末と有機ビヒクルとからなる導体ペーストであって、前記導体粉末が、酸化銅粉末を60.0〜80.0重量%、銅粉末を20.0〜40.0重量%、それぞれ混合してなる導体ペースト。或いは、酸化銅粉末を55.0〜79.5重量%、銅粉末を20.0〜40.0重量%、酸化ニッケル、パラジウム及びタングステンからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属粉末を0.5〜5.0重量%、それぞれ混合してなる導体ペースト。 (もっと読む)


プリント配線板(PWB)は、受動回路素子(105)からなる積み重ねられた中間層パネル(1001、1002、1003、...)を有する。受動素子(105)は、電極終端がキャパシタ電極(170、180)のフットプリント内に位置付けられるキャパシタを含むことができる。したがってキャパシタ終端が、狭い間隔で離間して配置されるため、中間層内のループ・インダクタンスに対するキャパシタの寄与が減る。また電極フットプリント内にキャパシタ終端があることによって、キャパシタを形成する際に用いられるPWBボード表面積が減る。キャパシタ終端は、回路導体(1021、1022)によって接続される。
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特定の特性の金属粉または金属粉混合物ならびに反応性有機媒体を含むPARMOD(商標)材料は、プリント配線板基板のような電子部品上に容易にプリントまたは堆積され、低温で硬化して、導電性が高く、充分固着され、充分硬化された純金属成分を形成する。電子部品上のPARMOD(商標)コンダクターの接着性は、電子部品に塗布されたポリイミド塗膜上にPARMOD(商標)をプリントすることによって、増進される。 (もっと読む)


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