【課題】 光学フィルム用材料として適した、微小異物の少ないセルロースアシレートの
製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式を満足する置換度を有するセルロースアシレートの製造方法であっ
て、１）セルロースに対し、活性化剤として水または炭素原子数２以上７以下のカルボン
酸の少なくとも一方を添加する工程と、２）活性化剤を添加したセルロースにマイクロ波
を照射する工程と、３）セルロースに炭素原子数２以上７以下のカルボン酸の酸無水物を
加え、ブレンステッド酸の存在下で、セルロースの水酸基をアシル化する工程とを含むセ
ルロースアシレートの製造方法。
２．０≦Ａ＋Ｂ≦３
０≦Ａ≦２．５
０．３≦Ｂ≦３
（式中、Ａはアセチル基の置換度を表し、Ｂは炭素原子数３以上７以下のアシル基の置
換度の総和を表す。） （もっと読む）

【課題】 セルロースアシレートフィルムの製造方法において、優れた光学特性を有するセルロースアシレートフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 支持体から剥離したセルロースアシレートフィルムの幅手の端部を把持し、幅手方向に延伸する工程において、セルロースアシレートフィルム中の溶媒残存量の差に応じて延伸比率（延伸率×１００／最大延伸率）を調整する。 （もっと読む）

【課題】光学フィルム用材料として適した、微小異物の少ないセルロースアシレートを製造する方法を提供し、さらに、該セルロースアシレートから溶液製膜または溶融製膜することにより、高品位な液晶表示装置を作成することが可能なセルロースアシレートフィルムを提供する。
【解決手段】下記式の置換度を満足するセルロースアシレートの製造方法であって、1)セルロースに対し、活性化剤として、水または炭素数２以上７以下のカルボン酸の少なくとも一方を添加する工程と2)１時間以上、40℃以上で保つ工程とを含むセルロースアシレートの製造方法。 ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３ ０≦Ａ≦２．５ ０．３≦Ｂ≦３ （Ａはアセチル基の置換度、Ｂは炭素数３以上７以下のアシル基の置換度の総和を表す。） （もっと読む）

【課題】 ブロック共重合体にクレイを複合化して、クレイとナノドメインを高秩序に配列制御することにより新規な秩序構造を有するフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
ラメラ構造を有するポリ（エチレンオキシド−スチレン）ブロック共重合体（PEO-b-PS）−クレイナノコンポジットからなり、
１．Mw/Mn= 1.1以下、 PEO/PS = 65/35〜35/65（重量比）でラメラ構造を形成し、
２．ブロック共重合体のラメラがフィルム面に高度に配向し、
３．ラメラ構造の中でPEOの結晶が高度に配向し、
４．クレイの重量分率：２〜20％
５．クレイの層間にブロック共重合体がインターカレートしていることを特徴とする高配向フィルム及びその製造方法。

【採用図面】 図１ （もっと読む）

【課題】高輝度表示装置での使用における光学ムラを抑制する。
【解決手段】支持体５３の上の流延膜５９に対して、給気ダクト６１から送風するとともに排気ダクト６２から排気する。さらに給気ダクト６１と排気ダクト６２との間には、送風が流延膜５９の走行方向に沿って流れるように風の向きを制御するためのガイド板６４を複数設ける。得られるフィルムについて長尺方向と交差する方向での厚みを複数測定してみると、その厚みのばらつきは平均厚みに対して±２μｍ以内であり、測定開始点から各測定点までの距離ｄＸｎに対する厚みｄＹｎの変化率から求められる分散値Ｖ＝Σ｛（ｄＹｎ）／（ｄＸｎ）｝² ／ｎが３００×１０^-5未満である。このフィルムを高輝度の液晶表示装置の偏光板保護フィルム等として用いると、縦横方向における光学ムラがなく、良好な表示性能を発現する。 （もっと読む）

