【課題】 ディスプレイ製造プロセスにおけるガラス板の寸法変化を減少させる。
【解決手段】 プロセス中にガラス板のガラスのピーク膨張を増加させるようにガラスの組成を変更する工程を有してなる。変更工程が、ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度が少なくとも０．２５モル％だけ増加されることが好ましく、１．０モル％だけ増加させることがより好ましい。変更工程が、ガラスの水濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ディスプレイ装置を製造する製造プロセスにおいて基板として使用するためのガラス板も提供される。 （もっと読む）

【課題】短時間で結晶化し、成形したガラスの形状と表面状態を保持しつつ結晶化する結晶性ガラス、及び、機械的強度が優れ、建材用結晶化ガラスとして好適な熱膨張係数を有し、アルカリ金属酸化物の含有量が少なく優れた化学的耐久性を有する結晶化ガラス、並びに該結晶性ガラス及び結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５５．０〜６５．０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ８．０〜１４．０％、ＭｇＯ １０．０〜２０．０％、ＣａＯ １．５〜６．０ ％、Ｌｉ₂Ｏ １．０〜２．２％、Ｎａ₂Ｏ ０．７〜３．０％、Ｋ₂Ｏ ２．５〜４．０％、Ｆ １．５〜３．０％を含む組成を有することを特徴とするＭｇＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラス及び結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】 表面に透明導電膜が形成されたガラスを、容易に、必要な部分を強化することができる、ガラス基板の強化方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板上に透明導電膜を形成するステップと、前記ガラス基板上に前記透明導電膜を形成した後に、該ガラス基板に吸収される波長を有するレーザー光の走査照射により、ガラス基板表層のガラス強化所望領域を加熱して熱変性層を形成する加熱ステップと、前記熱変性層が形成されたガラス基板を冷却する冷却ステップと、を有することとした。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に表示素子を形成する目的で実施される熱処理の際にガラス基板で発生するコンパクションを低減することができ、製造されるフラットディスプレイパネルの表示品位に悪影響が及ぶことがないフラットディスプレイパネルの製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板をプレアニールする工程、および、前記ガラス基板上に表示素子を形成する目的で実施される熱処理工程と、を有するフラットディスプレイパネルの製造方法であって、前記熱処理工程での前記ガラス基板の昇温後の温度をＴ₁（℃）（但し、Ｔ₁は前記ガラス基板の歪点Ｔｓ（℃）以上徐冷点Ｔａ（℃）以下。）、該ガラス基板を該Ｔ₁（℃）に保持する時間をｔ₁（ｈ）（但し、ｔ₁ ≧ １０^{（1.518logη-20.3 -c/100）}。式中、ηは該Ｔ₁（℃）における該ガラスの粘性（ｄＰａ・ｓ）、ｃは前記熱処理工程の際にガラス基板で発生するコンパクションの目標値（許容可能な上限値）（ｐｐｍ）。）、該Ｔ₁（℃）から該ガラス基板を２００℃まで冷却する際の冷却速度をｒ₁（℃／ｍｉｎ）とし、前記プレアニール工程でのガラス基板の昇温後の温度をＴ₂（℃）、該ガラス基板を該Ｔ₂（℃）に保持する時間をｔ₂（ｈ）、該Ｔ₂（℃）から該ガラス基板を２００℃まで冷却する際の冷却速度をｒ₂（℃／ｍｉｎ）とするとき、（１）Ｔ₂＝Ｔ₁、（２）ｒ₂ ＝ｒ₁、（３）ｔ₂ ≧ｔ₁を満たすように、前記プレアニール工程を実施することを特徴とするフラットディスプレイパネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱膨張率が高いガラス素材であっても、容量が小さい場合であっても、形状が一定で、ガラス容量も一定である複数のガラス素材またはガラス素材群を、高い生産効率で歩留よく製造する方法、このガラス素材または上記ガラス素材群を構成するガラス素材を用いて、ガラス光学素子を高い生産効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】100〜300℃の平均線膨張係数αhが120×10^-7/℃ 以上である光学ガラスからなる溶融ガラスを流出パイプから順次受け型に滴下し、又は流下しつつ分離し、冷却して、複数の予備成形したガラス素球を調製し、このガラス素球を、（転移温度−80℃）〜（転移温度＋50℃）の範囲に加熱し、冷却する加熱処理を行い、加熱処理後の複数のガラス素球の表面の少なくとも一部または全部を、機械的加工により除去して精密ガラス球とする成形用ガラス素材の製造方法。上記方法により製造したガラス素材を、加熱により軟化した状態で成形型によってプレス成形する、ガラス光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 強度が向上するとともに最終ポリッシュ後の欠陥数が減少し、かつポリッシュの取り代も減少させることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、およびその磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を用いて、加熱により強度が２００％以上も向上する磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 磁気ディスク用ガラス基板の研磨工程において、ラップ加工を行い、次いで該ガラス基板を４５０〜６５０℃で１０〜６０分加熱して円環強度を向上させた後、最終ポリッシュを行い磁気ディスク用ガラス基板とする。 （もっと読む）

テンパリング温度に加熱された板ガラスの強化方法は、第一急冷ステーションにおいて板ガラスを第一伝熱係数で冷却し、第一急冷ステーションの下流の第二急冷ステーションにおいて板ガラスを第二伝熱係数で冷却する、工程を含む。第二伝熱係数は第一伝熱係数よりも大きい。本発明の多段処理では、伝熱係数が各々その前の上流の急冷ステーションよりも大きい、下流の各急冷ステーションを有する複数の急冷ステーションを使用することができる。
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