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Fターム[4G030CA08]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 構造 (2,852) | 外形、構造 (1,390) | 薄膜、シート状のもの (650)

Fターム[4G030CA08]に分類される特許

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【課題】残留分極が小さく、電圧印加時に電歪効果によりアクチュエータとしての使用に十分な変位を示す、圧電特性に優れた非鉛薄膜アクチュエータ、それを用いた液体吐出ヘッド、および、インクジェットプリンタを提供する。
【解決手段】チタン酸バリウム、および、錫酸バリウムを主成分とするBa(SnxTi1−x)O3で表される複合酸化物薄膜を用い、前記複合酸化物薄膜の主成分中の錫酸バリウム添加量xが0<x≦0.1の範囲をとること。 (もっと読む)


【課題】シートアタックや経時安定性の問題を解決することができ、かつ、脱脂工程等を行う用途に使用する場合であっても、分解残渣が極めて少ないセラミックスラリー組成物及び該セラミックスラリー組成物を用いたセラミックグリーンシートを提供する。
【解決手段】セラミック粉末、少なくともビニルアルコール単位、アセタール単位、アセラル単位で表される構造単位を有するポリビニルアセタール樹脂及び臭素を含有しないエポキシ樹脂を含有し、前記エポキシ樹脂の含有量が、前記ポリビニルアセタール樹脂100重量部に対して、2〜15重量部であるセラミックスラリー組成物。 (もっと読む)


【課題】新規なセラミックスおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミックスの製造方法は、圧粉体を水熱処理し、前記水熱処理後の圧粉体を焼結する方法である。ここで、水熱処理温度が100〜370℃の範囲内にあることが好ましい。また、焼結温度が700〜1600℃の範囲内にあることが好ましい。生成したセラミックスは、密度が70〜100%の範囲内にあり、グレインサイズが0.01〜100μmの範囲内にある。また、配向セラミックスである場合は、配高度が50〜100%の範囲内にあり、圧電定数が10〜5000pC/Nの範囲内にある。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラス粉末の粉砕時間を短縮しかつ安定させることができるガラスセラミックグリーンシートの製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明のガラスセラミックグリーンシートの製造方法は、ガラス粉末を、有機溶剤、玉石と混合して所定粒径まで粉砕してスラリーを作製し、その後このスラリーをシート成形することからなるガラスセラミックグリーンシートの製造方法であって、前記粉砕を室温より高い温度で一定に保持した状態で行うようにしたものである。 (もっと読む)


【課題】単一配向の結晶配向性が高いセラミックス薄膜を得ることができるセラミックス前駆体薄膜の製造方法および前駆体溶液を提供する。
【解決手段】本発明に係るセラミックス前駆体薄膜の製造方法は、金属アルコキシド溶液を希釈した希釈溶液に、アモルファス粉末を混合し、金属アルコキシド系化合物を含む前駆体溶液を作製する前駆体溶液作製工程と、前記前駆体溶液を用いてゲル膜を成膜するゲル膜成膜工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】グリーンシートを薄層化した場合であっても、シート特性に優れ、グリーンシートを支持体から剥離する際の剥離特性を向上させることができるグリーンシート用塗料と、該グリーンシート用塗料を用いて製造されるグリーンシートの製造方法と、該グリーンシートを用いて製造される電子部品の製造方法を提供することである。
【解決手段】セラミック粉末と、ブチラール系樹脂を主成分とするバインダ樹脂と、溶剤と、分散剤とを含むグリーンシート用塗料であって、前記溶剤が、少なくともアルコール系溶剤と、ケトン系溶剤と、芳香族系溶剤とを含む混合溶剤であり、前記混合溶剤において、前記アルコール系溶剤の添加割合が、60〜80容積%であり、前記分散剤がポリカルボン酸系分散剤であり、前記バインダ樹脂の含有量が、前記セラミック粉末100重量部に対して、8〜22重量部であることを特徴とするグリーンシート用塗料。 (もっと読む)