【課題】 光学等方性に優れるＴＡＣフィルムを得る。
【解決手段】 ＴＡＣを含むドープを流延バンド上に流延して流延膜を形成する。流延膜が自己支持性を有するものとなった後に湿潤フィルム４６として剥ぎ取る。湿潤フィルム４６をテンタ式乾燥機６０に送り込む。入口部８０で予熱して延伸部８１で延伸を行う。緩和部８２でフィルム幅を収縮させた後に出口部８３を通した後にフィルム６１として送り出す。噛込幅をＬ１（ｍｍ）とし、最大延伸幅をＬ２（ｍｍ）とし、離脱幅をＬ３（ｍｍ）としたときに１＜（Ｌ２−Ｌ３）／Ｌ１×１００＜１５の関係とすることでフィルム６１は、ボーイングの発生が抑制される。 （もっと読む）

本発明は、セルロースアシレートフィルムの製造方法及び該セルロースアシレートフィルムを用いた光学補償シート、偏光板、および画像表示装置に関する。本発明のセルロースアシレートの製造方法は、セルロースアシレート１００質量部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を０．０１乃至２０質量部含有するセルロースアシレート溶液を調製する工程、流延工程、及び剥ぎ取り前乾燥の前半において実効風速１０ｍ／ｍｉｎ以上の気体を流延されたセルロースアシレート溶液に送風する工程を含むことを特徴とする。
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【課題】 セルロースエステルフィルム原反の保存性に優れ、異物の発生がなく、生産性にも優れたセルロースエステルフィルム、及びその製造方法を提供すること、さらには、該セルロースエステルフィルムを用いた偏光板、及び偏光板を用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 微粒子を含有するセルロースエステルフィルムは、フィルム表面の平均突起高さの２倍以上の高さを持つ突起の数をＡ、フィルム表面の総突起数をＢとしたときに、 １．０×１０^−６≦Ａ／Ｂ≦１．０×１０^−２であることを特徴としている。セルロースエステルフィルムの製造方法は、微粒子を含有する添加液を、セルロースエステルの主ドープに、フィルムに含有すべき微粒子の全量を添加し、その後、捕集粒子径０．５〜５μｍでかつ濾水時間が１０〜２５ｓｅｃ／１００ｍｌの濾材で濾過し、濾過された微粒子添加液を含むセルロースエステルの主ドープ液を流延して、フィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】 低い焼成温度でのイミド化反応が可能なポリアミック酸組成物を提供する。
ポリアミック酸組成物を使用することで、生産性、膜厚の均一性に優れ、機械的特性の良好な無端ベルトおよびその製造方法を提供する。
無端ベルトの膜厚不均一性等に起因する不良を低減できる画像形成装置を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるポリアミック酸と、水酸基、アミノ基およびスルホニル基のいずれか１以上を有する芳香族カルボン酸化合物、並びに、アミノ基およびスルホニル基のいずれか１以上を有するフェノール化合物、のいずれか１以上と、導電剤と、を含有するポリアミック酸組成物である。
【化１】


また、上記ポリアミック酸組成物を成形型に塗布し、乾燥処理等を施して作製されるポリイミド無端ベルトおよびその製造方法である。
さらに、上記ポリイミド無端ベルトを中間転写体および／または定着体として具備する画像形成装置である。 （もっと読む）

【課題】 膜厚方向に負のレターデーション値を有する透明なセルロースアシレートフィルムを工業的に安価に提供すること及びこれを位相差板や位相差板の支持体、偏光板の保護フィルムとして使用した優れた液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 膜厚方向のレターデーション値が０ｎｍ未満であり、セルロースの水酸基へのアシル置換度が式（Ｉ）２．８７≦ＳＡ＋ＳＰ≦３、（ＩＩ）０≦ＳＡ≦１．７及び（ＩＩＩ）１．３≦ＳＰ≦２．９（上記各式中、ＳＡおよびＳＰはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、またＳＰはプロピオニル基の置換度である）の全てを満足し、かつパルプ由来であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。 （もっと読む）

