【課題】 半導体デバイスなどの製造工程において、パターン転写後の基板の不良率を低減することができるナノインプリントパターン形成用金型およびナノレベルのパターンを有する部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 ナノインプリントパターン形成用金型１Ａには、被転写基板１０の分割相当箇所に分割切れ込み部１３Ａを転写するための分割用切れ込み形成部としてのノッチ形成用凸部３Ａが形成されている。被転写基板１０にナノインプリントパターン形成用金型１ＡによってパターンＰが転写されると、ノッチ形成用凸部３Ａが転写パターン形成層を貫通して、基板本体１１にノッチ１３ａが形成される。 （もっと読む）

【課題】 形状精度の高い成形品を製造することができる成形型、成形装置及び光学部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】成形型１１は、それぞれに成形面１１１Ａ１，１１２Ａ１が形成された一対の型１１１，１１２と、この一対の型１１１，１１２を包囲する胴型１１３とを有する。胴型１１３の外周面１１３Ａ全面は黒色であり、黒色めっき或いは酸化処理が施されている。胴型１１３の外周面１１３Ａには赤外線が照射され、胴型１１３の外周面１１３Ａは黒色であるため、効率よく赤外線を吸収することができる。これにより、胴型１１３内部に配置された材料Ｍが確実に加熱されることとなり、材料Ｍをプレスする際に、材料Ｍを所望の形状に変形させることができ、形状精度の高い光学部品を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 従来のホットエンボス法、射出成形法、圧縮成形法、ナノインプリント法に比べて格段に優れた製品を高い生産性で生産可能な微細転写方法および装置を提供すること。
【解決手段】 微細な凹凸形状１Ｌｃを有する下型スタンパー１Ｌの表面１Ｌａ上にプラスチック基材２を装着し、加圧手段６により、上型１２Ｕをプラスチック基材２に向けて加圧し、プラスチック基材２を下型スタンパー１Ｌに押圧する。下型スタンパー支持体５Ｌには幅方向７に長いスリット状の開口部８を設け、そこを通して炭酸ガスレーザ１３によりビーム状の赤外線３を照射し長手方向４に移動させ下型スタンパー１Ｌの微細な凹凸形状と反転する凹凸形状をプラスチック基材２に形成し、冷却し、プラスチック基材２を離型する。 （もっと読む）

一側面に形成されたパターンを利用して基板上に目標パターンを形成する鋳型は、非結晶性フッ素樹脂からなる。前記鋳型は、前記パターンに対向するパターン構造を有するマスターモールドを利用して製造される。 （もっと読む）

本発明は、プラスチック製品を製造するための方法および装置に関するものであって、本発明による方法においては、型輪郭を有した金属型を、型輪郭に適合する輪郭のものとして形成された赤外エネルギー加熱部材からの赤外エネルギーを使用することによって、キャスト温度にまで、予熱し；予熱された金属型上へと、プラスチック材料をキャストし；赤外エネルギーを使用してプラスチック材料を溶融させ；相変化または状態変化を起こし得る材料を金属型に対して接触させることにより、金属型を冷却し；キャストされたプラスチック製品を金属型から取り外す。
（もっと読む）