【課題】表示装置用酸化物半導体膜の製造に好適に用いられる酸化物焼結体であって、高い導電性と相対密度を兼ね備えており、高いキャリア移動度を有する酸化物半導体膜を成膜可能な酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と、酸化スズと、酸化インジウムの各粉末と、を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であり、前記酸化物焼結体をX線回折し、2θ=34°近傍のXRDピークの強度をA、2θ=31°近傍のXRDピークの強度をB、2θ=35°近傍のXRDピークの強度をC、2θ=26.5°近傍のXRDピークの強度をDで表したとき、下記式(1)を満足する。
70>[A/(A+B+C+D)]×100≧10 ・・・ (1) (もっと読む)


【課題】表示装置用酸化物半導体膜の製造に好適に用いられる酸化物焼結体であって、高い導電性と相対密度を兼ね備えており、高いキャリア移動度を有し、しかも、非常に優れた面内均一性をする酸化物半導体膜を成膜可能な酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と、酸化スズと、酸化インジウムの各粉末と、を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であり、前記酸化物焼結体をX線回折し、2θ=34°近傍のXRDピークの強度をA、2θ=31°近傍のXRDピークの強度をB、2θ=35°近傍のXRDピークの強度をC、2θ=26.5°近傍のXRDピークの強度をDで表したとき、下記式(1)を満足する。
[A/(A+B+C+D)]×100≧70 ・・・ (1) (もっと読む)


【課題】表示装置用酸化物半導体膜の製造に好適に用いられる酸化物焼結体およびスパッタリングターゲットであって、高い導電性と相対密度を兼ね備えており、高いキャリア移動度を有する酸化物半導体膜を成膜可能であり、特に、直流スパッタリング法で製造しても長時間安定して放電することが可能な直流放電安定性に優れた酸化物焼結体およびスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と;酸化スズと;Al、Hf、Ni、Si、Ga、In、およびTaよりなる群から選択される少なくとも1種の金属(M金属)の酸化物と、を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であって、面内方向および深さ方向の比抵抗をガウス分布で近似したとき、上記比抵抗の分散係数σが0.02以下である。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)(100−z)、ここでAがAuおよびCuの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により30≦x≦80、1≦y≦30、3≦z≦63で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、AuPt合金粉およびCuPt合金粉の少なくとも一方と、AgPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】傾斜機能基盤の積層組成物質とその形成物質の製造において、溶融金属の耐食性・熱伝導低減の傾斜材の製造方法を提供する。しかも、環境保全対策に有効な活用を特徴とする。
【解決手段】上記記載の本発明は、原料が安価で安全性と安心が得られる。傾斜機能基盤材の積層形成組成物を連続的・段階的に変化する傾斜機能の積層処理材を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 熱膨張係数が小さくかつ誘電正接の小さいムライト質焼結体とこれを絶縁層とする多層配線基板ならびにプローブカードを提供する。
【解決手段】 ムライト質焼結体がムライトを主結晶相とし、チタン酸アルミニウムマグネシウムを含有してなるものであり、また、このムライト質焼結体を多層配線基板やプローブカードの絶縁層として適用する。 (もっと読む)


【課題】クラック、断線、ショート等の発生が防止された、線幅の安定した信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、前記配線基板の製造に好適に用いることのできるセラミックス成形体を提供すること、また、前記配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコールの縮合物を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】予備スパッタ工程に要する時間を短縮化し、そのばらつきも小さくなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、酸化亜鉛を主成分とする焼結体からなり、焼結体の表面の水との接触角が80°以下である。これは、アセトン又はアルコールを用いて表面が洗浄されることによる。そして、この洗浄後、湿度が40〜80%、温度が室温から100℃以下の環境化で1時間以上静置されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】低抵抗な透明導電膜を得ることが可能で、耐異常放電性を有する焼結密度の高いZnO系焼結ターゲットを提供すること。
【解決手段】
Ga及び/又はAlを含むZnO系粉体に、Bを0.4wt%以下を添加したことを特徴とするZnO系ターゲット。Ga及び/又はAlを含むZnO粉体にB粉体を混合した後、700〜1000℃で仮焼結し、仮焼結体を粉砕後プレス成形した後、1200℃超の温度で焼結することを特徴とするZnO系焼結ターゲットの製造方法。 (もっと読む)


