【課題】樹脂成形品の表面に樹脂組成物の樹脂色と異なる塗料を塗って塗膜を形成し、その塗膜の一部にレーザー光を照射して塗膜を除去してレーザーエッチング品を形成する工法では塗膜を除去した部分と除去しない部分の境界で凹部が生じてしまうが、レーザー光照射によっても、この凹部を生じさせないようにして、塗膜を除去した部分の鮮明な表示を維持でき、周囲が剥がれないレーザーエッチング品の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー光３照射によりレーザー光３が照射された領域が発泡する樹脂成形品１の上に加飾層２が積層された加飾成形品６に対し、表面に加飾層２が積層された側から加飾成形品６の一部にレーザー光３を照射して、レーザー光３が照射された領域の加飾層２を除去し、さらにレーザー光３の照射を継続してその領域の樹脂成形品１の表面を発泡させることにより発泡層４を形成する。 （もっと読む）

表面の公称形状を修正せずにナノトポグラフィおよびラフネスを修正するために、適応ナノトポグラフィ・スカルプティングを使用することができる。一般に、適応ナノトポグラフィ・スカルプティングは、所望の形状特性を有する表面を形成する。第１の表面のトポグラフィが、密度マップを生成するためにマッピングされる。第１の表面上に重合可能物質を供給するための滴下パターンを生成するために、密度マップを評価する。重合可能物質を、固化させ、所望の形状特性を有する第２の表面を形成するためにエッチングする。
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【課題】ドライエッチング速度の選択性が高く、かつレジスト等に用いる微細パターンを熱またはＵＶナノインプリント法によって形成することのできる転写材料用硬化性組成物およびその形成方法を提供する。
【解決手段】アクリロイル基を有するポリシロキサンからなり、分子の末端が−Ｏ−Ｓｉ（ＯＲ）_３（ここでＲは炭素数１〜４のアルキル基である）または−Ｏ−Ｓｉ（ＯＸ）_３（ここでＸはアクリロイル基を含有する基である）であって、すべてのＲに対するＸの存在割合が０．１以上である硬化性ケイ素化合物を含有する、微細パターンを形成するための転写材料用硬化性組成物およびこれを用いた微細パターン形成方法。 （もっと読む）

【目的】本発明は、モールド作製方法に関し、一定面積のマスクを電子描画で作製し、作製したマスクを電子線露光でモールド上に順次マスク露光した後に現像し、大面積のモールドを短時間に作製してスループットを向上させることを目的とする。
【構成】マスクを、レジストを塗布したモールドの所定位置に近接して位置づけるステップと、近接して位置づけた状態で、電子線をマスクに照射してマスク上の微小パターンを透過した電子線をマスク上のレジストに露光するステップと、露光した後に、マスクを次の位置に位置づけた後、露光することを繰り返すステップと、繰り返した後に、モールド上の露光されたレジストを現像するステップと、現像した後のモールドをエッチングし、マスク上のパターンに対応するパターンをモールド上に形成するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】効率よくナノインプリント加工を行い得る方法およびその装置を提供する。
【解決手段】転写面に凹凸パターンを形成したモールドを用いて、熱可塑性レジストを塗工した基板のレジスト面にパターンを形成するインプリント方法であり、アライメント工程、加熱工程、モプレス工程、冷却工程、離型工程を少なくとも有し、前記各工程が、１つの工程をその中で実施する独立ユニット、複数の工程をその中で実施する複合ユニットあるいは独立ユニットと複合ユニットの組み合わせからなる複数のユニット内にて実施され、モールドと基板と対にしてユニット間を搬送する搬送工程を有するインプリント方法およびインプリント方法における各工程を１つの工程をその中で実施する独立ユニット、複数の工程をその中で実施する複合ユニットあるいは独立ユニットと複合ユニットの組み合わせからなる複数のユニットを備え、さらに、前記各ユニット間をモールドと基板と対にして搬送する搬送手段を備えてなるインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】優れたコントラストを有する模様を転写し得る離型紙を高い生産効率で製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、原反２０に凹凸模様１２を形成して離型紙１０を製造する製造方法である。製造方法は、原反の面２０ａに樹脂１５をスプレーコーティングすることにより、原反の面を粗化する工程と、エンボス加工により、粗化された原反の面に凹凸模様を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

