【課題】炉材を消耗させることなく体積抵抗率が低い炭化珪素焼結体を製造する。
【解決手段】粉砕粉を窒素雰囲気下で焼成することにより焼成粉を生成し、焼成粉を粉砕することにより再粉砕粉を生成し、再粉砕粉を焼結させることにより炭化珪素焼結体を生成する。 （もっと読む）

【課題】イオンミリング加工法や反応性イオンエッチング法によって得られる流路面に出現する直径１００ｎｍ〜５００ｎｍの微小な気孔は相対的に大きい上、流路面の表面粗さがばらつきやすく、フェムトスライダー、アトスライダー等の小型化されたスライダーを用いた磁気ヘッドに適用することが部分的に難しい磁気ヘッド用基板であった。
【解決手段】アルミナを３５質量％以上７０質量％以下、ＴｉＣを３０質量％以上６５質量％以下の範囲である焼結体から成る磁気ヘッド用基板１であって、該磁気ヘッド用基板１の両主面部３および厚み方向の中央部２における密度の差が０．００４ｇ／ｃｍ^３以下である。 （もっと読む）

【課題】 フェムトスライダー、アトスライダー等の小型化されたスライダーに好適に用いる磁気ヘッド用基板において、結晶組織の均一化が十分ではないため、イオンミリング加工法や反応性イオンエッチング法によって得られる流路面には直径１００ｎｍ〜５００ｎｍの微小な気孔が生じやすい。
【解決手段】 Ａｌ_２Ｏ_３を３５質量％以上、７０質量％以下、ＴｉＣを３０質量％以上、６５質量％以下の範囲である焼結体から成る磁気ヘッド用基板１であって、磁気ヘッド用基板１の両主面部３および厚み方向の中央部２におけるＴｉＣの格子定数の差が１×１０^−４ｎｍ以下である。これにより、磁気ヘッド用基板を短冊状に切断し、切断面を研磨して鏡面とした後に、イオンミリング加工法や反応性イオンエッチング法によって鏡面の一部を除去して得られる流路面の表面粗さのばらつきを小さくすることができる。 （もっと読む）

本発明は、セラミック粉末、そのセラミック粉末を焼結したセラミック、サ−メット（ｃｅｒｍｅｔ）粉末、そのサ−メット粉末を焼結したサ−メット、及びそれらの製造方法に関するものである。本発明は、周期表第ＩＶａ、Ｖａ、及びＶＩａ族金属からＴｉを含んで選択される二つ以上の金属の炭化物、炭窒化物、またはこれらの混合物でなる完全固溶相の固溶体粉末を少なくとも含むことを特徴とする混合粉末と、これを焼結した焼結体を開示する。また、周期表第ＩＶａ、Ｖａ、及びＶＩａ族金属からＴｉを含んで選択される二つ以上の金属の炭化物、炭窒化物、またはこれらの混合物と、Ｎｉ、Ｃｏ及びＦｅで構成される群から選択される一つ以上の金属を含んでなる完全固溶相のサ−メット粉末と、を少なくとも含むことを特徴とする混合サ−メット粉末と、これを焼結したサ−メットも開示する。また、このような焼結体及びサ−メットの製造方法も併せて開示する。本発明によると、ＴｉＣ系またはＴｉ（Ｃ、Ｎ）系セラミック及びサ−メットの微細構造において、完全固溶相を主な粒子として用いることにより、材料の靭性を顕著に向上させて微細構造を制御することができる。
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【課題】従来の高純度ｃＢＮ焼結体の合成技術ではなし得なかった、構成粒子径が０．１μｍ以下の微細な構造を有し、かつｃＢＮ含有量が１００％の透光性を有する高純度超微粒子ｃＢＮ焼結体を提供する。
【解決手段】六方晶窒化ホウ素を原料として、立方晶窒化ホウ素が熱力学的に安定な９．５万気圧、１７００℃以上１９００℃以下の圧力、温度条件で、立方晶への高圧相転移を伴いながら助剤無添加で焼結することにより、ｃＢＮ含有量が１００％で、かつ、焼結体の平均粒子径が０．１μｍ以下で、透光性を有する焼結体を得る事が出来る。 （もっと読む）

