【課題】 モールドの表面に励起光を照射することなく、モールドのパターン欠陥を検知するインプリント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、型に形成されたパターンと、基板に供給されたインプリント材とを接触させることで、インプリント材にパターンを転写するインプリント装置であって、発光物質を発光させる励起光を照射する照射部と、発光物質から発光する光を検出する検出部と、発光物質を含む型を保持する型保持部と、を備え、インプリント材にパターンが転写された後、照射部はインプリント材に転写されたパターンに励起光を照射し、検出部はインプリント材に残留した発光物質から発光する光を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温加熱されたロールとの当たりよる欠陥を発生させることなくシート生地表面にエンボス模様を効率的に形成させることができる長尺材の製造方法を提供する。
【解決手段】加熱されたエンボスロール１１とその受けロール１２と間に、長尺材Ｓを通過させてエンボスロールのベース面１１ｂから立設するように形成された凸部１１ａを長尺材Ｓ表面を押圧することによって、長尺材表面にエンボス模様を形成させる長尺材の製造方法であって、
長尺材がエンボスロール１１を通過する際にエンボスロールのベース面が長尺材表面に接触しないようにする。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段１０を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段１０により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段１２を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段１２により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段１３を具備する。 （もっと読む）

【課題】パターン転写不良やモールドの目詰まりを未然に防いで生産性を向上させる。
【解決手段】パターン転写装置１１Ａ０の制御装置２３は、離型層厚取得部５１と、離型層厚判定部５３と、供給量演算部５５と、供給量制御部５９とを備える。離型層厚取得部５１は、残留離型層３２の厚さに係る相関値を取得する。離型層厚判定部５３は、残留離型層３２の厚さに係る相関値が所定の基準を満たすか否かを判定する。供給量演算部５５は、離型層厚判定部５３の判定結果に基づいて、離型剤供給部２１における離型剤の供給量を演算する。供給量制御部５９は、モールド３１上のそれぞれの位置において、適正な量の離型剤を適時に供給する制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 インプリントにおけるテンプレートの検査を短期間で確実に行うことができ、インプリント装置の稼働率の向上及び生産性の向上に寄与する。
【解決手段】 実施形態のインプリント方法は、テンプレートを作製するためのパターンデータを元に、テンプレートの検査で用いるレジスト材の塗布条件を決定し、決定された塗布条件にて検査用基板３０上にレジスト材１１を塗布する。レジスト材１１にテンプレート２０を接触させ該レジスト材１１を一定時間硬化させた後に、テンプレート２０をレジスト材１１から剥離することにより、検査用基板３０上にレジストパターンを形成する。検査用基板３０上に形成されたレジストパターンを検査し、テンプレート２０の使用可否判定を行う。そして、使用可能と判定されたテンプレート２０を用いて、被加工基板上にレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】高精度で、且つ、低コストで半導体装置を製造するインプリント装置の動作方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、インプリント装置は、データ記憶手段と、制御手段と、転写手段とを有し、制御手段が、テンプレート毎に、データ記憶手段に記憶された、テンプレートの作製履歴データと、テンプレートの表面に形成されたパターンのパターンデータと、テンプレートを用いて硬化性樹脂に転写して得られたパターンの転写パターンデータとの少なくとも１つを読み出し、読み出されたデータに基づいて、あらかじめ準備した複数のグループの中から、テンプレートが紐付けられるべき１つのグループを選択し、あらかじめ準備した複数のインプリント条件の中から、選択されたグループに一対一対応するインプリント条件を選択し、転写手段により、選択されたインプリント条件に従って、テンプレートを用いて転写する。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置において基板保持面またはモールド保持面に存在する異物を除去するために有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に塗布された樹脂とモールドのパターン面とを接触させて該樹脂を硬化させるインプリント装置１００は、前記基板を保持する基板保持部４と、モールド保持面ＭＳで前記モールドを保持するモールド保持部３と、前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４を相対的に移動させる駆動機構と、前記基板保持部４により前記基板の代わりにクリーニング部材１２が保持されて前記クリーニング部材１２と前記モールド保持面ＭＳとが接触した状態で前記モールド保持部３に対して前記基板保持部４が相対的に移動するように前記駆動機構を制御し、これにより前記モールド保持面ＭＳをクリーニングする制御部２０とを備える。 （もっと読む）

