【課題】窒化ケイ素と比較して安価なケイ素を主原料として用いて、ケイ素の窒化過程を利用して作製した反応焼結窒化ケイ素基複合材料を提供する。
【解決手段】ケイ素を含む原料を用い、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結の行程を経た後、緻密化された窒化ケイ素基複合材料であって、Ｚｒの酸化物及び／又は窒化物が分散した状態で含まれている、かつ、粒界相が少なくともＡｌとＳｉを含む酸化物又は酸窒化物の非晶質相である、ことを特徴とする窒化ケイ素基複合材料、その製造方法、及び出発原料として、ケイ素を含む原料を用い、酸化ジルコニウム及び焼結助剤を所定の配合によって混合、成形し、窒素中においてケイ素を窒化せしめる反応焼結を行った後、昇温し、緻密化させることを特徴とするβサイアロン基セラミックスを含む窒化ケイ素基複合材料の製造方法。
【効果】低コストで信頼性に優れた窒化ケイ素基複合材料を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 焼き上がり寸法精度が高く、焼き放し面での高い抗折強度を有する窒化珪素質セラミック製バルブを提供する。
【解決手段】 傘部１２と、該傘部１２の中央に一体的に形成された柱状のステム部１３とが、窒化珪素が８０〜９２．５重量％、希土類元素が酸化物換算で２〜１０重量％、アルミニウムが酸化アルミニウム換算で２〜５重量％、過剰酸素が酸化珪素換算で０．５〜５重量％の範囲で含有されており、かつ前記希土類元素の酸化物換算量に対するアルミニウムの酸化アルミニウム換算量の比及び前記希土類元素の酸化物換算量に対する過剰酸素の酸化珪素換算量の比が０．５〜０．８である窒化珪素質セラミックスからなり、前記ステム部１３の同軸度が０．１５ｍｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】摺動開始時に瞬間的に高温の摩擦熱が発生して、熱衝撃を受けやすい過酷な使用状況下で用いられる摺動部材に適用するには、耐熱衝撃性が不足する。
【解決手段】炭化珪素を主成分とする主相と、硼素、珪素および炭素を含有する副相とからなる炭化珪素質焼結体からなる摺動面を有し、前記副相は複数の主相間に点在する粒状の相である摺動部材とする。 （もっと読む）

【課題】
鋼の浸炭材，焼入れ材など高硬度鋼の高速切削、断続切削に最適なｃＢＮ基超高圧焼結体およびその製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】
ｃＢＮ：３０〜８０体積％と、残りが周期律表４ａ，５ａ，６ａ族元素の炭化物，窒化物，ホウ化物，酸化物、Ａｌの窒化物，酸化物、Ｓｉの炭化物，窒化物およびこれらの相互固溶体の中の少なくとも１種からなる結合相と不可避不純物とでなるｃＢＮ基超高圧焼結体において、結合相は少なくとも（１）Ｖ，Ｎｂ，Ｔａの中の少なくとも１種とＴｉとからなる複合窒化物および複合炭窒化物の中の少なくとも１種の複合化合物と、（２）Ｖ，Ｎｂ，Ｔａの中の少なくとも１種の斜方晶ホウ化物と、（３）ＡｌＮと、（４）Ａｌ₂Ｏ₃とを含有するｃＢＮ基超高圧焼結体。 （もっと読む）

【課題】研磨による平坦性に優れた窒化アルミニウム焼結体を提供する。
【解決手段】粒界強度を向上させると共に、且つ、焼結処理中に窒化アルミニウムと固溶することにより粒界相として存在しなくなるＳｉＯ_２又はＭｇＯを窒化アルミニウム粉末に微量添加し、１６００［℃］以上１７５０［℃］以下の低温で窒化アルミニウム粉末を焼結することにより、研磨による平坦性に優れた窒化アルミニウム焼結体を製造できることを知見した。 （もっと読む）

本発明は、内容積を規定する底面および側壁を有する基体を含んでなる、溶融シリコンを処理するための坩堝に関する。本発明によると、基体は、少なくとも６５重量％の炭化ケイ素、酸化ケイ素または窒化ケイ素から選択される１２から３０重量％の成分を含んでなる。さらに、基体は、従来技術の坩堝とは反対に、少なくとも１つの酸化ケイ素および／または窒化ケイ素被膜を、少なくとも坩堝の内容積を規定する表面上に含み、そのような坩堝は、その物理的完全性の明らかな劣化なしに数回使用することができる。 （もっと読む）