膜シートの上に重合可能材料の小滴をパターン化することができる。膜シートの上に重合可能材料の小滴を分与することができる。膜シート上の重合可能材料の小滴の局部トラッピングが最小化され、かつ、小滴が合体して連続層が形成されるよう、インプリント・リソグラフィ・テンプレートに所定の力を印加することができる。重合可能材料を凝固させて、残留層および少なくとも１つのフィーチャを有するパターン化された層を形成することができる。
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【課題】太陽電池や発光装置用として好適な微細凹凸付き基板において、ポリイミド樹脂表面に凹凸パターンを形成する際に発生しやすいボイドやピンホールを抑制した凹凸付き基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る凹凸付き基板の製造方法は、ポリイミド前駆体を含有する樹脂材料を長尺状の薄板表面に塗布する塗布工程と、塗布した前記樹脂材料を加熱処理する第１の加熱工程と、前記樹脂材料に凹凸形状転写用モールドを当接して加熱押圧する工程と、加熱押圧した前記凹凸形状転写用モールドを前記樹脂材料から剥離する工程と、前記凹凸形状転写用モールドを剥離した後の樹脂材料を加熱する第２の加熱工程とを含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】材料損失が少なく、基板との高い密着性を有するめっき膜の製造技術を提供すること。
【解決手段】（ａ）金型(4)の凹部(2)内に、触媒液を付着させることによって触媒層(10)を形成すること、（ｂ）金型の一面側に樹脂を鋳込むことにより、凹部に対応した凸部を一面側に有するスタンプ(12)を形成すること、（ｃ）金型からスタンプを取り外し、触媒層を凸部に転写すること、（ｄ）スタンプの一面側を、基板(16)上に配置された半硬化状態の樹脂(14)に押し当てることにより、凸部に対応した形状を半硬化状態の樹脂に転写するとともに触媒層を半硬化状態の樹脂に転写すること、（ｅ）半硬化状態の樹脂を硬化させること、（ｆ）基板上の樹脂に転写された触媒層上にめっき膜を形成すること、を含むめっき膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 ラインエッジラフネスに優れ、より経済的な電子部品等の微細構造物を高い精度で安定して形成することができるナノインプリント用光硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 ナノインプリント用光硬化性樹脂組成物にナノインプリント加工を施して微細構造物を得る微細構造物の製造方法が、（１）カチオン重合性化合物及び／又はラジカル重合性化合物を含む硬化性化合物を含有するナノインプリント用光硬化性樹脂組成物からなる被膜が、支持体上に形成され、かつナノスタンパを用いた５〜１００ＭＰａの圧力のプレスによりパターンを転写される工程、及び（２）パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程を含む。 （もっと読む）

【課題】表皮材の表面に形成されている凹凸模様の消滅を防ぎつつ、立体的な形状を有する本革表皮材を成形によって形成する。
【解決手段】本発明は、表皮材２の表面にシボ模様が形成されている本革表皮材１の成形方法であって、表皮材２の裏面に液状のアクリル樹脂４０を塗布する塗布工程と、アクリル樹脂４０が塗布された表皮材２から表皮材２に含まれている水分を除去させる表皮材水分除去工程と、アクリル樹脂４０が塗布された表皮材２をアクリル樹脂４０の軟化温度以上の温度に加熱したプレス機７０に載置し、熱プレスにより表皮材２を立体的な形状に賦形する熱プレス工程と、熱プレス後、プレス機７０による賦形状態を維持して表皮材２を冷却し、プレス機７０から表皮材２を脱型する脱型工程とからなるところに特徴を有する。 （もっと読む）

本発明は剥離ウェブおよびフローリング材、壁紙型押しラミネートのような最終製品の双方を含んだ様々な型押し、素材を形成するための工程および設備を特徴としている。ここに記載された工程は、硬化可能な材料が適用されるのではなく、型押し媒体を通過して放射線硬化することを可能にしている。
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【課題】微粒子分散液をモールドのパターン形成面に均一に塗布することができ、被転写基板に精度よくパターン転写をすることが可能となるパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸パターンを有するモールドを準備する工程と、
前記モールドに、微粒子分散液を塗布する工程と、
前記微粒子分散液を乾燥させる工程と、
前記微粒子分散液を塗布乾燥させたモールドのパターンを被転写基板に転写する工程と、を有するパターン形成方法であって、
前記微粒子分散液の微粒子の平均直径をＤ（ｎｍ）、該微粒子の直径の標準偏差をσ（ｎｍ）とし、前記モールドの凹部深さをｈとするとき、
前記モールドとして、モールドの凸部幅および凹部幅が１０μｍ以下で、前記凹部深さｈが以下の式（１）及び式（２）を満たすモールドを用いる。
（Ｄ＋２σ）≦ｈ≦１．０μｍ…………（１）
１ｎｍ≦Ｄ≦１００ｎｍ…………（２） （もっと読む）