【課題】体積抵抗のバラツキが少なく、安定した導電性を有する炭化ケイ素焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】炭化ケイ素粉末及び非金属系焼結助剤を含む混合粉体を高温高圧下で焼結する炭化ケイ素焼結体の製造方法において、
炭化ケイ素粉末は、ケイ素源、加熱により炭素を発生する炭素源、窒素源含有化合物、重合又は架橋触媒、を含み、炭素源１００重量部に対して窒素源含有化合物を１．５〜６重量部含む混合物を硬化乾燥して固形物を得る工程と、固形物を非酸化性雰囲気下で加熱炭化して仮焼成粉末を得る工程と、仮焼成粉体をさらに非酸化雰囲気下にて焼成して炭化ケイ素粉末を得る工程と、により得られたものであることを特徴とする炭化ケイ素焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＯ_２膜に替わる特性を備えた高誘電体ゲート絶縁膜として使用することが可能であるＺｒＯ_２・ＳｉＯ_２又はＨｆＯ_２・ＳｉＯ_２膜の形成に好適な、耐脆化性に富むシリサイドターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】 水素化金属（Ｍ）粉とＳｉ粉を１：０．８〜１：１．２のモル比に調製・混合した後、焼成し、焼成の際の加熱により、脱水素とシリサイド化を一度に行い、得られたシリサイド粉を粉砕し、これを焼結して、遊離Ｓｉが存在せず、相対密度が９９％以上であるＭＳｉ_{０．８−１．２}（Ｍ：Ｚｒ、Ｈｆ）からなる焼結体を製造する。耐脆化性に優れたゲート酸化膜形成用シリサイドターゲットが得られる。 （もっと読む）

【課題】高純度で高耐久性のヒータ用炭化ケイ素焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒素含有量が０．１体積％以上のβ型炭化ケイ素粉体を焼結して得られるヒータ用炭化ケイ素焼結体であって、ヒータ用炭化ケイ素焼結体を構成する粒子間の結合部の直径は１００μｍ以上であり、ヒータ用炭化ケイ素焼結体を１０００℃で１０００時間加熱した後の前記ヒータ用炭化ケイ素焼結体の抵抗増加率は１５％以下であり、ヒータ用炭化ケイ素焼結体はα型炭化ケイ素からなるヒータ用炭化ケイ素焼結体。 （もっと読む）

【課題】
鋼の浸炭材，焼入れ材など高硬度鋼の高速切削、断続切削に最適なｃＢＮ基超高圧焼結体およびその製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】
ｃＢＮ：３０〜８０体積％と、残りが周期律表４ａ，５ａ，６ａ族元素の炭化物，窒化物，ホウ化物，酸化物、Ａｌの窒化物，酸化物、Ｓｉの炭化物，窒化物およびこれらの相互固溶体の中の少なくとも１種からなる結合相と不可避不純物とでなるｃＢＮ基超高圧焼結体において、結合相は少なくとも（１）Ｖ，Ｎｂ，Ｔａの中の少なくとも１種とＴｉとからなる複合窒化物および複合炭窒化物の中の少なくとも１種の複合化合物と、（２）Ｖ，Ｎｂ，Ｔａの中の少なくとも１種の斜方晶ホウ化物と、（３）ＡｌＮと、（４）Ａｌ₂Ｏ₃とを含有するｃＢＮ基超高圧焼結体。 （もっと読む）

【課題】排気ガス浄化用フィルター及びその製造方法を提供する。
【解決手段】排気ガス浄化用フィルターにおいて、フィルター基材が、遷移金属元素（Ｔｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｏ）の中の一つ、３族又は４族元素（Ａｌ、Ｓｉ、Ｓｎ）の中の一つ、及び炭素又は窒素の３元素からなる３元系化合物で構成されていることを特徴とする排気ガス浄化用フィルター、及びその製造方法。
【効果】ディーゼル及びガソリンエンジン排気ガス浄化用フィルターに求められる高融点、高温で分解しない安定性、高温強度、高温耐酸化性、耐熱衝撃性、高比表面積、低圧損、狭い細孔径分布、高熱伝導性、良好な触媒濡れ性、制振性などを兼ね備えた新しい材料系の排気ガス浄化用フィルターを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】
資源的に最も豊富でありかつ極めて優れた特性を有するものの、製造コストが高価に過ぎる為に活用されていないケイ素系ファインセラミックス、βサイアロンの製造コストが低減されて、広範な社会基盤材料としての活用が嘱望されている。
【解決手段】
燃焼合成により合成したβサイアロンを平均粒径５００ｎｍ以下、最大粒径５μｍ以下に粉砕分級後、ゴム型を用いた成型、マイクロウエーブ焼結を介して製品化する事により、製造コストが低減できると共に、従来材以上に優れた機能が確保できた。これによりβサイアロンが社会基盤材料として活用できる。 （もっと読む）