【課題】実用上十分大きな機械的強度と小さな熱膨張係数を有し、研削抵抗が小さな窒化珪素質焼結体を提供する。
【解決手段】
本発明の窒化硅素質焼結体は、β−Ｓｉ_３Ｎ_４を主成分とし、Ｓｉ_２Ｎ_２Ｏ（酸窒化珪素）を５体積％以上、３０体積％以下、およびβ−ＲＥ_２Ｓｉ_２Ｏ_７（ＲＥは周期律表第３族元素）を１体積％以上、１０体積％でそれぞれ含有することで、β−Ｓｉ_３Ｎ_４を主成分として十分大きな機械的強度を保持したまま、Ｓｉ_２Ｎ_２Ｏを５体積％以上、３０体積％以下の範囲で含有させることで研削抵抗を小さくすることができ、β−ＲＥ_２Ｓｉ_２Ｏ_７を１体積％以上、１０体積％以下の範囲で含有することで粒界相の熱膨張係数を小さくすることができ、焼結体中の残留応力が小さくできるため、研削加工を円滑に行うことができるとともに、研削抵抗が小さいため寸法精度の高い加工を行うことできる加工性の優れた焼結体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の非酸化性雰囲気であっても強度の著しい劣化や破損を防止することができるとともに、実使用できる寿命を大幅に向上させることができる非酸化性雰囲気用窯道具を提供する。
【解決手段】主成分としてＳｉＣとＳｉ₃Ｎ₄及び／又はＳｉ₂Ｎ₂Ｏを含んで構成され、酸窒化珪素と酸化珪素以外の無機酸化物を０．１２〜３．０質量％含有する非酸化性雰囲気用窯道具である。 （もっと読む）

第一の光を放射するための光源と、580から1000ｎｍの波長範囲において光に対する10％から80％の透過率を有するCaAlSiN光変換材料を含んだ、第一の光の少なくとも一部を第二の光に変換するための光変換層を有する発光デバイス。 （もっと読む）

【課題】再結晶ＳｉＣセラミックスの抵抗率を大きくし、電気絶縁体的な性質を付与するとともに、熱伝導率を大幅に向上することができ、再結晶ＳｉＣの長所である強度、耐食性をそのまま維持することができる再結晶ＳｉＣ焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】０．０１〜２ｗｔ％のＳｉＯ₂と９９．９９〜９８ｗｔ％のＳｉＣから実質的になる再結晶ＳｉＣ焼結体であって、その抵抗率が５００〜５００００Ω・ｃｍに制御されているものである。炉の有効体積（加熱域）の０．０１〜１０倍の不活性ガスを毎分流しながら、０．０１〜２ａｔｍの圧力下で、２Ｈｒ以上かけて２０００℃まで昇温し、その後０．５〜２ａｔｍの圧力下で、２０００〜２５００℃の温度に昇温する。 （もっと読む）

【課題】従来の六方晶窒化ホウ素焼成体の製造方法の問題点を解決し、ホットプレス等の
加圧装置を用いず、かつ非酸化性雰囲気とすることなく、大気中で常圧でｈＢＮを焼成す
る方法とその焼成体を提供すること。
【解決手段】本発明は、六方晶窒化ホウ素と、焼成温度において液相を形成し六方晶窒化
ホウ素と濡れる性質を有する焼成用助剤とを混合し、大気中、無加圧で焼成することを特
徴とする窒化ホウ素焼成体の製造方法と、このようにして得られた六方晶窒化ホウ素とガ
ラス質物質からなる窒化ホウ素焼成体である。焼成用助剤としては、曹長石、ＮａＡｌＳ
ｉ₃Ｏ₈、カリ長石、ＫＡｌＳｉ₃Ｏ₈などのアルミノケイ酸塩が好ましい。 （もっと読む）

【課題】窒化けい素焼結体本来の特性である高強度、耐摩耗性、耐熱性等を損なうことなく、さらに酸やアルカリ等の化学薬品に対しても優れた耐薬品性（耐腐食性）を示す窒化けい素焼結体の製造方法、それを用いた耐薬品性部材の製造方法および軸受部材の製造方法を提供する。
【解決手段】ＭｇＯ・Ａｌ_２Ｏ_３スピネル構造体を０．５〜６重量％、炭化けい素を０．１〜２０重量％、酸化けい素を１重量％以下、酸化アルミニウムを０．５〜３重量％含み、残部が実質的に窒化けい素から成るセラミックス混合体を調製し、得られたセラミックス混合体を成形後、焼成することを特徴とする窒化けい素焼結体の製造方法である。得られる窒化けい素焼結体は、耐薬品性部材や軸受部材１，２，３として使用される。 （もっと読む）

有機元素プレカーサーポリマーの熱分解によりプレカーサーセラミックを製造する方法が提案されている。この場合、炭素ナノチューブがプレカーサーセラミックと結合され、かつ有機元素プレカーサーポリマーの分解の際に生成される遊離炭素の量を調節して、プレカーサーセラミック中で化学量論的炭素含有量又は化学量論から大きく異なる炭素含有量が存在するように前記結合を実施する。 （もっと読む）