【解決手段】表面に凹凸パターンが形成される直径が１２５〜３００ｍｍである円形状の金型用基板であって、該基板の直径１２５ｍｍ以下の円内の厚さばらつきが２μｍ以下である金型用基板。
【効果】表面に凹凸によるパターンが形成される円形状の金型用基板であって、上記基板の中心の直径１２５ｍｍ以下の円内の厚さばらつきが２μｍ以下である金型用基板を使用することによって、金型用基板上にパターンを作成するときと転写するときとでパターン位置が不整合になったり、パターン誤差が生じたりすることを防ぐことができ、高精細で複雑なパターンの転写が可能になる。 （もっと読む）

【課題】光学部材の凹凸形状をより簡易に決定するための方法を提供すること。
【解決手段】試作用の転写型５３の形状を異なる転写率（ｈ３／ｈ１）で転写することにより、互いに異なる凹凸形状を有する複数の光学部材試作品３０を成形するステップと、複数の光学部材試作品３０それぞれの光学特性を評価するステップと、光学特性に基づいて光学部材の凹凸形状を決定するステップと、を含む、光学部材の凹凸形状を決定する方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置により基板に形成されたパターンの残膜厚を計測する精度の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】インプリント装置により透過膜を有する基板に形成されたレジストの凹凸パターンの凹部の厚さを計測する計測装置の計測感度の目標値を設定し、当該目標値を満たす透過膜の厚さを前記基板に形成すべき透過膜の厚さとして決定する決定ステップを有し、前記計測感度は、前記凹凸パターンの形状の変化に対する前記凹凸パターンからの反射光の強度の変化又は位相の変化で定義され、前記決定ステップでは、複数の厚さの透過膜のそれぞれについて、前記凹凸パターンの形状の変化に対する前記凹凸パターンからの反射光の強度の変化又は位相の変化に基づいて前記計測感度を示す情報を取得し、当該情報から前記目標値を満たす透過膜の厚さを特定することを特徴とする決定方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】対象物に対する高精度な微細加工を迅速に行う。
【解決手段】微細加工装置の加工ヘッド４は、基板４１１上に交互に配列された複数の可動リボン４１３ａおよび固定リボンを有する回折格子型の空間光変調デバイス４１、および、空間光変調デバイス４１の複数の可動リボン４１３ａから保持部３に向けて突出する複数の切削刃４２を備える。加工ヘッド４では、複数の可動リボン４１３ａの昇降により、複数の切削刃４２が対象物９の被切削面９１に対して個別に接触および離間し、切削刃４２が被切削面９１に接触した状態で、対象物９が移動されることにより微細切削加工が行われる。微細加工装置では、可動リボン４１３ａの昇降を高精度に制御することにより、対象物９に対する微細切削加工を迅速かつ高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】残膜量の変動を低減したインプリント方法、半導体集積回路製造方法およびドロップレシピ作成方法を提供すること。
【解決手段】被処理基板上に転写されたパターンの欠陥検査を行い、欠陥の画像データを生成する。欠陥が検出されたとき、前記生成された画像データから欠陥輪郭を抽出して、前記抽出した欠陥輪郭を前記半導体集積回路のパターンデータに反映させ、前記欠陥輪郭が反映されたパターンデータに基づいて第１ドロップレシピを生成する。そして、硬化性樹脂材料の塗布に使用しているドロップレシピを前記生成した第１ドロップレシピで更新する。 （もっと読む）

