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Fターム[4F100AD04]の内容

積層体 (596,679) | セラミック (2,149) | 窒化物(セラミック) (175)

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【課題】
加工時や使用時の熱などに対し寸法安定性が高く、水蒸気や酸素などのガスバリア性に優れ、かつ、光学異方性が少なく、光線透過率に優れたガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイを提供する。
【解決手段】
荷重たわみ温度150℃以上の基材の両面へ、線膨張係数が100ppm/K以下であり、かつ前記基材と前記硬化型樹脂の屈折率差nが0.03≦n≦0.18である硬化型樹脂層を設けて、さらに、必要に応じて、少なくとも片側の面へ、1又は複数層のガスバリア層及び/又は平滑化層を設けてなることを特徴とする。 (もっと読む)


少なくとも一つの劣化性被覆層及び少なくとも一つの障壁被覆層を含む被覆構成体が開示されている。この被覆構成体は、熱、及び塩化物のようなハロゲン化物、硫黄、塩、塩素、アルカリ、及びエナメルのような或る化学物質に曝された後、従来の被覆基体よりも改良された性能を有する被覆基体を製造するのに用いることができる。
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酸素イオン及び電子を輸送するための緻密層(10)と、機械的に支持するための多孔支持層(12)により形成される層状構造体を有する酸素イオン輸送複合体要素(1)。緻密層(10)は、混合伝導体、イオン伝導体、及び金属の混合物により形成することができる。多孔支持層(12)は、酸化物分散強化金属、金属強化金属間合金、ホウ素ドープMO5Si3系金属間合金又はこれらの組合せから作製することができる。支持層(12)は、相互連結していない細孔(14)のネットワークを備えることができ、前記細孔(14)の各々は前記支持層(12)の相対する表面との間を連通している。上に概略が示されたもの以外の様々な材料構成を用いるものを含めて、どのようなタイプの要素においても、拡散抵抗を低下させるために、このような支持層(12)を有利に用いることができる。 (もっと読む)


本発明はガラスからできているタイプの透明基板に関する。本発明の基板は、ケイ素またはアルミニウムまたはこの2つの混合物の[窒化物、炭窒化物、酸窒化物または酸炭窒化物]をベースとする少なくとも1つの層Cを上に配設した被覆層と共に含む被膜を含んでなる。本発明は、この被覆層が酸化物ベースの機械的保護層であり、この酸化物が場合によっては化学量論以下または化学量論以上の酸素含量を有し、および/または場合によっては窒化物であることを特徴とする。本発明を使用して、多層または合わせグレージングを製造することができる。 (もっと読む)


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