【課題】 １６００℃以下の温度下でも焼結体になるような窒化アルミニウム粉末を製造し、密度および熱伝導性が高く、基板材料として好適に使用できる窒化アルミニウム焼結体を得る。
【解決手段】 気相反応装置１を用い、加熱帯２により３００〜６００℃に加熱保持した反応器３に流量調節計４での調節下に供給管６からアンモニアガスを導入し、同時に流量調節計５での調節下に供給管７から有機アルミニウム化合物を含む窒素ガスを導入して窒化アルミニウム凝集粉末Ａを得、これを還元性ガス雰囲気および／または不活性ガス雰囲気下に８００〜１１００℃で熱処理して窒化アルミニウム凝集粉末Ｂを得、これを機械的処理し、一次粒子径が０．０６μｍ以下であり、かつ凝集度が１０以下であり、陽イオン不純物濃度が３００ｐｐｍ以下であり、１６００℃以下での焼結が可能な窒化アルミニウム粉末を得る。 （もっと読む）

【課題】希土類多ホウ化物において、耐酸化性があり高温で優れた熱電特性を発現する多ホウ化物からなる熱電材料を提供する。
【解決手段】一般式：ＲＥＢ_26+XＣ_4+YＮ_1+Zで表される、菱面体または三方晶に属する結晶構造を有する多ホウ化物に、ＲＥＢ_Sで表される低ホウ化物を添加し、加熱し、前記結
晶中に低ホウ化物を均一に分散、ドープさせることによって、一般式：ＲＥＢ_26+XＣ_4+Y
Ｎ_1+Z・ｔ（ＲＥＢ_S）で表される低ホウ化物（ＲＥＢ_S）がドープされた菱面体または三
方晶に属する結晶構造を有する希土類多ホウ化物からなる熱電変換材料を提供する。ただし、式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ｔはそれぞれ、−１０＜Ｘ＜１０、−３＜Ｙ＜３、−１＜Ｚ＜１、０＜ｔ＜０．１５、を満たしてなる数値、また、Ｓは、２、４、６、１２からなる整数、ＲＥは、Ｓｃ、Ｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｌｕから選ばれるいずれか１種の希土類金属元素である。 （もっと読む）

【課題】従来よりも短時間にかつ低コストでＡｌ添加ＴｉＮのバルク体を製造する方法を提供する。
【解決手段】所定量の金属Ｔｉ粉末および所定量の金属Ａｌ粉末を混合した後、プレス成形して第１の成形体とする。第１の成形体を所定圧のＮ_２雰囲気中で自己燃焼合成させ、それによって得られた試料を粉砕して第１の粉体とする。第１の粉体をプレス成形して第２の成形体とする。第２の成形体を所定圧のＮ_２雰囲気中で自己燃焼合成させ、それによって得られた試料を粉砕して第２の粉体とする。第２の粉体をプレス成形して第３の成形体とする。第３の成形体を加圧焼結させることにより、Ａｌ添加ＴｉＮのバルク体を得る。 （もっと読む）