【課題】グラデーションパターンの微細化、小ピッチ化が可能であり、かつ、生産性に優れる導光板の製造方法を提供すること。
【解決手段】円周方向に均一な微細凹凸を有するロール型２を加熱し、加熱されたロール型２を熱可塑性樹脂からなる透明基板１の表面に押圧して透明基板１の表面に前記微細凹凸を転写する導光板の製造方法であって、ロール型２が透明基板１を押圧する圧力と、透明基板１の搬送速度と、透明基板１の温度と、の３つのパラメータうち少なくともいずれか１つを変化させることにより、透明基板１に転写された微細凹凸に透明基板１の長さ方向のグラデーションを付与する、導光板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高精度な位置合わせを弊害なく実現する。
【解決手段】実施形態に係わるナノインプリント用テンプレートは、同一面に転写パターン１６ａ及びアライメントマークＡＭ２を備え、アライメントマークＡＭ２は、偏光子又は位相差フィルム１７により構成される。そして、ナノインプリント技術による基板上へのパターン転写時に、偏光を用いることにより、又は、光の位相差を検出することにより、基板とナノインプリント用テンプレートとの位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】基板の表面へのソフトリソグラフィ・スタンプまたはマクロスタンプの印加圧力を、簡単に効率的に制御でき、自動化を促進する装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板にマイクロ構造またはナノ構造の被着を実現できる可撓性スタンプを備える、転写によるソフトリソグラフィ用装置であって、該可撓性スタンプ１が、転写によって被着を実現できる構造面３１を、その片面に備えるエラストマ製層３と、該第１層３の構造面に対向する面に密接した状態のエラストマ製第２層２であって、軟強磁性材料から成る粒子を分散させたエラストマから成る第２層２とから成ることを特徴とする装置。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、テンプレートに欠陥が生じた場合に、欠陥の種類に応じて最適な歩留まりの管理を行うことができるインプリント方法、インプリント装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。次に、複数回の撮像する工程によって得られた複数の画像の経時的な変化に基づいて、テンプレートの欠陥の種類を判定する。 （もっと読む）

【課題】モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂のパターン欠陥を生じないもしくは低減させたナノインプリント方法、およびそれに用いるモールドを提供する。
【解決手段】凹凸パターン１２を表面に有するモールド１１を、被加工基板１４上の光硬化性樹脂１５に押し付けると共に、前記モールド１１を介して前記光硬化性樹脂１５を感光させる光を照射することによって前記光硬化性樹脂１５を硬化させて前記凹凸パターン１２を転写するナノインプリント方法であって、前記モールド１１表面の表面自由エネルギーと、前記硬化した後の光硬化性樹脂１５表面の表面自由エネルギーとの少なくとも一方の表面自由エネルギーが、５ｍＪ／ｍ²以上で３０ｍＪ／ｍ²以下である。 （もっと読む）

【課題】ディスペンサより吐出されるＵＶ硬化性樹脂の量が一定となるように調整可能な転写装置を提供する
【解決手段】ディスペンサ２０のやや下方にカメラ１８を設け、該カメラ１８によりディスペンサ２０より吐出される液滴ｐを撮影する。更に、この液滴ｐの画像に基づいて該液滴ｐが球体形状であるとした場合の半径ｒ１を求め、これを所定の演算式に代入して液滴ｐの体積Ｖ１を求める。そして、液滴ｐの体積Ｖ１に基づいて、ディスペンサ２０より単位時間当たりに吐出されるＵＶ硬化性樹脂の量を求め、この情報を操作者に通知する。従って、操作者はＵＶ硬化性樹脂の吐出量が適正な量であるか否かを判断することができ、ＵＶ硬化性樹脂の吐出量が基準量となるように調整することができる。 （もっと読む）

【課題】欠陥の発生を抑制したナノインプリント方式のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】転写面１０ａに凹凸１２を有するテンプレート１０の表面の濡れ性を測定する測定工程（ステップＳ１１０）と、濡れ性の測定結果に基づいて、テンプレートの転写面を、基板２０の主面２０ａ上に設けられた転写材３０に接触させて前記凹凸のパターンを転写材３０に転写するか否かを決定する判断工程（ステップＳ１１５）と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）