【課題】削り加工を施すことによって樹脂板の表面に凹凸形状部を形成する製造方法であって、削り加工により形成した凹凸形状を変形させることなく、凹凸形状部の削り加工面を十分に平滑化することのできる製造方法を提供する。
【解決手段】この発明に係る表面に凹凸形状部を有する樹脂板１０の製造方法は、樹脂板の表面に削り加工を施すことによって樹脂板の表面に凹凸形状部２を形成する工程と、樹脂板における前記凹凸形状部２が形成された表面２ａに、溶媒１００質量部に対して樹脂を０．５〜３質量部含有してなる処理液をドリップコーティング法により塗布した後、乾燥させる工程と、を包含することを特徴とする。 （もっと読む）

開示されているのは、転写パターン材料をフィルムベース材料に形成して、転写フィルムを作製する工程と、転写パターン材料が基板と接触するように、転写パターンが形成される基板に転写フィルムを張り付ける工程と、フィルムベース材料を転写パターン材料から分離する工程と、ペーストを転写パターン凹部に適用する工程と、ペーストを固化する工程と、転写パターン材料を除去する工程とを含むペーストパターン形成方法である。
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【課題】レリーフ材料を用いて三次元レリーフを作成するに当たり、レリーフ材料の取り付け取り外しの作業を軽減し、高精度の三次元レリーフを作成すること。
【解決手段】基台１１と、基台１１によって支持されており、レリーフ材料ＲＺをその上に載置するための材料載置台１２と、材料載置台１２に載置されたレリーフ材料の表面上をスキャン可能に配置された彫刻装置ＴＳと、材料載置台１２に載置されたレリーフ材料の表面上をスキャン可能に配置された印刷装置ＰＳとを有し、材料載置台１２の上に載置されたレリーフ材料ＲＺに対して、彫刻装置ＴＳによる彫刻と印刷装置ＰＳによる印刷とを、当該レリーフ材料ＲＺを取り外すことなく行えるように構成される。 （もっと読む）

【課題】インプリント法を用いた印刷回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（ａ）所望の配線パターンに対応するエンボスパターンが形成されたモールドを準備する工程と、（ｂ）前記モールドのエンボスパターン形成面に重合用酸化剤を付着する工程と、（ｃ）前記モールドを樹脂層に押圧する工程と、（ｄ）前記樹脂層から前記モールドを分離して、前記樹脂層に前記重合用酸化剤が付着したパターンを形成する工程と、（ｅ）前記樹脂層に形成されたパターンの内部に、選択的に導電性高分子のモノマーを充填して重合させることにより、導電性高分子の配線を形成する工程と、を含む印刷回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】大画面のフィルムまたは支持体に、微細凹凸形状を生産性よく、かつ均一に製造する製造方法を提供する。
【解決手段】液状組成物を、凹凸を設けたモールドに塗布する工程、液状組成物が乾燥する前にフィルムを貼合させる工程、液状組成物が乾燥固化した状態で該フィルムをモールドから離型する工程、からなる凹凸形状を有するフィルムの製造方法において、該フィルムの貼合から離型までの時間が１分未満である凹凸形状を有するフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】しわ及びカールのない状態のエンボス加工された印画物を得ることのできるエンボス加工装置を提供する。
【解決手段】凹凸１７が形成された表面を有し且つ加熱手段１９を有するエンボスローラ１５と、前記エンボスローラ１５と対向して配置された対向ローラ１６とを備え、前記加熱手段１９により加熱された前記エンボスローラ１５と前記対向ローラ１６との間にシート状の印画物２を挟み込んで前記印画物２に凹凸を付与するエンボス加工装置１において、前記エンボスローラ１５と前記対向ローラ１６との間の前記印画物２に凹凸を付与する部分の、前記印画物２の送出方向に対する下流側に、前記印画物２の送出方向に沿って延び且つ前記印画物２を略平坦な状態で挿通可能な間隙部２８が設けられたカール防止ガイド２５を備える。 （もっと読む）

配向加飾異方性粒子を有する高分子材料または重合性材料に変形を施して加飾粒子を再配向させる。その結果として得られるのは審美的パターン化外観である。
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