【課題】反りが小さく、色ムラやシミの少ない半導体用ホウ素ドープ材の製造が可能となる窒化ホウ素焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】比表面積５〜１５ｍ２／ｇ、酸素量１質量％以下の窒化ホウ素粉末４８〜８９質量％と、比表面積２５〜６０ｍ２／ｇ、酸素量２質量％以下の窒化ホウ素粉末１０〜４８質量％と、ホウ酸カルシウム粉末１〜４質量％とを含む混合粉をホットプレス焼結することを特徴とする窒化ホウ素焼結体の製造方法。本発明においては、窒化ホウ素焼結体が、窒化ホウ素９６〜９９質量％、酸化カルシウム０．４〜２質量％、酸化ホウ素０．５〜３質量％を含み、密度が１．７〜２．０ｇ／ｃｍ３であることが好ましい。また、窒化ホウ素焼結体が、ＢＮウェハの製造に用いるものであることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、発光素子であって、特に、550nm以上1000nm以下の波長範囲における光に関して10%以上且つ85%以下の透過性を有するSiAlON材料を含むＬＥＤである、発光素子に関する。
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【課題】高含有ＣＢＮ材料、同材を組み込んだ圧縮物、および同材を製造する方法および支持体上にＣＢＮ含有材料を結合した切削工具を提供する。
【解決手段】ＣＢＮ粒子とＷ_２Ｃｏ_２１Ｂ_６を含む相とを含み、さらにＣＢＮ含有相、ＴｉＣｘＮｙ含有相、ＷＣ含有相、ＷＣｏＢ含有相およびＡｌ含有相から選択された１以上の相を含む材料。ＴｉＣｘＮｙ（ｘ＋ｙ＝１）とＡｌを混合し、真空中で約９００℃で加熱してＡｌの一部を反応させ、粉砕してバインダー材料を形成する。６５〜９８％のＣＢＮと残部該バインダー材料とを混合した混合物を形成し、該混合物を支持体に結合した状態で、真空中１２００〜１３００℃の範囲で焼結する。 （もっと読む）

【課題】紫外ＬＥＤや青色ＬＥＤを光源とする白色ＬＥＤに好適な蛍光体のα型サイアロン粉末を再現性良く、安定して、多量に製造する方法を提供する
【解決手段】（Ｍ１）_Ｘ（Ｍ２）_Ｙ（Ｓｉ、Ａｌ）_１２（Ｏ、Ｎ）_１６（Ｍ１はＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｙ及びランタニド金属（ＬａとＣｅを除く）からなる群から選ばれる１種以上の元素で、Ｍ２はＣｅ、Ｐｒ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｙｂ及びＥｒからなる群から選ばれる１種以上の元素で、０．３＜Ｘ＋Ｙ＜１．５、かつ０＜Ｙ＜０．７）で示され、金属シリコンと、窒化アルミニウムと、Ｍ１含有化合物と、Ｍ２含有化合物と、必要に応じて、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、及びα型サイアロンからなる群から選ばれる１種以上と、からなる混合粉末を窒化性雰囲気中１３００〜１５５０℃で加熱処理後、非反応性又は窒化性雰囲気中１６００〜１９００℃で加熱処理し、粉砕することを特徴とするα型サイアロン粉末の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
耐溶着性と強度・靱性に優れるために、金属加工における仕上げ面精度や寿命の向上を達成できるクロム含有焼結体の提供を目的とする。
【解決手段】
Ｚｒ，Ｈｆ，Ｚｒ−Ｈｆの酸化物の中の少なくとも１種からなる第１分散相：１〜２０体積％と、Ｚｒ，Ｈｆ，Ｚｒ−Ｈｆの炭化物，窒化物，炭窒化物の中の少なくとも１種からなる第２分散相：１〜３０体積％と、残りが組成式：（Ｃｒ_1-xＭ_x）（Ｎ_1-yＣ_y）_z（但し、ＭはＴｉ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａの中の少なくとも１種を示し、ｘはＣｒとＭとの合計に対するＭの原子比を示し、ｙはＮとＣとの合計に対するＣの原子比を示し、ｚはＣｒとＭとの合計に対するＮとＣとの合計の原子比を示す。）で表され、ｘ，ｙ，ｚは０．３≦ｘ≦０．９，０≦ｙ≦０．３，０．７≦ｚ≦１．０を満足する複合化合物とからなるクロム含有焼結体。 （もっと読む）

１２００℃以上の高温の酸化雰囲気中で用いるための、金属と、アルミニウム（Ａｌ）と、炭素（Ｃ）または窒素（Ｎ）との合金であって、
組成がＭ_ＺＡｌ_ＹＸ_Ｗであり、Ｍは実質的にチタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）および／またはニオブ（Ｎｂ）から成り、Ｘは炭素（Ｃ）であるか、またはＭがチタン（Ｔｉ）である場合にはＸは窒素（Ｎ）および／または炭素（Ｃ）であり、かつ
Ｚ＝１．８〜２．２、Ｙ＝０．８〜１．２、Ｗ＝０．８〜１．２であり、
上記高温に加熱されたときにＡｌ_２Ｏ_３から成る保護酸化層が形成される
ことを特徴とする高温用材料。 （もっと読む）