【課題】 電子写真装置に使用される無端ベルト表面に離型剤の塗りムラが転写されることなく、かつ短時間で無端ベルトを金型より離型することで、その生産性を向上できる電子写真装置用ベルトを提供する。
【解決手段】 ポリアミドイミドの単層構造体に０．０１〜１０質量％のシリコーン成分からなる離型剤を内添する。成形直後のポリアミドイミドの単層構造体の表面に、該構造体の内部より２〜５倍の高い濃度で離型剤のシリコーン成分が存在させる。 （もっと読む）

【課題】スパッタや蒸着等の気相法によりコストアップを極力抑えながらプラスチックフィルム上に金属薄膜を形成するに当たり、金属とプラスチックフィルムの密着強度の大幅な向上を図る。
【解決手段】基材の表面を粗化面化し（１１０）、その基材の粗化面にポリイミド前駆体を塗布して（１０３）、加熱イミド化する（１０４）ことにより、基材の粗化面に対応した粗化面（Ｒｍｓ０．０５μｍ以上）を有する粗化フィルム１１０を得る。次に基材から剥がした粗化フィルムを真空チャンバ内に収容して、Ｃｒスパッタ（１２２）、Ｃｕスパッタ（１２３）を順にすることにより粗化面上に金属薄膜を形成し、更にその上にＣｕメッキすることにより金属被覆基板１３０を得る。 （もっと読む）

ジベンゾジアゾシンポリマー、ジベンゾジアゾシンポリマーの製法、ジベンゾジアゾシンポリマーから形成される生成物、及びかかるジベンゾジアゾシンポリマーの使用が提供される。 （もっと読む）

本発明は、連続的に生産される有機絶縁フィルムであって全幅において特定の物性を有する新規な有機絶縁フィルムおよびこれを用いた接着フィルム、フレキシブル金属張積層板、多層フレキシブル金属張積層板、カバーレイフィルム、ＴＡＢ用テープ、ＣＯＦ用ベーステープを提供するものである。連続的に生産される有機絶縁性フィルムであって、フィルムの全幅において下記（１）〜（３）を満たす有機絶縁性フィルムによって上記課題を解決しうる。（１）フィルムのＭＯＲ−ｃ値が１．０５以上５．０以下、（２）分子鎖主軸配向角がＭＤ方向に対して−３０から３０度、（３）フィルムＭＯＲ−ｃ値の最大値と最小値の差が１．０以下 （もっと読む）

本発明は、エレクトロニクス分野で有用と考えられる、フィルムの全幅において物性が安定した合成樹脂フィルム、その中でもＭＤ方向に分子配向が制御された合成樹脂フィルムの連続生産法に関する。すなわち本発明は（Ａ）高分子と有機溶剤を含む組成物を支持体上に連続的に流延・塗布し、ゲルフィルムを形成する工程、（Ｂ）ゲルフィルムを支持体から引き剥がしゲルフィルムの両端を固定する工程、（Ｃ）フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、を含む合成樹脂フィルムの連続的な生産方法であって、前記（Ｃ）工程の少なくとも一部においてフィルム幅方向（ＴＤ方向）の張力が実質的に無張力となるように固定されるものである。 （もっと読む）

本発明の課題は、フィルムの配向が全幅にわたってＭＤ配向した合成樹脂フィルムを安定的に連続生産する製造方法を提供することである。本発明は、（Ａ）高分子及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延・塗布後、ゲルフィルムを形成する工程、（Ｂ）該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定しながら加熱する工程、および（Ｃ）（Ｂ）工程後に、フィルムの両端固定を解除した状態で加熱する工程、を含む合成樹脂フィルムの製造方法であって、（Ｂ）工程で得られるフィルムの厚みｂと、（Ｃ）工程で得られるフィルムの厚みｃの関係が、ｂ＞ｃとなっていることを特徴とする合成樹脂フィルムの製造方法である。 （もっと読む）