【課題】 天然木の照りを再現するためのエンボスシートを作成する際に、天然木の材面を撮影する作業および撮影画像に基づく演算処理の負担を軽減する。
【解決手段】 サンプルとなる天然木の切断面を、異なる２方向から照明光を照射した状態で撮影することにより、第１の基本画像Ｐ１および第２の基本画像Ｐ２を得る。両画像における対応する画素の画素値Ｐ１（ｘ，ｙ）、Ｐ２（ｘ，ｙ）の差をとった差分画像Ｄもしくは比をとった対比画像Ｑを求める。個々の画素値を所定範囲の角度値θ（−４５°〜＋４５°）に対応づけることにより、差分画像Ｄの画素値Ｄ（ｘ，ｙ）もしくは対比画像Ｑの画素値Ｑ（ｘ，ｙ）を、対応する所定の角度値θに置き換え、二次元平面上に角度分布を定義する。そして、各位置に定義された角度に応じた向きを有する万線を生成し、これを凹凸パターンとして表現したエンボスシートを作成する。 （もっと読む）

【課題】入射した光を効率よく通過させ得る微細凹凸部を有する微細構造体をエッチングプロセスではなく、ナノインプリント技術を使用して、経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント技術を用いて、透明 基板上にアルミニウム、ゲルマニウム、またはチタン等の金属酸化物および／またはアルコキシドを添加することにより屈折率を制御した有機無機ハイブリッド材料を塗布するステップと、前記有機無機ハイブリッド材料を塗布した基板をプリベイクするステップと、塗布された前記有機無機ハイブリッド材料に微細な凹凸部を有する金型を減圧状態の中で、圧着し、加熱するステップと、前記金型を前記有機無機ハイブリッド材料から離型するステップとにより、微細構造体を製造する。 （もっと読む）

【課題】疎水性のプラスチックの表面を、超親水性にすることにより、防曇性防汚染性に優れプラスチック成型物を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】フイルム基材に親水性シリカ膜を形成し、プラスチック表面に圧と熱とでシリカ膜を転写するか、上記フイルムを金型内面に箔送り装置で送り込み、プラスチックを射出成型しシリカ膜を転写することで、超親水性表面を有するプラスチック成型物が得られる。 （もっと読む）

【課題】 １００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。
【解決手段】 基板の上に、樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、パターンの形成されたモールドを押しつける工程と、前記モールドを前記基板から引き離す工程と、を備えたパターンの形成方法において、樹脂層を形成する工程として基板に２層以上の電解質膜を吸着させることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は位置検出を高精度に行う２次元角度格子を構成する基準格子を効率良く生産することを課題とする。
【解決手段】 基準格子製造装置１０では、平板状転写マスタ１４と微細凹凸形状パターン１２とレプリカベース２０の成型用平面１６との間に光硬化性樹脂層１８を介在し、光硬化性樹脂層１８に微細凹凸形状パターン１２を押圧させた状態で、光硬化性樹脂層１８の下方から紫外線を照射して光硬化性樹脂層１８を硬化させる。これにより、光硬化性樹脂層１８の上面には、微細凹凸形状パターン１２を転写された微細凹凸形状パターンが完成する。このように、基準格子製造装置１０を用いた製造方法によれば、基準格子の大きさに拘わり無く、微細凹凸形状パターンを高精度且つ効率良く加工することが可能になる。 （もっと読む）