【課題】環境負荷が小さく且つクラックの発生が抑制された圧電セラミックス膜を形成することができる圧電セラミックス膜形成用組成物、圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】圧電セラミックス膜形成用組成物は、ビスマス及び鉄を含む金属錯体混合物と、ポリエチレングリコールと、ターピネオールと、溶媒と、を含む。ポリエチレングリコールと、沸点の高いターピネオールとを含むことにより、鉄酸ビスマス系の圧電材料からなりクラックの発生が抑制された圧電セラミックス膜を形成することができるものとなる。また、圧電特性の良好な圧電セラミックス膜を形成することができるものとなる。さらに、鉛の含有量を抑えられるため、環境への負荷を低減することができる。 (もっと読む)


【課題】焼結性を向上させることができると共に耐還元性を付与することができ、しかも比誘電率を高めることができる積層セラミックコンデンサを提供する。
【解決手段】積層セラミックコンデンサ1は、積層された複数の誘電体セラミック層2と、これらの誘電体セラミック層間に配置された内部電極3A3Bと、これらの内部電極に電気的に接続された外部電極4A4Bと、を備え、上記誘電体セラミック層は、組成式(K1−yNa)SrNb15(但し、0≦y<0.2)で表されるタングステンブロンズ型複合酸化物を主成分として含む誘電体セラミック組成物によって形成されていると共に、上記組成式中のNbの20モル%以下が副成分で置換されており、上記副成分として、Mnが含まれると共にCr、Co、Fe、Ni、Zn、Mg、Siから選択される少なくとも一種が含まれることがある。 (もっと読む)


【課題】クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に酸または塩基を含むシート状のセラミックス成形体15を用意するセラミックス成形体用意工程と、前記セラミックス成形体15の酸または塩基を含む領域に、金属粒子と有機成分とを含む導体パターン形成用インク200を液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体10を形成する導体パターン前駆体形成工程と、複数の前記セラミックス成形体15を積層して積層体17を得る積層工程と、前記積層体17を焼結して、導体パターン20およびセラミックス基板31とを有する配線基板32を得る焼成工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】いわゆるマルチ工法を用いて積層電子部品を製造する際に、シートアタック現象が発生せず、結果として得られる電子部品のショート不良率が少ない積層電子部品の製造方法と、その製造方法に用いられるグリーンシート塗料と、該グリーンシート塗料を用いた積層ユニットの製造方法を提供することである。
【解決手段】誘電体粉末と、バインダ樹脂と、2種以上の溶剤からなる混合溶剤とを含むグリーンシート塗料であって、前記混合溶剤の溶解パラメータ(δmix )が9.3〜10.3であり、前記バインダ樹脂がブチラール系樹脂であり、前記バインダ樹脂の含有量が、前記誘電体粉末100重量部に対して、10〜26重量部であることを特徴とするグリーンシート塗料。 (もっと読む)


【課題】環境負荷を低減し、高い絶縁性を有してリーク電流が抑制される液体噴射ヘッド及び液体噴射装置、並びに圧電素子を提供する。
【解決手段】ノズル開口に連通する圧力発生室と、圧電体層と該圧電体層に設けられた電極とを備えた圧電素子と、を具備し、前記圧電体層は、ビスマス及び鉄を含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、マグネシウムからなる第1ドープ元素と、マンガン、チタン、バナジウム、ニオブ及びスズからなる群から選択される少なくとも一種の第2ドープ元素とを含む。 (もっと読む)


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