【課題】現在、主に使用されている高強度セラミックス材料（例えば、アルミナ、Ｓｉ含浸型ＳｉＣや再結晶型ＳｉＣ質耐火物）と遜色無い強度を有するとともに、量産性の向上と大型品の製造を容易にし、複雑形状の製品も容易に作製することができるだけでなく、製造コストを大幅に軽減することができる酸化物結合炭化珪素質材料を提供する。
【解決手段】炭化珪素から実質的に構成され、炭化珪素の結晶粒子とその粒界部及び気孔とを有し、且つ炭化珪素の結晶粒子を、二酸化珪素を主成分とする酸化物で結合した構造を有する酸化物結合炭化珪素質材料である。常温及び高温時における曲げ強度が１００ＭＰａ以上であり、且つ嵩比重が２．６５以上である。 （もっと読む）

【課題】発光効率に優れた発光素子などの半導体素子製造用基板として使用され、窒化ガリウム、窒化インジウム、窒化アルミニウムを主成分とする単結晶薄膜基板を提供する。
【解決手段】セラミック材料を主成分とする焼結体、特に光透過性の焼結体を用いることにより、窒化ガリウム、窒化インジウム、窒化アルミニウムのうちから選ばれた少なくとも１種以上を主成分とする結晶性の高い単結晶薄膜が形成される。該単結晶薄膜と焼結体との接合体を用いて、電子素子および電子部品を製造する。 （もっと読む）

【課題】酸化処理後の拡散可能時間を更に延長させたホウ素拡散材を提供するる。
【解決手段】本発明は、Ａｌ２Ｏ３成分とＳiＯ２成分とＢＮ成分とを含み、Ａｌ２Ｏ３成分とＳiＯ２成分の合計含有率が２０〜８０質量％、ＢＮ成分の含有率が２０〜８０質量％であり、しかもＡｌ２Ｏ３／ＳiＯ２のモル比が1.０〜２．４、開気孔率が１３〜４３％のセラミックス焼結体で構成されてなることを特徴とするホウ素拡散材である。また、本発明は、Ａｌ２Ｏ３／ＳiＯ２のモル比が２.４〜1.０である、Ａｌ２Ｏ３成分とＳiＯ２成分とを含む混合物及び／又は化合物を２０〜８０質量％と、窒化ホウ素を２０質量％〜８０質量％とを含む混合粉末をＣＩＰ成型した後、非酸化雰囲気で焼結することを特徴とする上記ホウ素拡散材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 緻密かつ高剛性・高熱伝導率の窒化ケイ素焼結体とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 窒化ケイ素80〜99質量%と、粒界相がIVa族元素の窒化物のうち少なくとも1種の窒化物0.1〜5質量%、残部がMg、SiおよびIVa族元素の少なくとも1種を含む酸化物もしくは酸窒化物からなり、かつIVa族元素とMgのモル比が酸化物換算で1:1〜1:10の範囲内であり、密度が3.1g/cm³以上、ヤング率が300GPa以上かつ熱伝導率が50W/mK以上であることを特徴とする窒化ケイ素材料。 （もっと読む）

【課題】
鉄系材料、特に焼き入れ処理された高硬度鋼からなる加工物の切削加工において、加工物の仕上げ面粗さが小さい切削工具を提供することを目的とする。
【解決手段】
ｃＢＮを２０〜１００体積％含有するｃＢＮ基焼結体基材の表面に、Ｔｉを含有する炭化物、窒化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも１種からなるチタン化合物膜が被覆され、チタン化合物膜の平均膜厚は０．１〜１０μｍであり、チタン化合物膜の平均粒径は０．５μｍ以下である被覆ｃＢＮ基焼結体切削工具は、加工物の仕上げ面粗さが小さい。 （もっと読む）

【課題】溶融金属による浸食を軽減することにより長寿命化を達成することができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体（ボート）を提供する。また、溶融金属のスプラッシュを低減させることができるセラミックス焼結体及びこのセラミックス焼結体で構成された金属蒸着発熱体（ボート）を提供する。
【解決手段】二硼化チタン（ＴｉＢ_２）及び／又は二硼化ジルコニウム（ＺｒＢ_２）と、窒化硼素（ＢＮ）と、必要に応じて窒化アルミニウム（ＡｌＮ）とを含有してなるセラミックス焼結体であって、これらの成分から選ばれた少なくとも一種の成分の濃度が、厚み方向において、有位に異なっている部分があることを特徴とするセラミックス焼結体。このセラミックス焼結体からなる金属蒸着発熱体（ボート）。 （もっと読む）

【課題】より低誘電率を有する絶縁層を形成可能にする絶縁ペーストを提供する。
【解決手段】窒化窒化硼素化合物、ガラス粉末および有機ビヒクルを含むことを特徴とする絶縁ペーストとする。窒化硼素化合物は黒鉛化指数3.5以下の窒化硼素であることが好ましく、ガラス粉末の非誘電率が7以下であることが好ましい。 （もっと読む）